JPS631118B2 - - Google Patents
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- JPS631118B2 JPS631118B2 JP55161489A JP16148980A JPS631118B2 JP S631118 B2 JPS631118 B2 JP S631118B2 JP 55161489 A JP55161489 A JP 55161489A JP 16148980 A JP16148980 A JP 16148980A JP S631118 B2 JPS631118 B2 JP S631118B2
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- Japan
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- liquid
- sewage
- downcomer
- flow chamber
- chamber
- Prior art date
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F3/00—Biological treatment of water, waste water, or sewage
- C02F3/02—Aerobic processes
- C02F3/12—Activated sludge processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/232—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles
- B01F23/2323—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles by circulating the flow in guiding constructions or conduits
- B01F23/23231—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles by circulating the flow in guiding constructions or conduits being at least partially immersed in the liquid, e.g. in a closed circuit
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/237—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media
- B01F23/2376—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media characterised by the gas being introduced
- B01F23/23761—Aerating, i.e. introducing oxygen containing gas in liquids
- B01F23/237612—Oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F3/00—Biological treatment of water, waste water, or sewage
- C02F3/02—Aerobic processes
- C02F3/12—Activated sludge processes
- C02F3/22—Activated sludge processes using circulation pipes
- C02F3/226—"Deep shaft" processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/237—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media
- B01F23/2376—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media characterised by the gas being introduced
- B01F23/23761—Aerating, i.e. introducing oxygen containing gas in liquids
- B01F23/237611—Air
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
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- Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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- Aeration Devices For Treatment Of Activated Polluted Sludge (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、微生物学的に分解しうる廃棄物を含
有する液体の処理方法に関する。
有する液体の処理方法に関する。
本明細書では、かような液体を「下水」と称す
るが、これにはあらゆる種類の微生物学的に分解
しうる家庭廃棄物および工業廃棄物、例えば通常
の家庭廃水、農場、食品工場およびそのような廃
棄物を生ずる工業からの排出流が含まれるものと
する。
るが、これにはあらゆる種類の微生物学的に分解
しうる家庭廃棄物および工業廃棄物、例えば通常
の家庭廃水、農場、食品工場およびそのような廃
棄物を生ずる工業からの排出流が含まれるものと
する。
下水処理に一般的に用いられる方法は、主とし
て巨大な懸濁固形物を除去するためのスクリーニ
ングおよび沈降のごとき第１次処理と、次いで微
生物学的方法により有機物を除去する第２次処理
とからなる。本発明は第２次処理段階に関する。
て巨大な懸濁固形物を除去するためのスクリーニ
ングおよび沈降のごとき第１次処理と、次いで微
生物学的方法により有機物を除去する第２次処理
とからなる。本発明は第２次処理段階に関する。
典型的な現在の下水処理設備の第２次処理段階
に入る下水は比較的低濃度の有機物を含む。この
下水は、活性スラツジ法、パーコレーシヨンフイ
ルター法または高速度バイオフイルター法のよう
な好気的微生物学的方法で処理され、そこで有機
物が空気および下水中に存在する微生物と緊密に
接触する。有機物の一部は微生物によつて炭酸ガ
スおよび水にエネルギーを発生しつつ分解し、他
の部分は細胞状物質に変化する。細胞状物質は活
性スラツジとなり、沈降槽中で下水の液状成分か
ら分離される。生成する活性スラツジの量（これ
は下水の初期有機物の大部分を表わす）は、温
度、PH、有機物の種類、および無機栄養分の存在
のような多くの因子によつて左右される。最近の
下水処理設備の目的は、良好な凝集性および沈降
性を有する活性スラツジを生成することにある。
に入る下水は比較的低濃度の有機物を含む。この
下水は、活性スラツジ法、パーコレーシヨンフイ
ルター法または高速度バイオフイルター法のよう
な好気的微生物学的方法で処理され、そこで有機
物が空気および下水中に存在する微生物と緊密に
接触する。有機物の一部は微生物によつて炭酸ガ
スおよび水にエネルギーを発生しつつ分解し、他
の部分は細胞状物質に変化する。細胞状物質は活
性スラツジとなり、沈降槽中で下水の液状成分か
ら分離される。生成する活性スラツジの量（これ
は下水の初期有機物の大部分を表わす）は、温
度、PH、有機物の種類、および無機栄養分の存在
のような多くの因子によつて左右される。最近の
下水処理設備の目的は、良好な凝集性および沈降
性を有する活性スラツジを生成することにある。
活性スラツジは、普通さらに嫌気的消化装置中
で微生物学的処理を受けて相対的に活性の弱い安
定化スラツジに変り、後の液体除去のための条件
を改善する。嫌気的消化処理は有機細胞状物質の
いくぶんかを主としてメタンおよび炭酸ガスから
なる気体状混合物に変化させるので、最終的に処
分するスラツジの容積も減少する。安定化スラツ
ジは、土地への噴霧により、海への投棄により、
あるいはさらに液体を除去した後の焼却もしくは
土地への投棄により処分される。
で微生物学的処理を受けて相対的に活性の弱い安
定化スラツジに変り、後の液体除去のための条件
を改善する。嫌気的消化処理は有機細胞状物質の
いくぶんかを主としてメタンおよび炭酸ガスから
なる気体状混合物に変化させるので、最終的に処
分するスラツジの容積も減少する。安定化スラツ
ジは、土地への噴霧により、海への投棄により、
あるいはさらに液体を除去した後の焼却もしくは
土地への投棄により処分される。
現在一般的に使用されている下水処理設備にお
いて、下水の気曝は、下水が通る大きな槽の下部
に空気を吹込むことにより、または表面気曝によ
り行なわれる。
いて、下水の気曝は、下水が通る大きな槽の下部
に空気を吹込むことにより、または表面気曝によ
り行なわれる。
河川、臨海河口および沿海の水を清浄にするこ
とについての要求が増し、また家庭用水および工
業用水の再利用の必要性が増すことにより、下水
処理設備に大きな期待がかけられている。また人
口密度の増大および新しい台所廃棄物処理方法の
ために、次の10年以内に家庭下水中の有機物量
（すなわち生物学的酸素要求量：BOD）が増加す
ることも予想されている。しかし下水処理設備で
現在用いられている気曝方法を用いて達成できる
酸素吸収率は極めて限定されている。現在の下水
処理設備では、気曝を行なう槽の数および／また
は面積を増大することにより負荷量の著しい増加
に対処することができるに過ぎず、従つて設備に
要する土地面積は非常に増大する。
とについての要求が増し、また家庭用水および工
業用水の再利用の必要性が増すことにより、下水
処理設備に大きな期待がかけられている。また人
口密度の増大および新しい台所廃棄物処理方法の
ために、次の10年以内に家庭下水中の有機物量
（すなわち生物学的酸素要求量：BOD）が増加す
ることも予想されている。しかし下水処理設備で
現在用いられている気曝方法を用いて達成できる
酸素吸収率は極めて限定されている。現在の下水
処理設備では、気曝を行なう槽の数および／また
は面積を増大することにより負荷量の著しい増加
に対処することができるに過ぎず、従つて設備に
要する土地面積は非常に増大する。
本発明の目的は、処理の程度を増強するととも
に、一定容量の下水処理作業に必要とされる土地
面積を減少することにある。
に、一定容量の下水処理作業に必要とされる土地
面積を減少することにある。
本発明によれば、下方に延長している一つの下
向流室と一つの上向流室とを少なくとも有してい
る循環系内を下方に流れている液体中に酸素含有
気体を供給することにより該液体に該気体を導入
し、該液体は該下向流室を下方に該上向流室を上
方に流れるように該下向流室と該上向流室の下部
は直接連通して閉ざされた領域を形成し、該下向
流室と該上向流室の上部は直接または間接的に連
通しており、該下向流室での下向流の速度は該気
体が該液体と同方向に流れそして該上向流室に入
るようにした方法において、 該方法は、該循環系における滞留時間が少なく
とも15分であるように汚泥含有液体が循環してい
る該循環系内へ連続的に下水を供給し、かつ該循
環系から液体を連続的に抜き出す活性汚泥法によ
る下水の連続処理法であつて、かつ 該下向流室の循環流中のみならず、該上向流室
の循環流中に酸素含有気体を導入して、これによ
り上向流室の該気体導入部の上方部の液体が、該
下向流室の対応する部分の液体よりも充分に大き
い比率の気泡を含有するようにして、エア・リフ
ト効果を発生せしめる。
向流室と一つの上向流室とを少なくとも有してい
る循環系内を下方に流れている液体中に酸素含有
気体を供給することにより該液体に該気体を導入
し、該液体は該下向流室を下方に該上向流室を上
方に流れるように該下向流室と該上向流室の下部
は直接連通して閉ざされた領域を形成し、該下向
流室と該上向流室の上部は直接または間接的に連
通しており、該下向流室での下向流の速度は該気
体が該液体と同方向に流れそして該上向流室に入
るようにした方法において、 該方法は、該循環系における滞留時間が少なく
とも15分であるように汚泥含有液体が循環してい
る該循環系内へ連続的に下水を供給し、かつ該循
環系から液体を連続的に抜き出す活性汚泥法によ
る下水の連続処理法であつて、かつ 該下向流室の循環流中のみならず、該上向流室
の循環流中に酸素含有気体を導入して、これによ
り上向流室の該気体導入部の上方部の液体が、該
下向流室の対応する部分の液体よりも充分に大き
い比率の気泡を含有するようにして、エア・リフ
ト効果を発生せしめる。
ことを特徴とする方法が提供される。
本明細書において「酸素含有気体」とは、酸素
または任意の酸素含有気体混合物（例えば空気）
を意味する。
または任意の酸素含有気体混合物（例えば空気）
を意味する。
本発明の方法の一実施態様においては、下向流
室内に酸素含有気体（例えば空気）を導入するこ
とによつて、循環系中で下水を循環せしめる作用
が生成される。
室内に酸素含有気体（例えば空気）を導入するこ
とによつて、循環系中で下水を循環せしめる作用
が生成される。
本発明は下水第２次処理の気曝段階および消化
段階に適切に使用できる。好ましくは、本発明は
両段階に使用される。
段階に適切に使用できる。好ましくは、本発明は
両段階に使用される。
下向流室（以下ダウンカマーという）と上向流
室（以下ライザーという）は任意の慣用の断面形
状、例えば円形または半円形でよい。これらは、
別々に相互に分離して配置してよいが、好ましく
は、１つまたはそれ以上の隔壁で内部分割した単
一構造（好ましくは円筒状）中に配置するか、あ
るいは内側に設けた管で形成されたダウンカマー
を有する単一構造（好ましくは円筒状）中に配置
する（管の外側の空間がライザーになる）。種々
の幾何学的配列が可能である。循環系は、複数の
ライザーおよび／またはダウンカマー、例えば同
一の外部構造内に全て配置した二つのダウンカマ
ーと一つのライザーとの組合せを有することがで
きる。
室（以下ライザーという）は任意の慣用の断面形
状、例えば円形または半円形でよい。これらは、
別々に相互に分離して配置してよいが、好ましく
は、１つまたはそれ以上の隔壁で内部分割した単
一構造（好ましくは円筒状）中に配置するか、あ
るいは内側に設けた管で形成されたダウンカマー
を有する単一構造（好ましくは円筒状）中に配置
する（管の外側の空間がライザーになる）。種々
の幾何学的配列が可能である。循環系は、複数の
ライザーおよび／またはダウンカマー、例えば同
一の外部構造内に全て配置した二つのダウンカマ
ーと一つのライザーとの組合せを有することがで
きる。
適切には第１次処理後の下水を液溜中に供給す
る。下水が循環系中を循環せしめられる際に、こ
の液溜中で気体が放出される。ダウンカマーとラ
イザーは液溜の底面より下方に伸びている。従つ
て、液溜が地面またはそれより下方に位置してい
る場合には、ライザーおよびダウンカマーを含む
構造は地中に伸びる竪坑（好ましくは円筒形）で
よい。竪坑は液溜より外方へ離れた位置で地中に
伸ばしていてよいが、好ましくは液溜の下から地
中に伸ばし、ライザーおよびダウンカマーの両者
の上端部を液溜内に開口させる。本発明のある態
様においては、ダウンカマーは液溜中の下水面よ
りも上方に伸びている。しかし、そのような態様
において、ダウンカマーはその全長の大部分につ
いては液溜の低面より下方に伸びている。かかる
場合に、ライザーの上端部は液溜中に開口してい
るが、ダウンカマーの上端部は導管を通して液溜
中の下水と連通している。
る。下水が循環系中を循環せしめられる際に、こ
の液溜中で気体が放出される。ダウンカマーとラ
イザーは液溜の底面より下方に伸びている。従つ
て、液溜が地面またはそれより下方に位置してい
る場合には、ライザーおよびダウンカマーを含む
構造は地中に伸びる竪坑（好ましくは円筒形）で
よい。竪坑は液溜より外方へ離れた位置で地中に
伸ばしていてよいが、好ましくは液溜の下から地
中に伸ばし、ライザーおよびダウンカマーの両者
の上端部を液溜内に開口させる。本発明のある態
様においては、ダウンカマーは液溜中の下水面よ
りも上方に伸びている。しかし、そのような態様
において、ダウンカマーはその全長の大部分につ
いては液溜の低面より下方に伸びている。かかる
場合に、ライザーの上端部は液溜中に開口してい
るが、ダウンカマーの上端部は導管を通して液溜
中の下水と連通している。
適切には、循環系を液溜中の下水の液面から下
方に鉛直に少なくとも40ｍの距離伸ばすが、好ま
しくは下方へ80ｍまたはそれ以上、特に150〜250
ｍ伸ばす。ライザーの合計有効断面積は、ダウン
カマーの合計有効断面積より大であることが好ま
しい。ライザーの合計有効断面積とダウンカマー
のそれとの比は１：１ないし２：１の範囲である
ことが適当である。
方に鉛直に少なくとも40ｍの距離伸ばすが、好ま
しくは下方へ80ｍまたはそれ以上、特に150〜250
ｍ伸ばす。ライザーの合計有効断面積は、ダウン
カマーの合計有効断面積より大であることが好ま
しい。ライザーの合計有効断面積とダウンカマー
のそれとの比は１：１ないし２：１の範囲である
ことが適当である。
任意の適切な循環手段を用いて循環系中で下水
を循環させることができる。極めて適切には、循
環系中に酸素含有気体を射出することによつて循
環を惹起できる。
を循環させることができる。極めて適切には、循
環系中に酸素含有気体を射出することによつて循
環を惹起できる。
本発明の好ましい態様においてはダウンカマー
とライザーとの両者内に酸素含有気体（好ましく
は空気）を射出するための手段を設ける。好まし
くは、かかる二室中への気体射出は同静流体圧の
位置で行なう。従つて、ライザーの上部は、ダウ
ンカマーの上部（気体をほとんど含まないか、実
質的に含まない）よりも高比率の気泡を含むこと
になるから、ライザー中への気体射出位置はダウ
ンカマー中への気体射出位置よりもわずかに低い
ことが好ましい。しかし実際には、両室への気体
射出を、液溜中の下水の液面より下方の実質的に
同距離の位置で行なうのであれば、満足すべき結
果が得られる。両射出位置への気体は同一のコン
プレツサーを用いて供給してよく、ライザー中と
ダウンカマー中のそれぞれに射出する比率はバル
ブで制御する。
とライザーとの両者内に酸素含有気体（好ましく
は空気）を射出するための手段を設ける。好まし
くは、かかる二室中への気体射出は同静流体圧の
位置で行なう。従つて、ライザーの上部は、ダウ
ンカマーの上部（気体をほとんど含まないか、実
質的に含まない）よりも高比率の気泡を含むこと
になるから、ライザー中への気体射出位置はダウ
ンカマー中への気体射出位置よりもわずかに低い
ことが好ましい。しかし実際には、両室への気体
射出を、液溜中の下水の液面より下方の実質的に
同距離の位置で行なうのであれば、満足すべき結
果が得られる。両射出位置への気体は同一のコン
プレツサーを用いて供給してよく、ライザー中と
ダウンカマー中のそれぞれに射出する比率はバル
ブで制御する。
好ましくは、酸素含有気体を液溜中の下水の液
面下のライザーおよびダウンカマーの全長の0.1
〜0.4倍の位置で両室へ射出する（すなわち、液
面下150〜250ｍまで循環系が伸びている場合には
液面下15〜100ｍの位置で両室へ気体を射出す
る）。気体射出は液溜中の下水の液面から下方へ
30ｍ以上の位置で行なうことが好ましい。
面下のライザーおよびダウンカマーの全長の0.1
〜0.4倍の位置で両室へ射出する（すなわち、液
面下150〜250ｍまで循環系が伸びている場合には
液面下15〜100ｍの位置で両室へ気体を射出す
る）。気体射出は液溜中の下水の液面から下方へ
30ｍ以上の位置で行なうことが好ましい。
循環系中での下水の循環を開始する場合、酸素
含有気体のすべてまたはほとんどをライザー中に
射出して、ライザーの上部を「エア・リフト・ポ
ンプ」として作用させる。初期始動期間が経過
し、そして下水が適切な速度（例えばダウンカマ
ー中で少なくとも１ｍ／秒）で満足に循環してい
るとき、ダウンカマーに供給する酸素含有気体の
比率を著しく増大してよい（好ましくは少なくと
も50％まで、そしてある場合には酸素含有気体全
体をダウンカマーに供給する）。このとき、本発
明の方法はこれらの条件下で連続的に実施でき、
条件が変化したときには二室への気体射出比率を
わずかに変動して下水の循環を制御できる。
含有気体のすべてまたはほとんどをライザー中に
射出して、ライザーの上部を「エア・リフト・ポ
ンプ」として作用させる。初期始動期間が経過
し、そして下水が適切な速度（例えばダウンカマ
ー中で少なくとも１ｍ／秒）で満足に循環してい
るとき、ダウンカマーに供給する酸素含有気体の
比率を著しく増大してよい（好ましくは少なくと
も50％まで、そしてある場合には酸素含有気体全
体をダウンカマーに供給する）。このとき、本発
明の方法はこれらの条件下で連続的に実施でき、
条件が変化したときには二室への気体射出比率を
わずかに変動して下水の循環を制御できる。
初期始動期間後に本発明の方法が定常状態で実
施されているとき、ダウンカマー中に射出された
気泡が循環下水流によつて下方へ向けてより高圧
の位置まで運ばれ、気泡の寸法が減少する。深く
挿入した循環系の下方位置で終極的には多くの気
泡は下水中に完全に吸収されることになる。下水
がライザー中を上昇するにつれて、まず気泡が再
び出現し、次いでその寸法を増大する。従つて、
気体の全部または主要部がダウンカマー中に射出
されるが、ダウンカマー中への気体射出位置より
上位のライザーの上部は、ダウンカマーの上部よ
りも多くの気体を含有しており、「エア・リフ
ト・ポンプ」としての機能を続ける。実際上、一
旦循環が開始し、かつダウンカマー中への射出気
泡が適切な速度（例えば１ｍ／秒以上）で下方へ
運ばれると、ダウンカマーの上部とライザーの上
部との間の圧力差を生ぜしめることにおいて、ダ
ウンカマー中への気体射出の効果が、ライザー中
へ射出される気体の効果に加えられることにな
る。
施されているとき、ダウンカマー中に射出された
気泡が循環下水流によつて下方へ向けてより高圧
の位置まで運ばれ、気泡の寸法が減少する。深く
挿入した循環系の下方位置で終極的には多くの気
泡は下水中に完全に吸収されることになる。下水
がライザー中を上昇するにつれて、まず気泡が再
び出現し、次いでその寸法を増大する。従つて、
気体の全部または主要部がダウンカマー中に射出
されるが、ダウンカマー中への気体射出位置より
上位のライザーの上部は、ダウンカマーの上部よ
りも多くの気体を含有しており、「エア・リフ
ト・ポンプ」としての機能を続ける。実際上、一
旦循環が開始し、かつダウンカマー中への射出気
泡が適切な速度（例えば１ｍ／秒以上）で下方へ
運ばれると、ダウンカマーの上部とライザーの上
部との間の圧力差を生ぜしめることにおいて、ダ
ウンカマー中への気体射出の効果が、ライザー中
へ射出される気体の効果に加えられることにな
る。
下水が循環系中を定常的に循環しているとき、
ダウンカマー中でその速度は好ましくは1.2〜20
ｍ秒である。ライザー中での速度は、好ましくは
少なくとも0.5ｍ／秒、特に1.0〜1.5ｍ／秒であ
る。本発明の方法による処理中、一般に下水は循
環系中を多数回循環する。一回完全に循環するに
は、循環系の大きさによるが一般に２分ないし６
分かかる。本発明の方法による全処理時間は、方
法が気曝工程に使用されるのか、消化工程に使用
されるのかによつて変る。前者（すなわち気曝）
の場合、下水の平均滞留時間は一般に15分〜４時
間であるが、後者の場合はもつと長く、下水が循
環系に供給される速度にもよるが例えば２〜30日
間である。
ダウンカマー中でその速度は好ましくは1.2〜20
ｍ秒である。ライザー中での速度は、好ましくは
少なくとも0.5ｍ／秒、特に1.0〜1.5ｍ／秒であ
る。本発明の方法による処理中、一般に下水は循
環系中を多数回循環する。一回完全に循環するに
は、循環系の大きさによるが一般に２分ないし６
分かかる。本発明の方法による全処理時間は、方
法が気曝工程に使用されるのか、消化工程に使用
されるのかによつて変る。前者（すなわち気曝）
の場合、下水の平均滞留時間は一般に15分〜４時
間であるが、後者の場合はもつと長く、下水が循
環系に供給される速度にもよるが例えば２〜30日
間である。
本発明の方法を第２次処理の気曝と消化との両
工程に使用する場合、その二つの処理ユニツトを
同一構造中に組込むことができる。この構造は、
両ユニツト間の熱移動を制限するように構成した
隔壁（例えば内部に断熱層を有するコンクリート
隔壁もしくは鉄製隔壁）で分離されている。隔壁
の上部は熱伝導性材料（例えば水を封入した中空
隔壁をもつ鉄または鋼）で構成して、消化工程中
に発生する熱を気曝工程に移動させることができ
る。水面の高さを変えて移動する熱量を制御でき
る。
工程に使用する場合、その二つの処理ユニツトを
同一構造中に組込むことができる。この構造は、
両ユニツト間の熱移動を制限するように構成した
隔壁（例えば内部に断熱層を有するコンクリート
隔壁もしくは鉄製隔壁）で分離されている。隔壁
の上部は熱伝導性材料（例えば水を封入した中空
隔壁をもつ鉄または鋼）で構成して、消化工程中
に発生する熱を気曝工程に移動させることができ
る。水面の高さを変えて移動する熱量を制御でき
る。
処理不能の固形物、例えば石、金属片等が場合
によつては下水中に含まれており、もしそれを除
去しなれば、本発明の方法の操作が妨げられる恐
れがある。従つて、そのような固形物を収集しう
る空間を循環系の下端部に設けることが好まし
い。例えば外側の室に円錐状または半球状の下端
部を付けるように形成する。そして、例えば下水
の液面下のピツトまで竪坑内を上方に伸びている
一本または二本以上（直径が異なつてもよい）の
デイブ・パイプを有する手段を設けて、上記空間
に収集した固形物を連続的または定期的に除く。
によつては下水中に含まれており、もしそれを除
去しなれば、本発明の方法の操作が妨げられる恐
れがある。従つて、そのような固形物を収集しう
る空間を循環系の下端部に設けることが好まし
い。例えば外側の室に円錐状または半球状の下端
部を付けるように形成する。そして、例えば下水
の液面下のピツトまで竪坑内を上方に伸びている
一本または二本以上（直径が異なつてもよい）の
デイブ・パイプを有する手段を設けて、上記空間
に収集した固形物を連続的または定期的に除く。
本発明の方法は、例えば外壁をなすコンクリー
ト・ライニングを有する深い竪坑内で地中に深く
沈めたライザーとダウンカマーとで最も都合よく
実施しうることが予期される。
ト・ライニングを有する深い竪坑内で地中に深く
沈めたライザーとダウンカマーとで最も都合よく
実施しうることが予期される。
竪坑は種々の方法例えば慣用的な掘下法、ドリ
リング法またはオーガーボーリング法で作ること
ができる。所望ならば、竪坑のライニングは漏洩
防止壁で形成してよい。
リング法またはオーガーボーリング法で作ること
ができる。所望ならば、竪坑のライニングは漏洩
防止壁で形成してよい。
本発明は、任意の適切な気体供給手段および液
体循環手段を使用しうるから、上述の好ましい態
様に関して示した気体供給手段および液体循環手
段に限定されるものではない。
体循環手段を使用しうるから、上述の好ましい態
様に関して示した気体供給手段および液体循環手
段に限定されるものではない。
本発明の別の態様においては、液溜と、上部を
導管に連結し且つ下部をライザーに直接連通して
閉ざされた領域を形成したダウンカマーと上部を
液溜に連通したライザーとを有する循環系中で下
水を循環し、下水を液溜から導管を経てダウンカ
マー上部の大気圧以下の低圧領域へ循環し、酸素
含有気体を低圧領域通過中の下水に供給する。
導管に連結し且つ下部をライザーに直接連通して
閉ざされた領域を形成したダウンカマーと上部を
液溜に連通したライザーとを有する循環系中で下
水を循環し、下水を液溜から導管を経てダウンカ
マー上部の大気圧以下の低圧領域へ循環し、酸素
含有気体を低圧領域通過中の下水に供給する。
かかる態様は、両者の下部を直接連通して閉ざ
れた領域を形成したダウンカマーとライザーとを
有し、ライザーの上部を液溜に連通し、ダウンカ
マーの上部を液溜内から上方へ伸びている導管に
連通し、液溜から導管内へ液体を循環する循環手
段を設けた循環系と、液体が流下するダウンカマ
ーの大気圧以下である上部に酸素含有気体を供給
する手段とを備えた装置によつて実施され得る。
れた領域を形成したダウンカマーとライザーとを
有し、ライザーの上部を液溜に連通し、ダウンカ
マーの上部を液溜内から上方へ伸びている導管に
連通し、液溜から導管内へ液体を循環する循環手
段を設けた循環系と、液体が流下するダウンカマ
ーの大気圧以下である上部に酸素含有気体を供給
する手段とを備えた装置によつて実施され得る。
かような装置において、ダウンカマーの上端部
は液溜中の下水の水面よりも上方へ、好ましくは
鉛直方向長さで３〜９ｍ伸び、次いで曲げられて
上記導管を形成しており、その開口端部は液溜中
の下水中にさし込まれている（例えば導管とダウ
ンカマーの上端部は逆Ｕ型管をなしている）。任
意の適切な手段を用いて下水を導管中に上方へ引
き込み、それを循環系中で循環できる。適当な循
環手段の例としては、プロペラー、軸流ポンプ、
軸流タービンおよびライザー中への酸素含有気体
の射出がある。
は液溜中の下水の水面よりも上方へ、好ましくは
鉛直方向長さで３〜９ｍ伸び、次いで曲げられて
上記導管を形成しており、その開口端部は液溜中
の下水中にさし込まれている（例えば導管とダウ
ンカマーの上端部は逆Ｕ型管をなしている）。任
意の適切な手段を用いて下水を導管中に上方へ引
き込み、それを循環系中で循環できる。適当な循
環手段の例としては、プロペラー、軸流ポンプ、
軸流タービンおよびライザー中への酸素含有気体
の射出がある。
この最後の場合、酸素含有気体は液溜中の下水
の液面よりも下方へライザーの全長の0.1〜0.4倍
の位置でライザーに射出される、すなわち装置が
液面よりも下方へ150〜250ｍ伸びている場合には
液面から15〜100ｍの位置である。これにより、
ライザーの上部は、エア・リフト・ポンプとして
作用するようになる。この態様において、酸素含
有気体の射出を循環手段として用いる場合、ライ
ザーに供給される気体の量は、普通、ダウンカマ
ーに供給される気体の量よりも可成り大である。
の液面よりも下方へライザーの全長の0.1〜0.4倍
の位置でライザーに射出される、すなわち装置が
液面よりも下方へ150〜250ｍ伸びている場合には
液面から15〜100ｍの位置である。これにより、
ライザーの上部は、エア・リフト・ポンプとして
作用するようになる。この態様において、酸素含
有気体の射出を循環手段として用いる場合、ライ
ザーに供給される気体の量は、普通、ダウンカマ
ーに供給される気体の量よりも可成り大である。
この別態様において、適切には気体供給手段は
液溜中の下水の液面より上方の鉛直方向高さで１
〜６ｍ、特に２〜５ｍの位置のダウンカマー中に
配置され、酸素含有気体は、この点におけるダウ
ンカマー内部の圧力が大気圧以下であるので循環
している下水中に引き込まれる。気体供給手段
は、気体が循環下水に対して横方向に引き込まれ
るようにした複数の側孔を有する１本または複数
本の平らな形状の管体であると適当である。この
側孔は好ましくは、循環下水によつて下方へ運ば
れる気泡が２mm〜８mmの初期直径のものになるよ
うなものである。
液溜中の下水の液面より上方の鉛直方向高さで１
〜６ｍ、特に２〜５ｍの位置のダウンカマー中に
配置され、酸素含有気体は、この点におけるダウ
ンカマー内部の圧力が大気圧以下であるので循環
している下水中に引き込まれる。気体供給手段
は、気体が循環下水に対して横方向に引き込まれ
るようにした複数の側孔を有する１本または複数
本の平らな形状の管体であると適当である。この
側孔は好ましくは、循環下水によつて下方へ運ば
れる気泡が２mm〜８mmの初期直径のものになるよ
うなものである。
本発明によれば、気曝気体中の酸素の循環下水
中への高移動比を達成できる。本発明は下水中へ
の酸素の効率的吸収を達成でき、好ましい場合に
はダウンカマーに供給される気体に関して95％を
越える効率が可能である。ライザー中に空気を射
出して循環を行なう場合には、この空気流からの
有効な酸素吸収が起こり、ダウンカマー中へ射出
される気体からの吸収を補足することになる。本
発明によれば一定面積を占める設備によつて適切
に処理できるBOD値について慣用設備よりも制
限を受けないから、下水処理に必要とされる土地
面積における経済性を達成される。その少面積故
に装置からの気体等の逃散を容易に制御すること
ができ、そしてまた装置の外観を容易に良好なも
のにせしめることができる。
中への高移動比を達成できる。本発明は下水中へ
の酸素の効率的吸収を達成でき、好ましい場合に
はダウンカマーに供給される気体に関して95％を
越える効率が可能である。ライザー中に空気を射
出して循環を行なう場合には、この空気流からの
有効な酸素吸収が起こり、ダウンカマー中へ射出
される気体からの吸収を補足することになる。本
発明によれば一定面積を占める設備によつて適切
に処理できるBOD値について慣用設備よりも制
限を受けないから、下水処理に必要とされる土地
面積における経済性を達成される。その少面積故
に装置からの気体等の逃散を容易に制御すること
ができ、そしてまた装置の外観を容易に良好なも
のにせしめることができる。
活性スラツジ法を用いる現在の気曝タンク（ま
たは容器）の形態の下水処理プラントでは、達成
される移動率は約0.1KgO2／時／液体m3以下であ
る。本発明の方法によれば、移動率を、要求度に
よるが、この何倍かに増大しうる。設備の特性に
よつては10倍すなわち１KgO2／時／m3程の高移
動率にしうる。しかし多くの応用において、２〜
３倍だけ増大することが必要とされるに過ぎない
ことが予想される。
たは容器）の形態の下水処理プラントでは、達成
される移動率は約0.1KgO2／時／液体m3以下であ
る。本発明の方法によれば、移動率を、要求度に
よるが、この何倍かに増大しうる。設備の特性に
よつては10倍すなわち１KgO2／時／m3程の高移
動率にしうる。しかし多くの応用において、２〜
３倍だけ増大することが必要とされるに過ぎない
ことが予想される。
本発明を以下添付図により説明する。第１図に
示した設備において、設備に入る未処理下水は、
まず第１次処理段階１１でスクリーニング、浸漬
柔化および脱粗粒（degritting）処理を受ける。
下水流中に含有されている大きな（または高密
度）処理しえない固形物、例えば動物の死体、ビ
ン、カートン等はここで除去される。次いでここ
からの未処理下水排出流はチヤンネル５に沿つて
第１次沈降タンク１内へ移り、ここで懸濁固形物
の一部（例えば約70％）が、未処理スラツジとし
て沈降し、チヤンネル１０に沿つて消化装置４へ
向けて移動する。残りの懸濁固形物を含む液体
は、活性スラツジ装置２へ移り、ここで気曝さ
れ、循環される。
示した設備において、設備に入る未処理下水は、
まず第１次処理段階１１でスクリーニング、浸漬
柔化および脱粗粒（degritting）処理を受ける。
下水流中に含有されている大きな（または高密
度）処理しえない固形物、例えば動物の死体、ビ
ン、カートン等はここで除去される。次いでここ
からの未処理下水排出流はチヤンネル５に沿つて
第１次沈降タンク１内へ移り、ここで懸濁固形物
の一部（例えば約70％）が、未処理スラツジとし
て沈降し、チヤンネル１０に沿つて消化装置４へ
向けて移動する。残りの懸濁固形物を含む液体
は、活性スラツジ装置２へ移り、ここで気曝さ
れ、循環される。
活性スラツジ装置２において、下水は空気およ
び微生物と緊密に接触して、CO2と別量のスラツ
ジとに変化する。活性スラツジは沈降タンク３へ
移り、ここからは液体はチヤンネル８に沿つて除
去されて第３次処理するか、あるいは設備から放
出される。活性スラツジ沈降タンク３からチヤン
ネル６に沿つて取出され、チヤンネル９に沿つて
活性スラツジ装置２へ戻り、一部すなわち過剰量
は消化装置４へ供給される。消化装置４におい
て、前記の過剰の活性スラツジは、第１次沈降タ
ンク１からの未処理スラツジと一緒に気曝され、
循環され、これにより、併合したスラツジの初期
量は著しく減少し、相対的に活性のない安定化し
たスラツジが残り、これをチヤンネル７に沿つて
排除する。この安定化スラツジは最後に適当な方
法例えばさらに沈降および過処理によつて処分
される。ここでさらに除去される液体は活性スラ
ツジ装置２へ戻される。
び微生物と緊密に接触して、CO2と別量のスラツ
ジとに変化する。活性スラツジは沈降タンク３へ
移り、ここからは液体はチヤンネル８に沿つて除
去されて第３次処理するか、あるいは設備から放
出される。活性スラツジ沈降タンク３からチヤン
ネル６に沿つて取出され、チヤンネル９に沿つて
活性スラツジ装置２へ戻り、一部すなわち過剰量
は消化装置４へ供給される。消化装置４におい
て、前記の過剰の活性スラツジは、第１次沈降タ
ンク１からの未処理スラツジと一緒に気曝され、
循環され、これにより、併合したスラツジの初期
量は著しく減少し、相対的に活性のない安定化し
たスラツジが残り、これをチヤンネル７に沿つて
排除する。この安定化スラツジは最後に適当な方
法例えばさらに沈降および過処理によつて処分
される。ここでさらに除去される液体は活性スラ
ツジ装置２へ戻される。
第１ａ図に示した設備において、第１次緩衝貯
蔵槽２６を備えても備えなくても良いが、第１次
沈降処理は省略される。活性スラツジ装置２は通
常の排出流操作を行なつた後の全部の下水排出流
を受け入れる。
蔵槽２６を備えても備えなくても良いが、第１次
沈降処理は省略される。活性スラツジ装置２は通
常の排出流操作を行なつた後の全部の下水排出流
を受け入れる。
第２図に図示する装置においては、スパージヤ
ー１６および１７をそれぞれダウンカマー１４お
よびライザー１５に設け、両者をコンプレツサー
１８に連結してある。ライザー１５およびダウン
カマー１４への気体流はそれぞれバルブ１９およ
び２０で制御される。バルブ１９および２０の操
作は、ダウンカマー１４の上端部に位置した流速
測定装置２２に接続した作動指示器２１で制御さ
れる。
ー１６および１７をそれぞれダウンカマー１４お
よびライザー１５に設け、両者をコンプレツサー
１８に連結してある。ライザー１５およびダウン
カマー１４への気体流はそれぞれバルブ１９およ
び２０で制御される。バルブ１９および２０の操
作は、ダウンカマー１４の上端部に位置した流速
測定装置２２に接続した作動指示器２１で制御さ
れる。
第２図の装置を第１図の設備の活性スラツジ装
置として使用する場合、第１次沈降タンク１から
の下水は、ダウンカマー１４の開口上端部に近い
点で液溜１３中へ開口しているチヤンネル（第２
図に図示されていない）を通して液溜１３へ入
り、そして液体と活性スラツジは、上記流入チヤ
ンネルから離れた位置でかつ液面Ｂ―Ｂより低い
点で液溜から外へ開口している他のチヤンネル
（第２図に図示されていない）を通つて去り、沈
降タンク３へ移る。
置として使用する場合、第１次沈降タンク１から
の下水は、ダウンカマー１４の開口上端部に近い
点で液溜１３中へ開口しているチヤンネル（第２
図に図示されていない）を通して液溜１３へ入
り、そして液体と活性スラツジは、上記流入チヤ
ンネルから離れた位置でかつ液面Ｂ―Ｂより低い
点で液溜から外へ開口している他のチヤンネル
（第２図に図示されていない）を通つて去り、沈
降タンク３へ移る。
第２図の装置は、液体が面Ｂ―Ｂまで液溜１３
を占め、バルブ１９が開いており、バルブ２０が
全閉または部分的に閉じている状態で、コンプレ
ツサー１８からの空気の全部または主要部をライ
ザー１５中へ射出することによつて始動される。
これにより、ライザー１５の上部はエア・リフ
ト・ポンプとして作用するようになり、下水は第
２図に矢印で示した方向に装置内を循環する。装
置２２で測定した流速が予め定めた最低値に達し
たとき、作動指示器２１によつてバルブ１９は完
全にまたは部分的に閉じられ、バルブ２０は開け
られる。望ましくはバルブ２０の開放およびバル
ブ１９の閉鎖はダウンカマー１４中の下水の流速
が増大するにつれて多段階で行なう。装置が定常
状態で作動しているとき、空気の全部またはほと
んどはダウンカマー１４中へ射出される。装置中
での下水の循環流は、何らかの理由により操作条
件が変化するならばライザー１５およびダウンカ
マー１４へ射出する空気量を変えることにより調
節できる。この制御は設備作業者の手動操作で行
なえることはもちろんであるが、作動指示器２１
および装置２２を用いて自動的に行なうのが都合
よい。
を占め、バルブ１９が開いており、バルブ２０が
全閉または部分的に閉じている状態で、コンプレ
ツサー１８からの空気の全部または主要部をライ
ザー１５中へ射出することによつて始動される。
これにより、ライザー１５の上部はエア・リフ
ト・ポンプとして作用するようになり、下水は第
２図に矢印で示した方向に装置内を循環する。装
置２２で測定した流速が予め定めた最低値に達し
たとき、作動指示器２１によつてバルブ１９は完
全にまたは部分的に閉じられ、バルブ２０は開け
られる。望ましくはバルブ２０の開放およびバル
ブ１９の閉鎖はダウンカマー１４中の下水の流速
が増大するにつれて多段階で行なう。装置が定常
状態で作動しているとき、空気の全部またはほと
んどはダウンカマー１４中へ射出される。装置中
での下水の循環流は、何らかの理由により操作条
件が変化するならばライザー１５およびダウンカ
マー１４へ射出する空気量を変えることにより調
節できる。この制御は設備作業者の手動操作で行
なえることはもちろんであるが、作動指示器２１
および装置２２を用いて自動的に行なうのが都合
よい。
第３図は本発明の方法を実施するために使用す
ることができる装置の別の好ましい態様を示す。
この装置ではライザー１５およびダウンカマー１
４は隔壁２３で分割され、液溜１３の底部から下
方の竪坑内に伸びている単一容器内に含まれてい
る。ダウンカマー１４およびライザー１５は隔壁
２３の下端部よりも下方へ伸び（または別法とし
て隔壁２３の下部を穿孔し）、これによつてダウ
ンカマー１４の下端部とライザー１５の下端部と
が相互に連通して閉ざされた領域を形成してい
る。液溜１３中での適切な流動パターンを得るた
め、ダウンカマー１４の上端部２４を液溜の底面
より上に伸ばし、かつ流動案内手段２５を設けて
いる。
ることができる装置の別の好ましい態様を示す。
この装置ではライザー１５およびダウンカマー１
４は隔壁２３で分割され、液溜１３の底部から下
方の竪坑内に伸びている単一容器内に含まれてい
る。ダウンカマー１４およびライザー１５は隔壁
２３の下端部よりも下方へ伸び（または別法とし
て隔壁２３の下部を穿孔し）、これによつてダウ
ンカマー１４の下端部とライザー１５の下端部と
が相互に連通して閉ざされた領域を形成してい
る。液溜１３中での適切な流動パターンを得るた
め、ダウンカマー１４の上端部２４を液溜の底面
より上に伸ばし、かつ流動案内手段２５を設けて
いる。
第４および５図に示した本発明の方法を実施す
るために使用することができる装置の二態様にお
いて、ライザー１５およびダウンカマー１４の二
隔室は、地面（図においてＡ―Ａ線）に位置した
液溜１３の底面を貫いて下方へ、その下の竪坑内
に伸びている。これらの二隔室はそれらの下端部
で相互に直接連動して閉ざされた領域を形成して
いる（第４図では開口２７により、第５図ではダ
ウンカマー１４の下端部とライザー１５の下端部
との間の間隙により）。ダウンカマー１４は液溜
１３の底面よりも上部へ伸び、その上端部は導管
２８へ連結されている。導管２８は水平に、次い
で下方へ伸びて、ダウンカマーの上端部とともに
逆Ｕ字型部を形成している。装置が使用されてい
るとき、導管２８の脚部２９の開口端部は、液溜
１３内に含まれている液面Ｂ―Ｂより下位にあ
る。液体の循環は、第４図の装置では脚２９内に
位置し適当に（例えばモーターによつて）駆動さ
れるプロペラー３０によつて引き起こされ、第５
図の装置ではライザー１５中へスパージヤー３１
を通して射出される酸素含有気体によつて引き起
こされる。第５図において、気体はコンプレツサ
ー３２を用いてライザー１５中へ射出される。第
４および５図の両図の装置において、酸素含有気
体、例えば空気、は空気供給速度調整手段を含む
管３３を通してダウンカマー１４の上端部へ導入
される。ダウンカマー１４の上端部と導管２８と
で形成されているＵ字型部が液体で満たされ（こ
のＵ字型部からは空気を真空ポンプで除去する）、
そして液溜１３が面Ｂ―Ｂまで満たされると、プ
ロペラー３０が運転開始されるか、パイプ３１を
通して空気がライザー１５中へ散布され、液溜１
３からの液体は導管２８を経てダウンカマー１４
内へ移る。液体はライザー１５を経て液溜１３へ
戻る。
るために使用することができる装置の二態様にお
いて、ライザー１５およびダウンカマー１４の二
隔室は、地面（図においてＡ―Ａ線）に位置した
液溜１３の底面を貫いて下方へ、その下の竪坑内
に伸びている。これらの二隔室はそれらの下端部
で相互に直接連動して閉ざされた領域を形成して
いる（第４図では開口２７により、第５図ではダ
ウンカマー１４の下端部とライザー１５の下端部
との間の間隙により）。ダウンカマー１４は液溜
１３の底面よりも上部へ伸び、その上端部は導管
２８へ連結されている。導管２８は水平に、次い
で下方へ伸びて、ダウンカマーの上端部とともに
逆Ｕ字型部を形成している。装置が使用されてい
るとき、導管２８の脚部２９の開口端部は、液溜
１３内に含まれている液面Ｂ―Ｂより下位にあ
る。液体の循環は、第４図の装置では脚２９内に
位置し適当に（例えばモーターによつて）駆動さ
れるプロペラー３０によつて引き起こされ、第５
図の装置ではライザー１５中へスパージヤー３１
を通して射出される酸素含有気体によつて引き起
こされる。第５図において、気体はコンプレツサ
ー３２を用いてライザー１５中へ射出される。第
４および５図の両図の装置において、酸素含有気
体、例えば空気、は空気供給速度調整手段を含む
管３３を通してダウンカマー１４の上端部へ導入
される。ダウンカマー１４の上端部と導管２８と
で形成されているＵ字型部が液体で満たされ（こ
のＵ字型部からは空気を真空ポンプで除去する）、
そして液溜１３が面Ｂ―Ｂまで満たされると、プ
ロペラー３０が運転開始されるか、パイプ３１を
通して空気がライザー１５中へ散布され、液溜１
３からの液体は導管２８を経てダウンカマー１４
内へ移る。液体はライザー１５を経て液溜１３へ
戻る。
第６図の装置において、消化装置３４と活性化
スラツジ装置３５との両者は、隔壁３６で分離さ
れて単一構造中に組込まれている。隔壁３６の上
端部の部分３７は中空金属（例えば鋼製部分）で
あり、水を含んでいるがその液面はポンプ循環に
よつて制御できる。この部分は消化装置３４中に
発生する熱を活性化スラツジ装置３５へ伝達する
作用を有する。
スラツジ装置３５との両者は、隔壁３６で分離さ
れて単一構造中に組込まれている。隔壁３６の上
端部の部分３７は中空金属（例えば鋼製部分）で
あり、水を含んでいるがその液面はポンプ循環に
よつて制御できる。この部分は消化装置３４中に
発生する熱を活性化スラツジ装置３５へ伝達する
作用を有する。
ライザーおよびダウンカマーの配置は任意の適
切な配置でよい。第７ａ，７ｂ，７ｃ、７ｄ，７
ｅおよび７ｆ図に種々の適当な配置方式を示す。
図中ライザーは１５で、ダウンカマーは１４で表
わされている。
切な配置でよい。第７ａ，７ｂ，７ｃ、７ｄ，７
ｅおよび７ｆ図に種々の適当な配置方式を示す。
図中ライザーは１５で、ダウンカマーは１４で表
わされている。
第１図は本発明の方法を使用しうる下水処理設
備の簡略線図。第１ａ図は第１図の設備の変形形
態の簡略線図。第２，３，４および５図は本発明
の方法を実施するのに使用することができる下水
処理装置の断面図。第６図は二つの処理ユニツト
を単一構造に組込んだ装置の断面図。第７ａ〜７
ｆ図は上記のいずれの装置にも適用できるライザ
ーとダウンカマーとの変形配列方式を示す平面
図。 図において、１３：液溜、１４：ダウンカマ
ー、１５：ライザー、１６，１７：酸素含有気体
スパージヤー、２３：隔壁、２８：導管。
備の簡略線図。第１ａ図は第１図の設備の変形形
態の簡略線図。第２，３，４および５図は本発明
の方法を実施するのに使用することができる下水
処理装置の断面図。第６図は二つの処理ユニツト
を単一構造に組込んだ装置の断面図。第７ａ〜７
ｆ図は上記のいずれの装置にも適用できるライザ
ーとダウンカマーとの変形配列方式を示す平面
図。 図において、１３：液溜、１４：ダウンカマ
ー、１５：ライザー、１６，１７：酸素含有気体
スパージヤー、２３：隔壁、２８：導管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下方に延長している一つの下向流室と一つの
上向流室とを少なくとも有している循環系内を下
方に流れている液体中に酸素含有気体を供給する
ことにより該液体に該気体を導入し、該液体は該
下向流室を下方に該上向流室を上方に流れるよう
に該下向流室と該上向流室の下部は直接連通して
閉ざされた領域を形成し、該下向流室と該上向流
室の上部は直接または間接的に連通しており、該
下向流室での下向流の速度は該気体が該液体と同
方向に流れそして該上向流室に入るようにした方
法において、 該方法は、該循環系における滞留時間が少なく
とも15分であるように汚泥含有液体が循環してい
る該循環系内へ連続的に下水を供給し、かつ該循
環系から液体を連続的に抜き出す活性汚泥法によ
る下水の連続処理法であつて、かつ 該下向流室の循環流中のみならず、該上向流室
の循環流中に酸素含有気体を導入して、これによ
り上向流室の該気体導入部の上方部の液体が、該
下向流室の対応する部分の液体よりも充分に大き
い比率の気泡を含有するようにして、エア・リフ
ト効果を発生せしめることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB2332873A GB1473665A (en) | 1973-05-16 | 1973-05-16 | Treatment of biologically-degradable waste |
| GB5392173 | 1973-11-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56129093A JPS56129093A (en) | 1981-10-08 |
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