JPS6311223A - 放電加工用加工液の再生装置 - Google Patents

放電加工用加工液の再生装置

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Publication number
JPS6311223A
JPS6311223A JP15338986A JP15338986A JPS6311223A JP S6311223 A JPS6311223 A JP S6311223A JP 15338986 A JP15338986 A JP 15338986A JP 15338986 A JP15338986 A JP 15338986A JP S6311223 A JPS6311223 A JP S6311223A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning liquid
ion
filter
machining
tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP15338986A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuhiro Asamoto
朝本 哲博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPS6311223A publication Critical patent/JPS6311223A/ja
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は放電加工用加工液の再生装置に関し、特に加工
液の比抵抗が低下した際とれをイオン交換装置によって
再生する装置に関する。
〔従来の技術〕
従来のこの種の装置を第2図に基づいて説明する。同図
はこの装置の概略を示す構成図で、放電加工槽(1)内
の加工液が放電加工による加工屑によって汚染さnると
ともにその比抵抗が漸次低下することになる0この加工
液は一旦汚液槽(2)に回収した後ポンプ(8)によっ
てフィルタ(4)へと送出すると汚液はフィルタ(4)
によって−過さ几て清液槽(5)に回収さnる。この清
液槽(5)に回収された清浄液はポンプ(6)によって
イオン交換装置(γ)に給送さnて、ここで比抵値を1
0,000〜100,000Ωm元に戻す再生作用が行
なわnた後清浄液槽(5)に戻される。
このようにして再生さnた清浄液はポンプ(8)によっ
て放電加工槽(1)に給送されて放電加工に供さnる0 〔発明が消失しようとする問題点〕 ところが上記装置では、放電加工装置によって荒加工を
長時間に亘り行なうと汚濁液槽(2)から清浄液槽(5
)に給送する際にフィルタ(4)による−過が充分でな
く、清浄液槽(5)内にスラッジが蓄積さ九るO つまシ、汚濁液槽(2)から清浄液槽(5)に至る間に
介装さnたフィルタ(8)は通常濾過精度5〜101j
Iの紙フィルタが用いられる。しかしながら荒加工が連
続的に行なわれたシし九場合は十分に一過さnない液が
清浄液槽(5)に入シ、この清浄液をイオン交換装置(
γ)によってそのままイオン交換を行なうとイオン交換
樹脂にスラッジによる微粒子が被着してその機能を勢い
低下させることになって、本来の再生作用が働かなくな
り、そのためイオン交換樹脂の交換頻度が高まり、メン
テナンスが煩雑になるとともに、ランニングコストが高
くなるという問題点を有してい九〇 本発明は、叙上の問題点を解決するためになさnたもの
で、イオン交換樹脂の寿命を高めることを目的としてな
さnたものである。
〔問題点を解決するための中段〕
本発明に係る再生装置は、イオン交換装置の前にフィル
タを介装したものである。
〔作用〕
本発明によルば、イオン交換装置に清浄液が流入する前
に−Hフィルタを通過するため、ここで清浄液の微粒子
が除去さnるため、イオン交換樹脂に微粒子が被着する
ことがない。
〔実施例〕
以下第1図に示す実施例に基づいて、従来と同−又は相
当部分には同一符号を付しその説明は省略し、本発明の
特徴を中心に説明する。本実施例装置は同図からも明ら
かなように清浄液槽(6)から清浄液を給送するポンプ
(6)とイオン交換装置(γ)間にフィルタ(9)を介
装した点に特徴を有している。
このフィルタ(9)は1〜3μmのr過精度を有してお
ル、清浄液に存するスラッジを確実に除去して清浄液槽
(6)に戻すことができる。勿論この時の清浄液はイオ
ン交換装置(テ)によって比抵抗が初期の状態に再生さ
れている。
なお、フィルタ(9)としては助剤プリコート方式が最
適であるとの知見を得ている。
以上のことからも明らかなように1本実施例装置によn
ば、汚濁液槽(2)から清浄液槽(5)に給送さnた加
工液内に多少のスラッジが混入している場合であっても
イオン交換する際フィルタ(9)によってそnを確実に
除去することができるため、イオン交換樹脂の耐久性を
向上させることができる。
この結果イオン交換樹脂の交換頻度が軽減さnて再生装
置のメンテナンスが楽になシ、ひいてはランニングコス
トの低減を達成し得る。
〔発明の効果〕
以上本発明によnは再生装置を構成するイオン交換装置
のイオン交換樹脂の寿命を延ばすことができ、メンテナ
ンスの向上及びランニングコストの低減を図シ得る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る再生装置の一実施例を示す概略構
成図、第2図は従来装置を示す第1図相当図である。 図において、(1)は放電加工槽、(7)はイオン交換
装置、(9)はフィルタである。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)放電加工槽における比抵抗値の低下した加工液を
    回収しイオン交換装置を通過させて再生した後上記放電
    加工槽に返還する放電加工用加工液の再生装置において
    、上記イオン交換装置の上記加工液流入側にフィルタを
    介装したことを特徴とする放電加工用加工液の再生装置
  2. (2)上記フイルタが1〜3μmの濾過精度を有するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の放電加工用
    加工液の再生装置。
JP15338986A 1986-06-30 1986-06-30 放電加工用加工液の再生装置 Pending JPS6311223A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02150121U (ja) * 1989-05-23 1990-12-25
JPH0593239U (ja) * 1992-05-20 1993-12-21 昌芳 松本 手提袋
JPH0666343U (ja) * 1992-07-20 1994-09-20 昌芳 松本 手提袋

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02150121U (ja) * 1989-05-23 1990-12-25
JPH0593239U (ja) * 1992-05-20 1993-12-21 昌芳 松本 手提袋
JPH0666343U (ja) * 1992-07-20 1994-09-20 昌芳 松本 手提袋

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