JPS63119146A - 放射線ビ−ム装置の調整できる試料マウンティング装置と方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 粒子放射線顕微鏡（ｐａｒｔｉｃｌｅ　ｒａｄｉａＨｏ
ｎｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）のような放射線ビーム装置（
ｒａｄｉａｔｉｏｎｂｅａｍ　ａｐｐａｒａｔｕｓ）　
、特に電子顕微鏡の発達は、動６一 作の簡単化および種々の制御機能の自動化に関して近年
大きな進歩をとげている。しかし、試料平面（ｐｒｅｐ
ａｒａｔｉｏｎ　ｐｌａｎｅ）内にある２つの方向の試
料の調整およびしばしばそうであるがシステムのビーム
通路の軸を垂直に通るいわゆる回転軸の周りの偏心回転
を一般に許容しなければならない試料マウンティング装
置（ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ　ｍｏｕｎｔｉｎｇｄｅｖ
ｉｃｅ）はこの発達のずっと背後に留っでいる。

多くの電子顕微鏡において、調整できる試料マウンティ
ング（ａｄｊｕｓｔａｂｌｅ　ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ
　ｍｏｕｎｔｉｎｇ）は顕微鏡の側面から挿入可能であ
るゴニオメータロッドを含むゴニオメータとして設計さ
れている。

一方向（Ｘ方向）の試料の調整はその軸に沿うゴニオメ
ータロッドの偏位によって実行され、一方他の方向（Ｙ
方向）の偏位はロッドの縦軸に垂直に起る。観測される
べき試料の領域はＹ運動による電子顕微鏡のビーム通路
の軸に持込むことができ、従ってゴニオメータロッドの
傾き　（ｔｉｌｔｉｎｇ）からそれて移動しない。

本発明の主な目的は放射線ビーム装置、特に電子顕微鏡
の調整できる試料マウンティングを簡単化し、その精度
と一時的不変性（ｔｅｍｐｏｒａｌ　ｃｏｎｓｔａｎｃ
ｙ）を改良し、かつ以前よりも簡単な態様で調整手順の
自動化を許容することである。

この目的は特許請求の範囲で特徴付けられ、かつ以下に
説明される本発明によって達成されている。

粒子放射線顕微鏡（すなわちイオン顕微鏡あるいは電子
顕微鏡）に対する本発明による調整できる試料マウンテ
ィングは簡単かつ正確であり、そして制御および既知の
特殊ディジタル制御装置への統合に関してうまく自動化
できる。

本発明の有利な洗練化によると、それはさらにまた本発
明による以外の調整できる試料マウンティングに使用で
き、調整は電気的偏位の組合せ、ならびに発生される粒
子・光学影像（ｐａｒｔｉｃｌｅ　−ｏｐｔｉｃａｌ　
ｉｍａｇｅ）の相関で起る。このことは特に正確な調整
を許し、さらにこれはまた特にうまく自動化でき、従っ
て顕微鏡の動作はそれによって著しく容易にされる。

本発明の実施例を図面を参照して以下詳細に説明する。

第１図および第２図に示された調整できる試料マウンテ
ィング装置は横方向挿入を有する（示されていない）ゴ
ニオメータのゴニオメータロッド（１０）上にマウント
されている。ゴニオメータロッドは顕微鏡の粒子ビーム
を通過させる開口（１０ａ）を有している。そのような
ゴニオメータは既知であり、従ってさらに詳細な説明は
不必要である。

これらのゴニオメータに存在するゴニオメータロッドの
厄介な精密調整装置は無くて済ますことができ、従って
ゴニオメータロッドの簡単な回転可能マウンティング（
これは多分縦方向および横断方向に粗い調整の機能を持
っているのだが）は充分であると言うことを簡単に述べ
るべきである。

既知のゴニオメータ試料マウンティング装置からの本質
的な差は次のことからなっている。すなわち、本発明に
よる装置において、調整はゴニオメータロッドに固く接
続されておらず、ゴニオメータロッドに対して制御され
た態様で可動であることである。第１図および第２図に
よる実施例では、ゴニオメータロッドは平面軸受は面（
ｐｌａｎｅｂｅａｒｉｎｇ　５ｕｒｆａｃｅ）（１２）
を示し、その上にこの例では矩形である薄い試料スライ
ド（ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｓｌｉｄｅ）　（１４）が
例えばスプリングフィンガー（ｓｐｒｉｎｇｆ　ｉｎｇ
ｅｒ）　（１６）によって摩擦的に保持することにより
マウントされ、このスプリングフィンガーは試料スライ
ドのリムに押付けられている。もし必要ならその周りに
イ頃けることのできるゴニオメータロッド（１０）の縦
軸（１８）は面（１２）の平面内に延在し、あるいはそ
の上に小さい間隔を置いて延在し、従ってゴニオメータ
ロッドの縦軸は試料スライドに含まれる試料を通過して
いる。

試料スライドはキャリア構造として薄い金属格子あるい
は炭素箔を含み、もし必要なら、機械的強度を増大する
ためにフレームの態様で強化することができる。

試料スライド（１４）上にスプリングフィンガー（１６
）によって作用された力はできる限り小さくなくてはな
らず、かつ面（１２）上の試料スライドの望ましくない
偏位を妨げるのに本質的に丁度充分でなくてはならない
。面（１２）および／または試料マウンティングスライ
ドのフレームは宇宙空間で遭遇する条件の下で動作しな
ければならぬ軸受けに対し既知であるように、例えばチ
タンカーバイドの低摩擦面を備えることができる。

スプリングフィンガー（１６）によって発生さた摩擦力
に対抗して、２個のアクチュエータ素子（２０）および
（２２）が試料スライド（１４）の制御された偏位に準
備されている。アクチュエータ素子の好ましい実施例は
第３図を参照して説明されよう。現在の段階では、針状
チップを備えているアクチュエータ素子（２０）あるい
は（２２）の前端（２０ａ）あるいは（２２ａ）は（ゴ
ニオメータロッドに対して）空間のすべての３方向すな
わち軸受は面（１２）に平行に延在するＸ方向とＹ方向
、ならびにそれに垂直に延在しているＺ方向に制御され
た態様で可動である。

移動のストロークは各場合にマイクロメーター領域のみ
を必要としている。

静止条件では、アクチュエータ素子（２０）および（２
２）の先細全面端部（ｔａｐｅｒｉｎｇ　ｆｒｏｎｔ　
ｅｎｃｌｓ）（２０ａ　＋２２８）は試料スライド（１
４）のまわりで小さい間隔を置いて位置している。もし
この試料が例えばＸ方向に偏位されるべきなら、最初、
２個のアクチュエータ素子の前面端部はそれらが試料ス
ライド（１４）で固く嵌合するまでＺ方向に移動される
。試料スライド（１４）で嵌合するアクチュエータ素子
（２０）および（２２）の端部（２０ａ　、　２２ａ）
がＸ方向の反対向きに移動し、例えば１つのアクチュエ
ータ素子は伸長し、他のものはそれに対応して短縮する
。

それにより試料スライド（１４）がスプリングフィンガ
ー（１６）の力に対抗してＸ方向に小さい距離だけ偏位
するそのようなストロークの移動のあと、アクチュエー
タ素子は試料スライド（１４）から再びリフトオフし、
かつそれらの静止条件に持込まれる。

もしＸ偏位がまだ充分でないと、上述の手順は必要な限
りしばしば繰返すことができる。このようにして、調整
装置は戻り止め駆動（ｄｅｔｅｎｔｅ　ｄｒｉｖｅ）と
同じように動作するが、しかし調整素子の拘束は戻り止
めによっては起らず、スプリングフィンガー（１６）の
押付は力による摩擦によって摩擦的に保持することで起
る。

Ｙ方向の試料スライドの偏位に対して、アクチュエータ
素子（２０）および（２２）の前面端部（２０ａ　。

２２ａ）は試料スライド（１４）と再び嵌合し、次に前
面端部は横方向に同じ向きに移動され（第１図）、従っ
て試料スライド（１４）はＹ方向に平行に偏位される。

第３図は圧電的に動作するアクチュエータ素子の実施例
を示している。第３図に示されたアクチュエータ素子（
２０）はマウンティングブロック（２４）によって前面
端部（２０ａ）から遠く離れた端部（２０ｂ）でゴニオ
メータロッド（１０）に固定されている。固定された端
部（２０ｂ）に隣接して、細長いロッド状アクチュエー
タ素子（２０）は第１の平坦な圧電部分（２６）を有し
、その平面は素子（２０）の縦方向に、かつ軸受は面（
１２）に垂直に延在し、その反対側には第３図ではその
１個の電極のみを見ることのできる電極が備えられてい
る。圧電部分（２６）は電極間に電圧差が印加されると
それは端部（２０ａ）がＹ方向に軸回転するように曲る
よう設計されている。

平坦な圧電部分（２６）には平坦な第２の圧電部分（３
０）が付随し、その平面は圧電部分（２６）の平面に垂
直に、かつ面（１２）の平面に平行に延在している。

圧電部分（３０）は２個の電極（３２）を有し、かつア
クチュエータ素子の端部（２０ａ）がＺ方向、すなわち
試料スライド（１６）に向かって移動することが許容さ
れている。最後に、アクチュエータ素子（２０）はまた
管状部分（３４）を含み、それは内部的にも外部的にも
電極（３６）と（３８）をそれぞれ備え、かつ電歪素子
として動作する。電極（３６）と（３８）の間に適当な
極性の電圧を印加すると、管状部分（３４）は伸張する
か短縮し、従って端部（２０ａ）は対応する態様でＸ方
向に偏位される。

もちろん、これまで説明されてきたアクチュエータ素子
は非常に広い種類のやり方で修正されよう。例えば先端
の場所において、粗い面がまた前面端子で試料スライド
に嵌合するように備えることができる。このことは試料
スライド（１６）の表面が相対的に一様でない環境でと
りわけ適当であるう。圧電素子あるいは電歪素子の代り
に、適当な磁歪素子を用いることもまた可能である。電
子顕微鏡の動作はこの場合に発生れる磁界によって妨害
されない。何故なら、アクチュエータ素子は所望の偏位
が達成されてしまったあとで再び非作動化されるからで
ある。

アクチュエータ素子が偏位の間にのみ試料と嵌合される
という事実は、調整装置が試料の望ましくない偏位の近
くに持って来れないという大きな利点を有している。

第４図は試料の回転を許容する現在の試料マウンティン
グ装置の１実施例を示している。この例では、第１図、
第２図からの主要な差は、試料スライド（１１４）が円
形であり、かつ好ましくはいくらか幅広いリム（１１４
ａ）を示し、これは必要なら機械的に強化される。スプ
リングフィンガー（１１６）は９０°の角度間隔で試料
スライドの中心の周りに対称的に配置され、それを通し
てシステムのビーム通路の軸の中心がまた通過している
。アクチュエータ素子（１２０、１２２）は第２図のア
クチュエータ素子（２０）および（２２）に対応し、そ
して第３図に示されているように設計することができる
。制御については、Ｘ方向およびＹ方向の偏位が与えら
れているのみならず、また第３の可能性、すなわち例え
ば第４図の矢印によって示されているようにＹ方向に反
対の向きに試料スライド（１１４）で直径的に嵌合して
いるアクチュエータ素子の端部の軸回転が与えられてい
る。明らかに、これは試料スライド（１４）の対応する
回転を生じる。（面（１２）に垂直である）ゴニオメー
タのＺ軸の種々の角度で試料の記録を作るために、ゴニ
オメータロッドが所望の角度で傾けられ、次に試料が種
々の記録のためにアクチュエータ素子（１２０、１２２
）によって飛び飛びに回転されている。

第１図、第２図、第４図による実施例において、ゴニオ
メータロッドの最大傾き角は電子ビームのために備えら
れているゴニオメータロッドの内径（１０ａ）の寸法に
よって制限されている。この制限は第５図に示されてい
る本発明による装置の実施例のケースでは適用できない
。第５図による装置は短縮されたゴニオメータロッド（
２１０）を含み、それはいくらかシステムのビーム通路
の軸の前面で終っている。ゴニオメータロッド（２１０
）は第１図および第２図の面（１２）に対応する軸受は
面（２１２）を形成し、その上に円形の試料スライド（
２１４）が３個のスプリングフィンガー（２１６）によ
ってそれがその直径の半分以上自由に突出し、かつ電子
顕微鏡のビーム通路の軸がその中心を通過するようにマ
ウントされている。第５図による装置は２個のアクチュ
エータ素子（２２０、２２２）を含み、これはお互に平
行に配置され、かつその前面端部（２２０ａ　。

２２２ａ）はそれらが円形試料スライド（２１４）のリ
ム領域で嵌合できるように位置決めされている。試料ス
ライド（２１４）で嵌合しているアクチュエータ素子の
端部の相互に反対な移動によって、試料スライドの回転
を実現することは明らかに可能である。しかし容易に分
るように、この態様で実行された回転の中心点は試料ス
ライド（２１４）の中心点（０）に一致しない。第６図
に示されているように、試料スライド（２１４）の回転
の中心点（２５２）は、試料スライド（２１４）に嵌合
するアクチュエータ素子端部（２２０ａ　、　２２２ａ
）のこれらの端部の嵌合点間の中心における相互に反対
なＸ移動によっており、従って試料スライド（２１４）
の中心点（０）はこのように中心点（２５２）の周りの
円弧（２５４）に沿って軸回転する。しかし、第７図に
示されたように、この望ましくない軸回転運動は付加的
な訂正調整の遂行により容易に補償できる。すなわちΔ
ｘ−ｒＣＯ３β および Δｙ＝ｒｓｉｎβ ここでβは支点（２５２）のまわりの軸回転の角度であ
り、ｒは試料スライド（２１４）の支点　（２５２）と
（静止された）中心点（０）の間の距離である。良好な
近似では、角度βはａｒｃ　ｓｉｎ　２ｘ／ｄに等しく
、ここでｄはお互からの端部（２２０ａ　、　２２２ａ
）の嵌合点の距離であり、Ｘは回転を生じるＸ偏位を表
わしている。

第５図による装置では、試料スライドの平面は、システ
ムの軸に対して電子ビームのさえぎり（ｓｈａｄｉｎｇ
ｏｆｆ）の危険性を生じること無く、多分８０度までか
それ以上の非常に大きな角度を通すゴニオメータロッド
（２１４）の適当な回転によって傾けることができる。

本発明の別の特徴によると、上述の調整手順は好ましく
は監視され、多分相関によって制御されよう。試料の調
整の過程において、調整の開始に先立って記録された影
像は調整の間あるいは調整ステップのあとで発生された
影像と相関を取られることでこのことは起こる。これと
関連して、例えばドイツ国公開公報第３３２５８５５号
に記載されたような光学的相関器を用いることが可能で
ある。

粒子放射線による試料の強勢（ｓ　ｔｒｅｓｓ　ｉｎｇ
）は調整すべき試料の部分によらないが、試料の他の部
分あるいはキャリア箔によってさえ相関の実行によって
小さく保ことができる。この手順において、関心のある
試料の部分の実際の記録のケースよりも実質的に小さい
倍率で動作させることが可能であり、試料の調整の目的
で企てられる相関の過程で、相対的に粗い粒子の炭素箔
あるいは統計的に分布された細孔を有する相対的に粗い
細孔の格子を示す試料キャリアを使用することが可能で
ある。

記録された影像の最終の細い相関が影像処理の過程、既
知の計算機で行われている。

電子顕微鏡の試料キャリアとして慣例となっている形で
の炭素箔によって、適当な粒状が８０　、０００から２
００．０００の範囲の倍率で既に示されており、それを
基にして相関が満足できるよう取ることができる。多少
なりとも統計的に分布された程度の大きな孔を持つ格子
の形態の試料キャリアによって、もし必要なら相関は５
００倍から１　、０００倍の倍率でさえとることができ
る。

Ｘ方向の偏位のケースにおいて、生起する相関関数の最
大が例えば左から右に偏位されるものとしよう。そうす
ると相関関数によって飛び飛びに所望の通路に対応する
ことを意図する通路を容易に規定することが可能である
。このことは例えば以下のように起る。すなわち、電子
顕微鏡によって発生された影像は、相関の最大が例えば
相関領域の左側境界に達するまで既知の態様で電気的に
偏位される。それから信号が発出され、偏位が非作動化
される。既存の調整装置のＸ偏位は相関の最大が右側境
界に達するような時間まで非作動化される。調整装置の
非作動化のあと、相関の最大が再び左側境界に位置する
まで影像は再び電気的に偏位され、引続いて既存の調整
装置は再び動作状態に設定される。任意の時間に、すな
わち１つの調整ステップから次のステップまで、影像を
電気的に任意の所望の程度まで偏位し、かつ影像を観察
することが可能であり、これは非常に重要である。原理
上このことは実際的に連続な影像偏位を導く。これに関
連して、影像が電気的に偏位され、かつそれが機械的に
偏位される場合に観測者は全く知る必要は無い。調整の
不可避な不正確性は相関によって補償され、すなわち、
アクチュエータ素子は相関関数が調整の過程で所望の態
様でのみ変化するように制御される。

相関関数を参照する試料の調整の監視は重要であり、第
４図と第５図を参照してこれまで説明されたように、特
に試料の回転の過程でそうである。

２１一 回転の中心のシフトは相関関数の助けを借りた反対の制
御によって回避されよう。

試料キャリアの調整はいくつかの座標方向で同時に起せ
ることはもっともらしい。例えば、Ｘ方向および／また
はＹ方向の偏位および／または回転は組合せることがで
きる。

（要　約） 電子顕微鏡のような放射線ビームの調整できる試料マウ
ンティング装置が記載されており、該装置はキャリアと
キャリアに対する試料を含む試料スライドを調整する装
置とを含んでいる。キャリア（１０）は試料スライド（
１４）の軸受は面（Ｉ２）を形成し、かつこの面（１２
）上に試料スライド（１４）のマウンティングを摩擦的
に保持する装置（１６）が備えられている。試料スライ
ドを調整する装置は２個のアクチュエータ素子（２０、
２２）を含み、その各々は試料スライドとの結合に役立
ち、かつ試料スライドから離れた位置で試料スライドと
嵌合するよう可動であり、かつまた軸受は面の平面に平
行な２つの方向（ｘ、ｙ）に制御された態様で調整でき
る各部分（２０ａ　、　２２ａ）を示している。軸受は
面（１２）に対する試料スライド（１４）の移動の監視
と制御は、キャリア（１０）の軸受は面（１２）に対す
る試料スライド（１４）の間および／またはあとで記録
された１つあるいはそれ以上の粒子放射線影像と規準粒
子放射線影像との相関によって起こることが好ましい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例による調整できる試料マウンテ
ィングによつて準備されたゴニオメータロッドの平面図
を示し、 第２図は第１図の矢印■−■方向の軸方向断面を示し、 第３図は第１図および第２図による装置で用いられるの
が好ましい形状で、アクチュエータ素子の拡大された表
現を示し、 第４図は本発明の第２の実施例による調整できる試料マ
ウンティング装置を持つゴニオメータロッドの一部分の
平面図を示し、 第５図は本発明の第３の実施例による調整できる試料マ
ウンティング装置を持つゴニオメータロッドの前面端部
の平面図を示し、 第６図および第７図は第５図による装置の好ましいモー
ドの動作を説明する線図を示している。 １０・・・ゴニオメータロッド １０ａ・・・開口あるいは内径 １２・・・軸受は面　　　　　１４・・・試料スライド
１６・・・スプリングフィンガー １８・・・縦軸 ２０、２２・・・アクチュエータ素子 ２０ａ、　２２ａ・・・アクチュエータ素子の前面端部
２０ｂ・・・端部 ２４・・・マウンティングブロック ２６、３０・・・圧電部分　　　２８．３２・・・電極
３４・・・管状部分　　　　　３６．３８・・・電極１
１４・・・試料スライド　　１１４ａ・・・リム１１６
・・・スプリングフィンガー １２０、１２２・・・アクチュエーター素子２１０・・
・ゴニオメータロッド ２１２・・・軸受は面　　　　２１４・・・円形試料ス
ライド２１６・・・スプリングフィンガー ２２０、２２２・・・アクチュエーター素子２２０ａ、
　２２２ａ・・・アクチュエーター素子端部２５２・・
・中心点あるいは支点 ２５４・・・円弧

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、キャリアとキャリアに対する試料を含む試料スライ
   ドを移動する装置を有する放射線ビームの調整できる試
   料マウンティングにおいて、 キャリア（１０）は試料スライド（１４）に対し軸受け
   面（１２）を示し、かつ軸受け面（１２）上に試料スラ
   イド（１４）を保持する装置（１６）を備え、かつ 移動装置は２個のアクチュエーター素子（２０、２２）
   を含み、その各々は試料スライド（１４）との結合に役
   立ち、かつ試料スライドより離れた位置から試料スライ
   ドとの嵌合まで移動可能であり、かつまた軸受け面上で
   試料スライドを移動させるために、軸受け面（１２）に
   平行な少なくとも１方向（Ｘ、Ｙ）で移動可能な各部分
   （２０ａ、２２ａ）を示すこと、 を特徴とする装置。 ２、結合部分（２０ａ、２２ａ）はお互に実質的に垂直
   に延在することが好ましく、かつ軸受け面に平行である
   ２つの異なる方向（Ｘ、Ｙ）に移動可能である特許請求
   の範囲第１項に記載の装置。 ３、アクチュエーター素子（２０、２２）がロッド形状
   をしており、第１端部（２０ｂ）でキャリア（１０）に
   接続され、第２端部（２０ａ、２２ａ）によって延在し
   、そこで結合装置は試料スライドを支えるのに役立つ軸
   受け面（１２）の領域にわたって位置し、かつ軸受け面
   （１２）の面にそれぞれ垂直および平行な第２端部を移
   動する各装置（２６、３０）、ならびに関連するアクチ
   ュエーター素子の縦方向に第２端部を移動する装置（３
   ４）を示すことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の装置。 ４、移動装置（２６、３０、３４）が圧電装置であるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第３項に記載の装置。 ５、移動装置が磁気装置であることを特徴とする特許請
   求の範囲第３項に記載の装置。 ６、キャリア（１０）は放射線ビーム装置に横方向に導
   入するよう設計されたゴニオメータロッドの形状を実質
   的に有し、かつ 軸受け面（１２）はゴニオメータロッドの軸（１８）を
   実質的に通過すること、 を特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第５項のいず
   れか１つに記載の装置。 ７、試料スライド（１１４、２１４）が円形であり、か
   つ アクチュエーター素子（１２０、１２２；２２０、２２
   ２）が試料スライド（１１４、２１４）を回転するため
   に反対方向に調整可能であること、 を特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第６項に記載
   の装置。 ８、アクチュエーター素子（１２０、１２２）が試料ス
   ライド（１１４）の直径方向に反対側に嵌合し、かつ反
   対方向に横方向に軸回転可能であることを特徴とする特
   許請求の範囲第７項に記載の装置。 ９、キャリア（２１０）が短縮されたゴニオメータロッ
   ドであり、それは顕微鏡のビーム通路の軸の前で間隔を
   もって終端し、 試料スライド（２１４）が実質的に円形であり、 試料スライド（２１４）を保持する装置（２１６）は、
   その直径の半分以上がキャリア（２１０）の端部から、
   ビーム通路の軸が試料スライド（２１４）の中央領域を
   通過する程度まで突出するような態様で試料スライド（
   ２１４）が保持さることを許容すること、および アクチュエーター素子（２２０、２２２）がお互のそば
   でキャリアに平行に配置され、かつ試料スライド（２１
   ４）のリムの離れた部分にわたって延在していること、 を特徴とする特許請求の範囲第７項に記載の装置。 １０、その端部が試料スライド（２１４）のリムで嵌合
   するアクチュエーター素子（２２０、２２２）の端部（
   ２２０ａ、２２２ａ）がそれらの縦方向と反対方向に調
   整可能であり、かつまた相互に反対な調整値（ｘ）の量
   に依存して縦方向（Ｘ方向）に同じ向きに調整可能であ
   り、ならびに軸受け面に平行かつ縦方向に垂直である方
   向（Ｙ方向）に調整可能であること、 を特徴とする特許請求の範囲第９項に記載の装置。 １１、特に特許請求の範囲第１項ないし第１０項のいず
   れか１つに記載の調整できる試料マウンティング装置の
   動作方法において、 調整の監視および／または制御が調整の間あるいはあと
   で記録された少なくとも１つの放射線影像と基準放射線
   影像との相関によって起こることを特徴とする方法。 １２、装置内の荷電粒子の放射線影像は最大の相間関数
   が所定の相関領域の境界に位置するような態様で電気的
   に偏位され、かつ 調整装置は相関の最大が関連領域の反対の境界に達する
   ような時間まで動作すること、を特徴とする特許請求の
   範囲第１１項に記載の方法。 １３、試料の調整の制御に役立つ相関は調整されるべき
   試料領域の外側に位置している試料の領域／試料キャリ
   ア装置によって遂行されることを特徴とする特許請求の
   範囲第１１項もしくは第１２項に記載の方法。 １４、試料調整の制御に役立つ相関は関連する試料領域
   の記録に用いられているものよりも小さい倍率で遂行さ
   れていることを特徴とする特許請求の範囲第１１項、第
   １２項、第１３項のいずれか１つに記載の方法。 １５、粗い粒子の炭素箔あるいは統計的に分布している
   細孔を持つ格子構造のような相対的に粗く構成さた試料
   キャリアが用いらていることを特徴とする特許請求の範
   囲第１１項ないし第１４項のいずれか１つに記載の方法
   。