JPS6312652B2 - - Google Patents
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- JPS6312652B2 JPS6312652B2 JP56007766A JP776681A JPS6312652B2 JP S6312652 B2 JPS6312652 B2 JP S6312652B2 JP 56007766 A JP56007766 A JP 56007766A JP 776681 A JP776681 A JP 776681A JP S6312652 B2 JPS6312652 B2 JP S6312652B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- distribution plate
- blown
- blowing
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/1818—Feeding of the fluidising gas
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Industrial Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、反応ガスを反応ガス吹込み床盤の上
部の流動層中に供給するために反応器の床盤開口
部中にガス吹込み管を備えたことより成る流動層
反応器用の反応ガス吹込み床盤に係る。
部の流動層中に供給するために反応器の床盤開口
部中にガス吹込み管を備えたことより成る流動層
反応器用の反応ガス吹込み床盤に係る。
［従来の技術および発明が解決しようとする問題
点］ 流動層は通例担体あるいは触媒として働く固体
細粒の集団が流通する際に流れ抵抗のために圧力
損失を受け、従つて該集団上に１つの力が加えら
れることによつて生ずるものである。流動層は
種々の化学反応に利用され特定の方法に対しては
特によく適合する。何となれば流動層は良好な温
度伝導及び連続的な運転を可能ならしめ、良好な
熱伝達並びに高い反応速度を与え、また接触反応
の場合は反応ガスと触媒との接触の不変が保証で
きるからである。しかし物質、特に装入ガスを流
動層中に導入するには困難をともなうことが知ら
れている。
点］ 流動層は通例担体あるいは触媒として働く固体
細粒の集団が流通する際に流れ抵抗のために圧力
損失を受け、従つて該集団上に１つの力が加えら
れることによつて生ずるものである。流動層は
種々の化学反応に利用され特定の方法に対しては
特によく適合する。何となれば流動層は良好な温
度伝導及び連続的な運転を可能ならしめ、良好な
熱伝達並びに高い反応速度を与え、また接触反応
の場合は反応ガスと触媒との接触の不変が保証で
きるからである。しかし物質、特に装入ガスを流
動層中に導入するには困難をともなうことが知ら
れている。
流動層を運転するために反応器の底部にフイル
タ床盤を設けることは公知であり、この場合装入
ガスはフイルタ開口部を通つて下方から一定の吹
込み速度を以つて流動層を貫いて吹きつけられ
る。フイルタ床盤の助けによつて流動層を運転す
る場合には、既に短かい運転時間の後に固体細粒
の一部分が流動層からフイルタ床盤の開口部に逆
流することがある。このことはフイルタ開口部の
狭窄及び閉塞並びに不本意な、堪えられない接触
反応の前反応を生ぜしめ、結局は流動層の運転停
止が強制される。
タ床盤を設けることは公知であり、この場合装入
ガスはフイルタ開口部を通つて下方から一定の吹
込み速度を以つて流動層を貫いて吹きつけられ
る。フイルタ床盤の助けによつて流動層を運転す
る場合には、既に短かい運転時間の後に固体細粒
の一部分が流動層からフイルタ床盤の開口部に逆
流することがある。このことはフイルタ開口部の
狭窄及び閉塞並びに不本意な、堪えられない接触
反応の前反応を生ぜしめ、結局は流動層の運転停
止が強制される。
米国特許3896560からは、流動層反応器用のガ
ス吹込み床盤が公知であり、その床盤開口部を通
つて導管が延びており、この導管はその上部が多
少吹込み床盤から上方へ突出している。ガス吹込
み導管の流出開口部は吹込み導管の上端から間隔
を置いて１つのプレートで蔽われ、流動層から沈
下する固体細粒が吹込み導管の内部に達すること
を防止するようになつている。しかしながらこの
ガス吹込み床盤の場合は流動層から固体細粒の一
部が吹込み導管の内部に達し、この場合閉塞及び
前反応を生じ、とりわけ吹込み導管の内側断面積
が上から下に向うとともに著しく減少することが
避けられない。
ス吹込み床盤が公知であり、その床盤開口部を通
つて導管が延びており、この導管はその上部が多
少吹込み床盤から上方へ突出している。ガス吹込
み導管の流出開口部は吹込み導管の上端から間隔
を置いて１つのプレートで蔽われ、流動層から沈
下する固体細粒が吹込み導管の内部に達すること
を防止するようになつている。しかしながらこの
ガス吹込み床盤の場合は流動層から固体細粒の一
部が吹込み導管の内部に達し、この場合閉塞及び
前反応を生じ、とりわけ吹込み導管の内側断面積
が上から下に向うとともに著しく減少することが
避けられない。
雑誌“Hydrocarbon Processing”42巻、第６
号、1963年、167頁乃至172頁からはいま一つのガ
ス吹込み床盤が公知であり、その開口部中にガス
分配器が固定されている。このガス分配器は１つ
のケーシングから成り、その中には互いにわずか
の垂直間隔を置いて２つの孔あき板が配置され、
それらの間に極めて細かいメツシユを有する織ら
れたガラス織物又は繊維ガラスから成るフイルタ
封入物が横たわる。ガス分配器のケーシングはガ
ス吹込み床盤の上部に存在し、従つて流動層から
沈下し且つケーシングの間で吹込み床盤上に堆積
された固体細粒の一部分はもはや流動層から沈下
し且つ上部の孔あき板上にぶつかる一部の硬い固
体細粒は短時間以内にすでにガス分配器表面を突
き抜けて、分配器中に望ましくない強い発熱反応
をひき起こすことになる。
号、1963年、167頁乃至172頁からはいま一つのガ
ス吹込み床盤が公知であり、その開口部中にガス
分配器が固定されている。このガス分配器は１つ
のケーシングから成り、その中には互いにわずか
の垂直間隔を置いて２つの孔あき板が配置され、
それらの間に極めて細かいメツシユを有する織ら
れたガラス織物又は繊維ガラスから成るフイルタ
封入物が横たわる。ガス分配器のケーシングはガ
ス吹込み床盤の上部に存在し、従つて流動層から
沈下し且つケーシングの間で吹込み床盤上に堆積
された固体細粒の一部分はもはや流動層から沈下
し且つ上部の孔あき板上にぶつかる一部の硬い固
体細粒は短時間以内にすでにガス分配器表面を突
き抜けて、分配器中に望ましくない強い発熱反応
をひき起こすことになる。
［発明の目的］
本発明の目的は、閉塞が確実に発生しない、従
つて望ましくない前反応が生じない反応ガス吹込
み床盤を提供することである。
つて望ましくない前反応が生じない反応ガス吹込
み床盤を提供することである。
［問題点を解決するための手段］
この目的は次のようにして達成される。すなわ
ち冒頭に述べた種類のガス吹込み床盤において、
本発明に従つて床盤の開口部中に各々１つの中央
吹込み管を有するガス吹込み胴体が配置され、該
吹込み管の出口開口部の上部に間隔を置いて１つ
のガスを透過する分配板が該吹込み胴体上に配置
されることである。
ち冒頭に述べた種類のガス吹込み床盤において、
本発明に従つて床盤の開口部中に各々１つの中央
吹込み管を有するガス吹込み胴体が配置され、該
吹込み管の出口開口部の上部に間隔を置いて１つ
のガスを透過する分配板が該吹込み胴体上に配置
されることである。
［作用］
分配板から装入ガスの比較的大きい断面を有す
る出口は、分配板を通じて流れるガスの流れ及び
その結果広範囲に均質な流動層を与えることにな
り、それにより多くの場合は接触的に作用する固
体細粒が高い相対的速度を持つことが避けられ、
これによつて固体粒子はあまり破砕されなくな
る。その上さらに装入ガスは流動層と共に一様な
浮遊状態を形成し、従つて激しい発熱反応におい
ても有害な局部的過熱が避けられる。
る出口は、分配板を通じて流れるガスの流れ及び
その結果広範囲に均質な流動層を与えることにな
り、それにより多くの場合は接触的に作用する固
体細粒が高い相対的速度を持つことが避けられ、
これによつて固体粒子はあまり破砕されなくな
る。その上さらに装入ガスは流動層と共に一様な
浮遊状態を形成し、従つて激しい発熱反応におい
ても有害な局部的過熱が避けられる。
分配板は多孔性材料より成ることが好都合であ
る。さらに断熱材料より成る分配板を用いること
が推奨される。このことは流動層からガス吹込み
管への熱伝達を避け、また有害な前反応及びとり
わけ吹込みガスを冷却する作用を阻止する。なお
望ましくない前反応を阻止するために分配板は接
触反応に不活性な材料より成ることが合目的であ
る。
る。さらに断熱材料より成る分配板を用いること
が推奨される。このことは流動層からガス吹込み
管への熱伝達を避け、また有害な前反応及びとり
わけ吹込みガスを冷却する作用を阻止する。なお
望ましくない前反応を阻止するために分配板は接
触反応に不活性な材料より成ることが合目的であ
る。
分配板は吹込みガス中にありうべき固形不純物
の10乃至200倍の大きさの開口部を有することが
合目的である。このように粗い孔を有する分配器
を用いることによつて、不純物を含む装入ガスの
場合においても何も閉塞が起らないことが確実と
なり、一様な運転安全性が保証される。とりわけ
脈動衝撃を避けることができるので、流動層が運
転せずに停止状態にある場合においても固体細粒
が流動層からガス吹込み胴体中のガス吹込み管へ
達することは全くなく、従つてその閉塞の危険は
除かれる。
の10乃至200倍の大きさの開口部を有することが
合目的である。このように粗い孔を有する分配器
を用いることによつて、不純物を含む装入ガスの
場合においても何も閉塞が起らないことが確実と
なり、一様な運転安全性が保証される。とりわけ
脈動衝撃を避けることができるので、流動層が運
転せずに停止状態にある場合においても固体細粒
が流動層からガス吹込み胴体中のガス吹込み管へ
達することは全くなく、従つてその閉塞の危険は
除かれる。
ガス吹込み胴体の上部領域には分配板用の受け
入れポケツトが存在する。従つてガス吹込み管は
その円錐状拡大部を経て受け入れポケツトにつな
がることとなる。
入れポケツトが存在する。従つてガス吹込み管は
その円錐状拡大部を経て受け入れポケツトにつな
がることとなる。
分配板の下部で装入ガスの一様な分配を可能な
らしめるために、分配板を受け入れポケツト中に
配置されたスペーサ上に弾性的に支承することが
できる。受け入れポケツトの側壁と分配板との間
にはさらにパツキングを置くことができる。この
パツキングは断熱材料より成ることが有利であ
り、その上接触反応に対し不活性にすべきであ
る。分配板が下方から作用する圧力によつて受け
入れポケツトからはずされることを阻止するため
には、分配板の上部にわずかの間隔を置いて分配
板用の取り付け具を配置することが推奨される。
らしめるために、分配板を受け入れポケツト中に
配置されたスペーサ上に弾性的に支承することが
できる。受け入れポケツトの側壁と分配板との間
にはさらにパツキングを置くことができる。この
パツキングは断熱材料より成ることが有利であ
り、その上接触反応に対し不活性にすべきであ
る。分配板が下方から作用する圧力によつて受け
入れポケツトからはずされることを阻止するため
には、分配板の上部にわずかの間隔を置いて分配
板用の取り付け具を配置することが推奨される。
装入ガスが主として分配板の中央領域を通つて
流れるのを避けるために、分配板におけるガス吹
込み管の円錐状拡大部の上部に相当する場所にじ
やま板を取り付ける。これによつて到来するガス
の流れが分配板の中央領域から分散される。又流
動層における死区域の生成を避けるために相隣る
ガス吹込み胴体の間に円錐状の隆起部を配置し、
同じ理由から反応器の内壁に接して存在するガス
吹込み胴体から該器壁に向つてガス吹込み床盤が
次第に高くなつている。これ等の方策によつて流
動層内において装入ガスの浮遊あるいは旋回が何
も行なわれない死区域の生じることが避けられ、
又固体細粒の破砕も生じない。
流れるのを避けるために、分配板におけるガス吹
込み管の円錐状拡大部の上部に相当する場所にじ
やま板を取り付ける。これによつて到来するガス
の流れが分配板の中央領域から分散される。又流
動層における死区域の生成を避けるために相隣る
ガス吹込み胴体の間に円錐状の隆起部を配置し、
同じ理由から反応器の内壁に接して存在するガス
吹込み胴体から該器壁に向つてガス吹込み床盤が
次第に高くなつている。これ等の方策によつて流
動層内において装入ガスの浮遊あるいは旋回が何
も行なわれない死区域の生じることが避けられ、
又固体細粒の破砕も生じない。
本発明に係る反応ガス吹込み床盤をもつてすれ
ば、流動層の故障のない連続運転が可能であり、
また運転が繰返し停止される場合においても決し
て状態の悪化をひき起こすことはない。
ば、流動層の故障のない連続運転が可能であり、
また運転が繰返し停止される場合においても決し
て状態の悪化をひき起こすことはない。
［実施例］
本発明は図示された１実施例について以下さら
に詳細に説明される。
に詳細に説明される。
流動層反応器１中に床盤開口部３を有するガス
吹込み床盤２が配置され、その中にガス分配器４
が存在する。ガス分配器４は１つのガス吹込み胴
体５及び１つのガス分配板６から成る。ガス吹込
み胴体５の中央部にはガス吹込み管１９があり、
その上部は円錐状に拡大部１８を形成している。
ガス吹込み床盤２の上部に小さい間隔を置いて熱
交換器７が発熱反応の際に生ずる反応熱を奪うた
めに配置されている。相隣るガス吹込み胴体５の
上部にガス吹込み床盤２の円錐状隆起部８が存在
する。さらに反応器の内壁に接して存在するガス
吹込み胴体５から該器壁に向つてガス吹込み床盤
２の表面９が次第に高くなつている。ガス吹込み
床盤２の上部には流動層１０が、またガス吹込み
床盤２の下部にはガス室１１が存在する。
吹込み床盤２が配置され、その中にガス分配器４
が存在する。ガス分配器４は１つのガス吹込み胴
体５及び１つのガス分配板６から成る。ガス吹込
み胴体５の中央部にはガス吹込み管１９があり、
その上部は円錐状に拡大部１８を形成している。
ガス吹込み床盤２の上部に小さい間隔を置いて熱
交換器７が発熱反応の際に生ずる反応熱を奪うた
めに配置されている。相隣るガス吹込み胴体５の
上部にガス吹込み床盤２の円錐状隆起部８が存在
する。さらに反応器の内壁に接して存在するガス
吹込み胴体５から該器壁に向つてガス吹込み床盤
２の表面９が次第に高くなつている。ガス吹込み
床盤２の上部には流動層１０が、またガス吹込み
床盤２の下部にはガス室１１が存在する。
ガス吹込み胴体５の上部領域中には１つの分配
板６受け入れポケツト１２が設けられ、その中で
弾性スペーサ１３上に分配板６が支承されてい
る。分配板６とガス吹込み胴体５の壁部１４との
間には断熱的で、接触反応に不活性な材料から成
るパツキング１５が配置されている。パツキング
１５の上部には分配板と間隔を置いて１つの取り
付け具１６が存在し、これは分配板６が不本意に
その位置からはずれることができないように受け
入れポケツト１２中に突出している。
板６受け入れポケツト１２が設けられ、その中で
弾性スペーサ１３上に分配板６が支承されてい
る。分配板６とガス吹込み胴体５の壁部１４との
間には断熱的で、接触反応に不活性な材料から成
るパツキング１５が配置されている。パツキング
１５の上部には分配板と間隔を置いて１つの取り
付け具１６が存在し、これは分配板６が不本意に
その位置からはずれることができないように受け
入れポケツト１２中に突出している。
分配板６の中央部の下部で、ガス吹込み管１９
の円錐状拡大部１８の上部の位置にじやま板１７
が水平に置かれている。ガス吹込み胴体５は下方
から、孔２０中の図示されていないねじによつ
て、ガス吹込み床盤２に固定されている。
の円錐状拡大部１８の上部の位置にじやま板１７
が水平に置かれている。ガス吹込み胴体５は下方
から、孔２０中の図示されていないねじによつ
て、ガス吹込み床盤２に固定されている。
図示された種類の流動層反応器においては、例
えば一酸化炭素に富んだ石炭−気化ガスがメタン
に富んだガスに転換される。主反応は下記の通り
であり、その際多量の熱を発生する。
えば一酸化炭素に富んだ石炭−気化ガスがメタン
に富んだガスに転換される。主反応は下記の通り
であり、その際多量の熱を発生する。
() CO＋3H2＝CH4＋H2O
() CO＋H2O＝CO2＋H2
() CO2＋4H2＝CH4＋2H2O
() 2CO＝Ｃ＋CO2
この流動層反応器の運転に際しては、気化ガス
がガス室１１からガス分配器４のガス吹込み管１
９を通つてその円錐状拡大部１８に達し、ここか
らガスの一部はじやま板１７によつて方向転換し
た後、分配板６によつて均一に分散されて流動層
１０より成る反応室に達する。
がガス室１１からガス分配器４のガス吹込み管１
９を通つてその円錐状拡大部１８に達し、ここか
らガスの一部はじやま板１７によつて方向転換し
た後、分配板６によつて均一に分散されて流動層
１０より成る反応室に達する。
流動層から沈下した固体細粒はガス吹込み床盤
２の円錐状隆起部８及び斜面９によつて分配板６
上へすべり落ち、そこから再び流動層１０へ運び
戻される。
２の円錐状隆起部８及び斜面９によつて分配板６
上へすべり落ち、そこから再び流動層１０へ運び
戻される。
第１図は本発明に係る反応ガス吹込み床盤の横
断面を示す。第２図は第１図におけるガス分配器
の拡大図を示す。 １……流動層反応器（器壁）、２……ガス吹込
み床盤、３……床盤開口部、４……ガス分配器、
５……ガス吹込み胴体、６……分配板、８……隆
起部、１０……流動層、１１……ガス室、１２…
…分配板受け入れポケツト、１３……スペーサ、
１４……側壁部、１５……パツキング、１６……
取り付け具、１７……じやま板、１８……円錐状
拡大部、１９……ガス吹込み管。
断面を示す。第２図は第１図におけるガス分配器
の拡大図を示す。 １……流動層反応器（器壁）、２……ガス吹込
み床盤、３……床盤開口部、４……ガス分配器、
５……ガス吹込み胴体、６……分配板、８……隆
起部、１０……流動層、１１……ガス室、１２…
…分配板受け入れポケツト、１３……スペーサ、
１４……側壁部、１５……パツキング、１６……
取り付け具、１７……じやま板、１８……円錐状
拡大部、１９……ガス吹込み管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 少くとも１つの上部が円錐状に拡がつている
反応ガス吹込み管のそれぞれの上部にガス透過性
分配板を備えたことより成る流動層反応器用の反
応ガス吹込み床盤において、各反応ガス吹込み管
１９はそれぞれガス吹込み胴体５の中央部に設け
られ、該反応ガス吹込み管１９上部の円錐状拡大
部１８の上部にガス透過性分配板６用の受入れポ
ケツト１２が設けられ、該分配板６は該受入れポ
ケツト１２中の反応ガス吹込み管１９の円錐状拡
大部１８の上部に間隔を置いて設けられ、該分配
板６中央部の下部にじやま板１７が設けられ、相
隣る反応ガス吹込み胴体５の間に円錐状隆起部８
が設けられ、反応器の内壁に接して存在するガス
吹込み銅体５から該器壁に向つてガス吹込み床盤
２が次第に高くなつていることを特徴とする反応
ガス吹込み床盤。 ２ 分配板６が多孔性材料より成ることを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載の反応ガス吹込
み床盤。 ３ 分配板６が断熱材料より成ることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の反応
ガス吹込み床盤。 ４ 分配板６が吹込みガスの接触反応に不活性な
材料より成ることを特徴とする特許請求の範囲第
１項乃至第３項のいずれか１つに記載の反応ガス
吹込み床盤。 ５ 分配板６が吹込みガス中にありうべき固形不
純物の10乃至200倍の大きさの開口部を有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４項
のいずれか１つに記載の反応ガス吹込み床盤。 ６ 分配板６が分配板受け入れポケツト１２中に
配置されたスペーサ１３上に弾性的に支承されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至
第５項のいずれか１つに記載の反応ガス吹込み床
盤。 ７ 分配板受け入れポケツト１２の側壁部１４と
分配板６との間にパツキング１５が配置されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第
６項のいずれか１つに記載の反応ガス吹込み床
盤。 ８ パツキング１５が断熱材料より成ることを特
徴とする特許請求の範囲第７項に記載の反応ガス
吹込み床盤。 ９ パツキング１５が吹込みガスの接触反応に不
活性な材料より成ることを特徴とする特許請求の
範囲第７項又は第８項に記載の反応ガス吹込み床
盤。 １０ 分配板受け入れポケツト１２の側壁部１４
の分配板６の上部に間隔を置いて分配板６用の取
付け具１６が配置されていることを特徴とする特
許請求の範囲第１項乃至第９項のいずれか１つに
記載の反応ガス吹込み床盤。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3001961A DE3001961C2 (de) | 1980-01-21 | 1980-01-21 | Anströmboden für einen Wirbelschichtreaktor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56115633A JPS56115633A (en) | 1981-09-10 |
| JPS6312652B2 true JPS6312652B2 (ja) | 1988-03-22 |
Family
ID=6092525
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP776681A Granted JPS56115633A (en) | 1980-01-21 | 1981-01-21 | Incident flowing bed board for eddy layer reactor |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4347672A (ja) |
| JP (1) | JPS56115633A (ja) |
| AU (1) | AU542228B2 (ja) |
| DE (1) | DE3001961C2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4841884A (en) * | 1988-05-26 | 1989-06-27 | A. Ahlstrom Corporation | Distributor plate for fluidized bed reactor |
| FR2635470A1 (fr) * | 1988-08-19 | 1990-02-23 | Charbonnages De France | Dispositif d'alimentation en gaz de fluidisation des ouvertures d'une grille de support d'un lit de particules a fluidiser |
| CN102413814A (zh) * | 2009-04-29 | 2012-04-11 | 瑞恩药品公司 | 用于神经保护和治疗神经变性病症的克拉维酸类物质制剂 |
| US20110083593A1 (en) * | 2009-10-12 | 2011-04-14 | AirClean Technologies, Inc. | Fluidized combustor |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1320162A (en) * | 1970-03-10 | 1973-06-13 | Thann E T Mulhouse | Sole plate for fluidised bed reactor |
| US3896560A (en) * | 1973-06-18 | 1975-07-29 | United States Steel Corp | Two-stage fluidized bed reactor with nozzle tuyeres |
| US3995771A (en) * | 1975-05-19 | 1976-12-07 | Kaiser Aluminum & Chemical Corporation | Feeding device for particulate matter |
| JPS5847216B2 (ja) * | 1975-07-23 | 1983-10-21 | バブコツク日立株式会社 | チヨクレツタダンリユウドウソウガスブンサンソウチツキハンノウロ |
| JPS5743697Y2 (ja) * | 1979-03-30 | 1982-09-27 |
-
1980
- 1980-01-21 DE DE3001961A patent/DE3001961C2/de not_active Expired
-
1981
- 1981-01-21 JP JP776681A patent/JPS56115633A/ja active Granted
- 1981-01-21 US US06/226,703 patent/US4347672A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-01-21 AU AU66516/81A patent/AU542228B2/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU6651681A (en) | 1981-07-30 |
| DE3001961C2 (de) | 1984-08-16 |
| JPS56115633A (en) | 1981-09-10 |
| AU542228B2 (en) | 1985-02-14 |
| US4347672A (en) | 1982-09-07 |
| DE3001961A1 (de) | 1981-08-13 |
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