JPS63132467A - 集積回路 - Google Patents

集積回路

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JPS63132467A
JPS63132467A JP61280413A JP28041386A JPS63132467A JP S63132467 A JPS63132467 A JP S63132467A JP 61280413 A JP61280413 A JP 61280413A JP 28041386 A JP28041386 A JP 28041386A JP S63132467 A JPS63132467 A JP S63132467A
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JP
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capacitor
transistor
ground potential
output buffer
switching
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JP61280413A
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JPH0722193B2 (ja
Inventor
Hisako Mizuoka
水岡 久子
Yukihiko Shimazu
之彦 島津
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D89/00Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
    • H10D89/60Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD]
    • H10D89/601Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs

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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は集積回路、特にその出力バッファ回路に関す
るものである。
〔従来の技術〕
出力バッファ回路は、LSI内部の微細パターンで形成
された論理回路とLSI外部とのインターフェイスとな
る回路で、出力端子を通して接続されているICの入力
端子容量やポートの配線等に付く容量を、決められた短
時間内に充放電して連動する必要があるため、通常LS
Iの内部ゲートに比べ駆動力の大きな回路となっている
出力バッファ回路の動作を説明するために従来例を第2
図に示す。+11の実線で曲1れた部分は、LSIチッ
プに相当し、(2)の一点鎖線で囲まれた部分はインバ
ータ一段で代表させた出力バッファ回路で、これを通常
レイアウト設計時に1つのセルとする。(3)は電源配
線(VDD)、(4)は接地電位配線(GND) 、+
5+は内部回路からの入力信号線、(6)はP型MOS
トランジスタ、(7)はN型MO5トランジスタ、(8
)は外部への出力端子でポンディングパッドに相当し、
(9)はLSI外部の′TIt源である。イ0し出力バ
ッファ回路(2)は動作説明の為に、バッファ回路の最
終段のインバータ回路のみを示しているが、通常のバッ
ファ回路では、最終段のチャネル幅の大きなトランジス
タを直接内部のゲートでドライブすると遅延時間の増大
を招くため、内部ゲートよりも大きな駆動能力のゲート
を最終段トランジスタの前段に接続するのが普通である
。また、トライステート出力が可能な出力バッファ回路
では、制御用のゲートなどが含まれている。実際のLS
Iでは、チップの周辺に沿って電源配線(3)、接地電
位配線(41,複数個の出力バッファ回路(2)が配置
されているのが一般的である。
次に外部に容量性負荷がついている場合を仮定し、動作
を説明する。内部回路から“’Low“°レベルの信号
が入力端子(5)に入力されると、N型MOSトランジ
スタ(7)がOFF L、、P型MO5l−ランジスタ
(61がONするため、出力端子(8)に接続されてい
る負荷容量が充電され、出力端子(8)には°”旧g 
h =ルベルの信号が出力される。逆に’H1gh”レ
ベルの信号が入力されるとP型MO3)ランジスタ(6
)がOFF。
N型MoSトランジスタ(7)がONするため、出力端
子(6)に接続されている負荷容儀が放′亀され、出力
H”’Low” ”レベルとなる。これがバッファ回路
の基本となるインバータ回路の動作で、チャネル幅/チ
ャネル長(W/L)の大きなインバータ回路を用いるこ
とによりLSI外部の信号線を短時間に駆動することが
できる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
動作上の問題点を説明するために、第2図と等価な回路
を第3図に示す。9JUJ3図において、(9)は[d
lill[圧VDDを与える電源で5vと仮定する。(
121〜(171は点Aから点Bまでの電源配線に寄生
する抵抗、インダクタンス及びコンデンサを示したもの
である。また、Q8)は外部負荷容量を示している。
高速・多ビンのLSIの場合には、多くの出力(例えば
30本以上)を高速(例えば10ns以内)にON、 
OFFするので、電源配線(VDD)と接地“電位配線
(GND )の14c流が瞬間的に大きくなる。よって
直流抵抗成分やインダクタンスによる抵抗が以下の問題
を生じさせる。今、P型MO3トランジスタ(6)がo
Nシ外部負荷容量を充電し始めると、点Aでは5vを示
すが、電源配線の抵抗成分により電源から離れた点Bで
は電圧降下が起こり、VDDは5V以下に低下する。ま
た、N型MO3トランジスタ(7)がON l、て外部
負荷容量を放電する場合には、N型MO3)ランジスタ
(7)を通して外部から電流が流れ込み内部の接地電位
配線(4)を通って外部の接地電位配線へ流れるので、
配線の抵抗成分により点りの電位が上昇する。通常のL
SIでは多数の出力バッファ回路が共通の電源配線(V
DD)、接地電位配線(GND)を使用しているため、
それらのスイッチング時の電源変動は無視できなくなる
。たとえば32bマイクロプロセツサのデータバス、ア
ドレスバス等に用いられている出力バッファ回路では、
同時に32個等の出力端子が”LOW” 4 ”Hig
h”または゛旧gh”−’“Low”K変わることもあ
るからである。との出力バッファ回路のスイッチングに
よって発生する電源変動は内部論理回路を誤動作させた
り、出力バッファ回路と同一の電源配線(VDn)や接
地電位配線(GND)を共有している入力バッファ回路
の保護゛ダイオード等にリーク電流を生じさせる原因と
なるなどの問題点があった。
この発明はか\る問題点を解決するためになされたもの
で、同一アルミ配線の電源配線(VDD)や接地電位配
線(GND )上に多数の出力バッファ回路が存在する
状態でも、各々の出力バッファ回路の電源電位や接地電
位の変化の割合を低くする集積回路を得ることを目的と
している。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る集積回路は、出力バッファごとに電源配
線(3)と接地電位配線(4)の間に電源電圧維持の為
の維持コンデンサを挿入したものである。
〔作用〕
この発明においては、維持コンデンサが出力バッファの
スイッチングによる電源電位や接地電位の変動を抑制す
る。
〔実施例〕
第1図(11)は、この発明の一実施例の回路を示す図
で、(1)〜(9)は第2図の従来装置と全く同一であ
る。また(lO)はバッファに形成した維持コンデンサ
である。第1図(aJを具体的にLSIチップ上で実現
する方法としてそのパターン図を第1図(b+に示す。
この第1図(b)では維持コンデンサをMOS トラン
ジスタのゲート容量(斜線部分)で実現させている。
なお、(11)の二点鎖線で囲まれた部分はP型基板上
にN型拡散を施したN−ウェルであり、第1図(11)
と同一の符号は同一部分または相当部分を示す。
上記のように構成された出力バッファ回路において、P
型MO3)ランジスタ(6)がONすると、予め維持コ
ンデンサ(10)に蓄積されていた電荷がP型MO5I
−ランジスタ(6)を通して外部負荷容量を充寛しはじ
めるため、点Bにおけるt源電位のスイッチングによる
瞬間的な電圧降下は防ぐことができる。同様にしてN型
MOS l’ランジスタ(7)がON L。
た場合にも、維持コンデンサ(10)により点りにおけ
る接地電位のスイッチングによる瞬間的な電圧上昇を防
ぐことができる。
なお、上記実施例では維持コンデンサとして、MOS 
トランジスタのゲート容量を用いたが、他の実施例とし
てはMOSトランジスタの接合容量を用いることも可能
で、その場合のパターン図を第1図(CJ及び第1図(
d+に示す。第1図<crはP型基板上のN型拡散領域
で接合容量(斜線部分)を、第1図(d+はP型基板上
にN型拡散を施したN−ウェル上のP型拡散領域で、接
合容量(斜線部分)を実現したものである。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば、出力バッファ回路に
おりるスイッチング時の1!#電位や接地電位の電圧降
下、′電圧上昇を減少することができ、リーク電流や内
部論理回路への悪影響を防ぐ効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(aJはこの発明の一実施例を示す回路図、第1
図(b+i″i第1図(a>に対応するパターン図でM
OSトランジスタのゲート容量をコンデンサとして用い
たもの、第1図(C)は同じく第1図(aJに対応する
パターン図で、MOS !−ランジスタのP型基板上の
N型拡散領域での接合容量をコンデンサとして用いたも
の、第1図(d+も同じく第1図(aJに対応するパタ
ーン図で、P型基板上にN型拡散を施したN−ウェル上
のP型拡散領域での接合容量をコンデンサとして用いた
もの、第2図は従来のバッファ回路を示す回路図、第3
図は従来のバッファ回路の動作を説明する回路図である
。 図において、(1)の部分はLSIチップに相当し、(
2)の部分は出力バッファのセル、(3)は電源配線(
■DD)、(4)は接地電位配線(GND)、(lO)
は維持コンデンサ、(Illの二点鎖線で囲まれた部分
はN−ウェルである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)出力端子と電源配線(V_D_D)を接続する第
    1のトランジスタと、前記出力端子と接地電位配線(G
    ND)とを接続する第2のトランジスタを有する出力バ
    ッファにおいて、総てまたは一部の前記出力バッファ毎
    に、前記第1及び第2のトランジスタが接続される前記
    電源配線(V_D_D)及び前記接地電位配線(GND
    )の間に、コンデンサを形成したことを特徴とする集積
    回路。
  2. (2)コンデンサとして、MOSトランジスタのゲート
    容量を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の集積回路。
  3. (3)コンデンサとして、MOSトランジスタの接合容
    量を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の集積回路。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5193171A (ja) * 1974-12-30 1976-08-16
JPS5238890A (en) * 1975-09-23 1977-03-25 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor device
JPS617660A (ja) * 1984-06-21 1986-01-14 Toshiba Corp 半導体装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5193171A (ja) * 1974-12-30 1976-08-16
JPS5238890A (en) * 1975-09-23 1977-03-25 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor device
JPS617660A (ja) * 1984-06-21 1986-01-14 Toshiba Corp 半導体装置

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