JPS63134554U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63134554U JPS63134554U JP2678787U JP2678787U JPS63134554U JP S63134554 U JPS63134554 U JP S63134554U JP 2678787 U JP2678787 U JP 2678787U JP 2678787 U JP2678787 U JP 2678787U JP S63134554 U JPS63134554 U JP S63134554U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal vapor
- vapor deposited
- deposited film
- resistor
- silicon substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
第１図は、本考案に係る抵抗素子の要部のみを
示す断面図、第２図は、従来の抵抗素子の断面図
である。 １１……シリコン基板、１２……酸化膜、１３
……金属蒸着膜、１４……切溝、１５……レーザ
光線。
示す断面図、第２図は、従来の抵抗素子の断面図
である。 １１……シリコン基板、１２……酸化膜、１３
……金属蒸着膜、１４……切溝、１５……レーザ
光線。
Claims (1)
- シリコン基板に、酸化膜を介して、金属蒸着膜
を形成し、この金属蒸着膜に、レーザ光線を照射
して、酸化膜まで達する切溝を形成し、この切溝
間に残存する金属蒸着膜を抵抗体とする抵抗素子
において、前記切溝を、シリコン基板の垂直面に
対して傾斜して形成したことを特徴とする抵抗素
子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2678787U JPS63134554U (ja) | 1987-02-24 | 1987-02-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2678787U JPS63134554U (ja) | 1987-02-24 | 1987-02-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63134554U true JPS63134554U (ja) | 1988-09-02 |
Family
ID=30828196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2678787U Pending JPS63134554U (ja) | 1987-02-24 | 1987-02-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63134554U (ja) |
-
1987
- 1987-02-24 JP JP2678787U patent/JPS63134554U/ja active Pending