JPS63139632A - 真空吸着装置 - Google Patents

真空吸着装置

Info

Publication number
JPS63139632A
JPS63139632A JP61281814A JP28181486A JPS63139632A JP S63139632 A JPS63139632 A JP S63139632A JP 61281814 A JP61281814 A JP 61281814A JP 28181486 A JP28181486 A JP 28181486A JP S63139632 A JPS63139632 A JP S63139632A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
suction
wafer
positive pressure
negative pressure
supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61281814A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0575539B2 (ja
Inventor
Akihito Hirata
平田 明仁
Yasumasa Nishimura
西村 安正
Tadahiro Fuse
布施 忠宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61281814A priority Critical patent/JPS63139632A/ja
Publication of JPS63139632A publication Critical patent/JPS63139632A/ja
Publication of JPH0575539B2 publication Critical patent/JPH0575539B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Jigs For Machine Tools (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、真空吸着技術、特に、薄い板状物を繰り返し
て吸着保持する技術に関し、例えば、半導体装置の製造
工程において、ウェハを吸着保持するのに利用して有効
な技術に関する。
〔従来の技術〕
半導体装置の製造工程において、ウェハをハンドリング
するシステムとして、エアコンベアと真空吸着装置との
間でウェハを交互に受は渡すように構成されているもの
がある。
このようなシステムに使用される真空吸着装置として、
吸着面を有する吸着ヘッドと、吸着面に開設されている
吸引口と、吸引口に負圧を供給する吸引路と、吸引路の
途中に介設されている第1開閉弁と、吸引路に第2開閉
弁を介して接続されている流体供給路とを備えており、
吸引口によるウェハの吸着保持を解除する際、第1開閉
弁を閉じて負圧の供給を停止した後、第2開閉弁を開い
て吸引口に流体を供給することにより、吸着を解除する
ように構成されているものがある。
なお、真空吸着技術を述べである例としては、特開昭5
7−128939号公報、がある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、このような真空吸着装置においては、真空吸着
保持の解除が第1および第2開閉弁による負圧と正圧と
の切換によって実行されるため、正圧供給時にウェハが
吸着ヘッドに対して遊動する現象が発生し、その結果、
前記エアコンベアへのウェハの受は渡しが不確実になる
という問題点があることが、本発明者によって明らかに
された。
本発明の目的は、吸着保持解除時における被吸着物の遊
動を防止することができる真空吸着装置を提供すること
にある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、次の通りである。
すなわち、吸着面に内側開口とこの内側開口を取り囲む
外側開口とを設けるとともに、両開口に各通気路をそれ
ぞれ接続し、これら通気路に負圧および正圧の供給を切
り換える方向制御弁をそれぞれ介設したものである。
〔作用〕
前記した手段によれば、両方向制御弁を適宜操作するこ
とにより、真空吸着解除時に外側開口への負圧供給を維
持しながら、内側開口へ正圧を供給させることができる
ため、被吸着物と吸着面との関に空気層を局部的かつ一
時的に封じ込めることができる。この空気層により、被
吸着物は瞬間的に反るが、外側開口へ正圧が供給される
と、それ自体の復元力により吸着面から垂直に浮上する
すなわち、被吸着物は横に遊動することなく、吸着面か
ら垂直に浮き上げられて吸着を解除されたことになる。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例である真空吸着装置を示す模
式的平面図、第2図は第1図の■−■線に沿う縦断面図
、第3図はその作用を説明するためのタイムチャート図
、第4図および第5図は同じく縦断面図である。
本実施例において、この真空吸着装置は吸着ヘッド2を
備えており、このヘッド2は図示されない駆動装置によ
り昇降されるように構成されている。吸着へラド2は略
円盤形状に形成されており、その上面は被保持物として
のウェハlの外径よりも小径に設定されて吸着面3を構
成している。吸着面3には実質的に開口をそれぞれ構成
している中心穴4、中間穴5および周辺穴6がそれぞれ
円形の小穴形状に穿設されており、中心穴4は吸着面3
の中心線上に、中間穴5は複数個が吸着面3の同心円上
で中心穴4を取り囲むように周方向に互いに略等間隔に
、また、周辺穴6は複数個が吸着面3の周辺部で中間穴
5を同心円に取り囲むように周方向に互いに略等間隔に
、それぞれ配設されている。
吸着ヘッド2の内部にはIJ1通気路7と第2通気路8
とが互いに流体的に独立する(連通しない)ように配さ
れて開設されており、第1通気路7は中間穴5に、第2
通気路8は中心穴4および周辺穴6にそれぞれ連通する
ように構成されている。
これにより、周辺穴6群は内側開口としての中間穴5群
を取り囲む外側開口を実質的に構成することになる0両
通気路7.8には第1および第2配管9、lOが実質的
に通気路の一部を構成するように流体的にそれぞれ連結
されており、両配管9、lOは真空ポンプ等からなる負
圧源11、およびエアタンク等からなる正圧源12にそ
れぞれ接続されている。
両配管9.10の途中には方向制御弁としての第1およ
び第2電磁弁13.14がそれぞれ介設されており、両
電磁弁13.14は配管に対する負圧1ittと正圧源
12との切り換えを実行するように構成されている0両
電磁弁13.14のソレノイド15.16はコンピュー
タやタイマ等からなるコントローラ17に接続されてお
り、コントローラ17はソレノイドを介して両電磁弁1
3.14を適宜作動することにより、後述するような作
用を実現するように構成されている。
本実施例において、第1図に示されているように、吸着
ヘッド2はエアコンベア20の末端近傍に配設されてお
り、エアコンベア20との間でウェハlを相互に受は渡
すようになっている。そして、このエアコンベア20は
両側面ガイド21が吸着へフド2の外方には達していな
い構造になっている。また、吸着ヘッド2からエアコン
ベア20へのウェハの受は渡しを実行するため、吸着へ
フド2には複数個の送り用吹出口18がエアコンベア2
0の中心線と平行になるように2列に配されて、エアを
エアコンベア20(Illに傾斜させて上向きに吹き出
せるように開設されている。
次に作用を説明する。
被吸着物としてのウェハ1がエアコンベア20から吸着
ヘッド2の吸着面3上に送られストッパ(図示せず)等
により機械的に位置決めされると、コントローラ17に
よりソレノイド15.16を介して第3図に示されてい
るように、第1および第2電磁弁13.14が配管9.
10を負圧源11にそれぞれ接続させるように切り換え
られる。
これにより、第1および第2通気路9.10を経由して
負圧が中心穴4、中間穴5および周辺穴6の全てに供給
されるため、ウェハ1は吸着面3に全体にわたって真空
吸着され、吸着ヘッド2に保持されることになる。
この真空吸着保持状態において、吸着ヘッド2が上昇さ
れる等してウェハ1は所望の作業を実施される。
その後、ウェハlについての真空吸着保持が解除される
際、第3図に示されているように、コントローラ17に
より第2電磁弁14が負圧倒に接続されたまま、第1電
磁弁13が正圧倒に切り換えられる。続いて、若干時間
(例えば、約0.5秒間)経過後、第2電磁弁14も正
圧倒に切り換えられるとともに、送り用吹出口18から
エアが吹き出されると、ウェハlは横に遊動することな
く、垂直に浮上し、エアコンベア2Gの両ガイド21.
21間に真直ぐ適正に送り込まれる。
ところで、真空吸着保持解除時に、全ての穴に正圧が同
時に供給された場合、第4図に示されているように、ウ
ェハ1が吸着面3に対して微小に傾斜するため、第1図
に想像線で示されているように、ウェハlが横にずれて
エアコンベア20の両ガイド21.21間に送り込まれ
ずに片側のガイド21に衝突する等の事故が発生する。
これは、各穴における正圧の大きさにばらつきが発生し
ウェハ1が傾斜するため、起こると考えられる。
しかし、本実施例においては、真空吸着保持解除時にお
いて、中心穴4および周辺穴6と中間穴5とに対する負
圧から正圧への切り換えに時的差が設けられるため、ウ
ェハlは垂直に浮上しエアコンベア20に適正に送り込
まれる。
すなわち、まず、第2電磁弁14が負圧倒に接続された
ままで、第1電磁弁13が正圧倒に切り換えられると、
第1通気路9Oを介して中心穴4および周辺穴6に負圧
が供給され、第1通気路9を介して中間穴5に正圧が供
給されるため、第5図に示されているように、ウェハ1
は吸着面3との間に局部的な空気層19が形成されるよ
うに極く微小に弾性変形する。このとき、外側開口とし
ての周辺穴6群はウェハlの周辺部を吸着することによ
り、内側開口としての中間穴5群による空気層19を封
じ込めることになる。しかし、ウェハ1はそれ自体の弾
性により元の平板形状に瞬間的に復元する。
この復元時、第2電磁弁14が正圧倒に切り換えられる
と、正圧分布のばらつき如何にかかわらず、ウェハ1は
横に遊動することなく垂直に浮上し、送り用吹出口18
からのエア吹き出しに従ってエアコンベア20に適正に
送り込まれる。
前記実施例によれば次の効果が得られる。
(1)  吸着面に内側開口と、この内側開口を取り囲
む外側開口とを設けるとともに、両開口に各通気路をそ
れぞれ接続し、これら通気路に負圧および正圧の供給を
切り換える方向制御弁をそれぞれ介設することにより、
両方向制御弁を適宜操作することによって、真空吸着解
除時に外側開口への負圧供給を維持しながら、内側開口
へ正圧を供給させることができるため、被吸着物を局部
的かつ一時的に弾性変形させることができ、その結果、
変形後の復元を利用して被吸着物を吸着面に対して垂直
に浮上させ、適正な真空吸着解除を実現させることがで
きる。
(2)真空吸着解除時に被吸着物を吸着面に対して垂直
に浮上させることにより、被吸着物をエアコンベア等に
横ずれ等を起こすことなく適正に送り込むことができる
ため、エアコンベアの両側面ガイドを真空吸着装置の対
向部まで延しし得ない状況の場合であっても、吸着解除
後の物品をエアコンベアの両側面ガイド間にirI突事
故や脱落事故を発生することなく適正に送り込むことが
できる。
ちなみに、エアコンベアのガイドを真空吸着装置の所ま
で延長し得ない状況としては、密着式露光装置において
、露光ステージに設備されている真空吸着装置にウェハ
がエアコンベアにより受は渡たされるハンドリングシス
テムが採用されている場合がある。つまり、この場合、
真空吸着装置の周りには露光ステージの他の機器が設備
されているため、エアコンベアのガイドを真空吸着装置
の所まで延長することができない。
(■ 方向制御弁をコンピュータやタイマ等からなるコ
ントローラによって自動操作されるように構成すること
により、真空吸着装置の真空吸着およびその解除作動を
全自動化させることができるため、無人化ないしは省力
化を促進することができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸説しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
例えば、真空吸着解除時に周辺穴6群への負圧供給を維
持したまま、中間穴5群へ正圧を供給するように構成す
るに限らず、中間穴5群への負圧供給を維持したまま、
中心穴4へ正圧を供給するように構成してもよい、この
場合、中間穴5群が内側開口としての中心穴4を取り囲
む外側開口となる。
内側開口および外側開口は複数の小穴により構成するに
限らず、環状溝等により構成してもよい。
真空吸着解除時における外側開口への負圧供給から正圧
供給への切換時間差、外側開口および内側開口の有効開
口it等は、負圧源の排気速度、正圧源の圧力等と、被
吸着物の弾性変形度およびその復元力等との関係に対応
して、各諸例毎に実験やコンピュータシェミレーシジン
による経験的な解析手法等により最適値を適宜設定する
ことが望ましい。
また、吸着ヘッド、吸着面、開口および通気路等の形状
、構造等は所望に応じて変形することが望ましい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるウェハの真空吸着装
置に通用した場合について説明したが、それに限定され
るものではなく、その他の基板、板材、小片、直方体等
の固形物を真空吸着する真空吸着装置全般に通用するこ
とができる。
(発明の効果) 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。
吸着面に内側開口と、この内側開口を取り囲む外側開口
とを設けるとともに、両開口に各通気路をそれぞれ接続
し、これら通気路に負圧および正圧の供給を切り換える
方向制御弁をそれぞれ介設することにより、両方向制御
弁を適宜操作することによって、真空吸着解除時に外側
開口への負圧供給を維持しながら、内側開口へ正圧を供
給させることができるため、被吸着物を局部的かつ一時
的に弾性変形させることができ、その結果、変形後の復
元を利用して被吸着物を吸着面に対して垂直に浮上させ
、適正な真空吸着解除を実現させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例である真空吸着装置を示す模
式的平面図、 第2図は第1図の1」線に沿う縦断面図、第3図はその
作用を説明するためのタイムチャート図、 第4図および第5図は同じく縦断面図である。 1・・・ウェハ(被吸着物)、2・・・吸着ヘッド、3
・・・吸着面、4・・・中心穴、5・・・中間穴(内側
開口)、6・・・周辺穴(外側開口)、7・・・第1通
気路、8・・・第2通気路、9.10・・・配管、11
・・・負圧源、12・・・正圧源、13.14・・・電
磁弁(方向制御弁)、15.16− ・−ソレノイド、
17・・・コントローラ、18・・・送り用吹出口、1
9・・・空気層、20・・・エアコンベア、2I・・・
側面ガイド。 第  1  図 4−f心へ 、y−(牛1八こ?ブーく(Iて1イ」P゛1聞てコ)
c −saw、六(yyf+1 F/I o )第  
2  図 第  3  図 一−−−ヅリ出 第  4  図 第  5  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、吸着面の内側部分に配設されている内側開口と、吸
    着面に内側開口を取り囲むように配設されている外側開
    口と、内側開口および外側開口にそれぞれ接続されてい
    る各通気路と、これら通気路にそれぞれ介設されており
    、負圧および正圧の供給を切り換えるように構成されて
    いる各方向制御弁とを備えており、真空吸着解除時に外
    側開口への負圧供給を維持しながら、内側開口へ正圧を
    供給することにより、被吸着物下に局部層を形成させ得
    るように構成されていることを特徴とする真空吸着装置
    。 2、内側開口および外側開口が、複数個の小穴からそれ
    ぞれ構成されており、互いに同心円となる環状に配設さ
    れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    真空吸着装置。 3、外側開口が、複数個の小穴から構成されており、内
    側開口を取り囲む環状線上に配設されていることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の真空吸着装置。
JP61281814A 1986-11-28 1986-11-28 真空吸着装置 Granted JPS63139632A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61281814A JPS63139632A (ja) 1986-11-28 1986-11-28 真空吸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61281814A JPS63139632A (ja) 1986-11-28 1986-11-28 真空吸着装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63139632A true JPS63139632A (ja) 1988-06-11
JPH0575539B2 JPH0575539B2 (ja) 1993-10-20

Family

ID=17644364

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61281814A Granted JPS63139632A (ja) 1986-11-28 1986-11-28 真空吸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63139632A (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0839377A (ja) * 1994-07-29 1996-02-13 Ckd Corp 真空チャック装置からのワークの取り外し方法及びワークの取り外し装置
JPH10277772A (ja) * 1997-04-02 1998-10-20 Sharp Corp 基板ビーム加工装置
JP2006036471A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Shinko Electric Co Ltd 基板の受渡し方法、及びその装置
JP2008041761A (ja) * 2006-08-02 2008-02-21 Sekisui Chem Co Ltd 被処理物の処理後剥離方法及び設置装置
JP2010177607A (ja) * 2009-02-02 2010-08-12 Ushio Inc ワークステージ及び該ワークステージを使用した露光装置
JP2011042130A (ja) * 2009-08-21 2011-03-03 Konica Minolta Ij Technologies Inc インクジェットヘッドの製造方法
JP2011093081A (ja) * 2009-10-30 2011-05-12 Sun Yueh Way 吸着装置
CN102569147A (zh) * 2010-12-28 2012-07-11 上海微电子装备有限公司 硅片吸附机构及其使用方法
CN104440310A (zh) * 2014-12-02 2015-03-25 竹昌精密冲压件(上海)有限公司 一种数控机床自动吸真空装置
CN106002406A (zh) * 2016-07-01 2016-10-12 中航飞机股份有限公司西安飞机分公司 一种柔性数控铣床真空转接平台及使用方法
CN108922863A (zh) * 2018-07-03 2018-11-30 苏州映真智能科技有限公司 硅片吸取组件及硅片抓取机构

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0839377A (ja) * 1994-07-29 1996-02-13 Ckd Corp 真空チャック装置からのワークの取り外し方法及びワークの取り外し装置
JPH10277772A (ja) * 1997-04-02 1998-10-20 Sharp Corp 基板ビーム加工装置
JP2006036471A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Shinko Electric Co Ltd 基板の受渡し方法、及びその装置
JP2008041761A (ja) * 2006-08-02 2008-02-21 Sekisui Chem Co Ltd 被処理物の処理後剥離方法及び設置装置
JP2010177607A (ja) * 2009-02-02 2010-08-12 Ushio Inc ワークステージ及び該ワークステージを使用した露光装置
JP2011042130A (ja) * 2009-08-21 2011-03-03 Konica Minolta Ij Technologies Inc インクジェットヘッドの製造方法
JP2011093081A (ja) * 2009-10-30 2011-05-12 Sun Yueh Way 吸着装置
CN102569147A (zh) * 2010-12-28 2012-07-11 上海微电子装备有限公司 硅片吸附机构及其使用方法
CN104440310A (zh) * 2014-12-02 2015-03-25 竹昌精密冲压件(上海)有限公司 一种数控机床自动吸真空装置
CN106002406A (zh) * 2016-07-01 2016-10-12 中航飞机股份有限公司西安飞机分公司 一种柔性数控铣床真空转接平台及使用方法
CN108922863A (zh) * 2018-07-03 2018-11-30 苏州映真智能科技有限公司 硅片吸取组件及硅片抓取机构

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0575539B2 (ja) 1993-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9202738B2 (en) Pneumatic end effector apparatus and substrate transportation systems with annular flow channel
US7963578B2 (en) Integrated vacuum gripper with internal releasable magnet and method of using same
US7292427B1 (en) Pin lift chuck assembly for warped substrates
JPH0575539B2 (ja)
KR102794197B1 (ko) 웨이퍼 이송 핸드 유닛 및 웨이퍼 이송 장치
TWI392051B (zh) The method of removing the processed body and the program memory medium and the placing mechanism
TWI723212B (zh) 搬送墊及晶圓的搬送方法
TW201611154A (zh) 晶圓負載及卸載
CN107785299A (zh) 一种硅片拾取装置
TW202002135A (zh) 用於支撐及操縱晶圓的設備
KR20110125062A (ko) 평판 이송물 정렬픽업 이송장치
CN120413507A (zh) 吸附装置、半导体设备及吸附方法
CN210897234U (zh) 伯努利机械手在真空卡盘上放取晶圆的系统
US3976329A (en) Vacuum braking system for semiconductor wafers
JPS62219634A (ja) 真空保持装置
WO2022074207A1 (en) Gripping device for porous materials and method of gripping porous material
JP4457351B2 (ja) 基板保持装置
JPS63164236A (ja) 板状物保持装置
JPH0745692A (ja) 基板の吸着保持装置
JPS632345A (ja) 真空吸着装置
JP6402047B2 (ja) ウエハの受け渡し装置及び方法
KR101577339B1 (ko) 웨이퍼 이재장치
KR100460031B1 (ko) 반도체장치 제조설비의 솔레노이드 밸브
JP2025148658A (ja) 搬送用ハンドおよび搬送装置
KR0125241Y1 (ko) 웨이퍼서셉터와 그 구동장치