JPS63141299A - 真空遮断バルブおよびこれを用いた放射線照射装置 - Google Patents
真空遮断バルブおよびこれを用いた放射線照射装置Info
- Publication number
- JPS63141299A JPS63141299A JP28660786A JP28660786A JPS63141299A JP S63141299 A JPS63141299 A JP S63141299A JP 28660786 A JP28660786 A JP 28660786A JP 28660786 A JP28660786 A JP 28660786A JP S63141299 A JPS63141299 A JP S63141299A
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- Japan
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- valve
- gate plate
- gate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子シンクロトロン蓄積リングから出射される
シンクロトロン放射光(以下SORと称す)を真空排気
ダクトを通じてSOR露光装置に導く場合、該露光装置
の真空破壊時に真空排気ダクトを緊急遮断し、蓄積リン
グの超高真空を大気汚染から保護するための真空遮断バ
ルブに関するものである。
シンクロトロン放射光(以下SORと称す)を真空排気
ダクトを通じてSOR露光装置に導く場合、該露光装置
の真空破壊時に真空排気ダクトを緊急遮断し、蓄積リン
グの超高真空を大気汚染から保護するための真空遮断バ
ルブに関するものである。
[従来の技術〕
SORをX線リソグラフィに用いる場合のSORビーム
ラインの構成は従来、第3回放射光装置国際学会予稿集
(3rd N ational Conference
on S ynchrojron Radiat、
ion I nst、rument、ation1
983)のR、P 、 Haelbich他(IBM)
による発表のごとく、露光装置とSORリング間にはS
ORリングの超高真空(< 101oTorr)を保護
する目的から伝播速度遅延管(A consticDe
lay Line: ADL) 、差動排気ポンプ系(
Differential Pumping 5y
st、em : D P S )と高速遮断バ
ルブ(Fast Closing Valve : F
CV、もしくはUltra High Veloci
ty Valve)が設置されている。このうち従来か
ら使われているFCVの遮断時間は最高でも30〜50
m5であるため、露光装置での真空破壊からFCVまで
汚染気体が到達するまでの時間を30m5以上にする必
要性からADLを長くすると共にDPSを強化すること
が要求され、従来例のごとく4〜5m分、ビームライン
が長くなってしまっていた。
ラインの構成は従来、第3回放射光装置国際学会予稿集
(3rd N ational Conference
on S ynchrojron Radiat、
ion I nst、rument、ation1
983)のR、P 、 Haelbich他(IBM)
による発表のごとく、露光装置とSORリング間にはS
ORリングの超高真空(< 101oTorr)を保護
する目的から伝播速度遅延管(A consticDe
lay Line: ADL) 、差動排気ポンプ系(
Differential Pumping 5y
st、em : D P S )と高速遮断バ
ルブ(Fast Closing Valve : F
CV、もしくはUltra High Veloci
ty Valve)が設置されている。このうち従来か
ら使われているFCVの遮断時間は最高でも30〜50
m5であるため、露光装置での真空破壊からFCVまで
汚染気体が到達するまでの時間を30m5以上にする必
要性からADLを長くすると共にDPSを強化すること
が要求され、従来例のごとく4〜5m分、ビームライン
が長くなってしまっていた。
従来のFCVのゲート板の駆動力には主に圧搾空気が用
いられており、大略5〜7kg”/am”の圧力でゲー
ト板が上下駆動される。また、ビームラインのFCV箇
所での有効口径は10cm程度であり、従ってゲート板
の移動距離は大略20cmで、また、超高真空遮断のた
めゲート板の必要は剛性から、該ゲート板の重さは1〜
2kgが通常である。
いられており、大略5〜7kg”/am”の圧力でゲー
ト板が上下駆動される。また、ビームラインのFCV箇
所での有効口径は10cm程度であり、従ってゲート板
の移動距離は大略20cmで、また、超高真空遮断のた
めゲート板の必要は剛性から、該ゲート板の重さは1〜
2kgが通常である。
これらの条件のほか、ゲート板摺動面の摩擦力も加わり
、上記方式のゲートバルブでは遮断時間の最小は高々2
0 m s程度が限界である。
、上記方式のゲートバルブでは遮断時間の最小は高々2
0 m s程度が限界である。
本発明の目的はFCVの遮断時間の大幅な短縮を図るこ
とにより従来必要であったADL。
とにより従来必要であったADL。
DPSの小型化あるいはこれをなくすことによって、S
OR利用X線リングラフィのSORビームラインの長さ
を小さくすることを目的とする。
OR利用X線リングラフィのSORビームラインの長さ
を小さくすることを目的とする。
上記目的である真空遮断速度の高速化は真空遮断バルブ
のゲート板駆動力として火薬等、引火爆発性の液体、固
体、気体もしくはこれらの少なくとも2以上の混合物の
爆発力を用いることによって達成される。また、真空遮
断を確実にするための補助方法として真空遮断すべき装
置の該ゲート板側の遮断面に該ゲート板を構成する材料
よりも軟質な材料から成る真空封止部を設けるとともに
該ゲート板の断面形状をクサビ形とすることにより該ゲ
ート板が真空遮断すべき装置間に挿入されたとき、前記
ゲート板駆動力の分力で前記真空封止部を変形させ、真
空封止させることが必要である。
のゲート板駆動力として火薬等、引火爆発性の液体、固
体、気体もしくはこれらの少なくとも2以上の混合物の
爆発力を用いることによって達成される。また、真空遮
断を確実にするための補助方法として真空遮断すべき装
置の該ゲート板側の遮断面に該ゲート板を構成する材料
よりも軟質な材料から成る真空封止部を設けるとともに
該ゲート板の断面形状をクサビ形とすることにより該ゲ
ート板が真空遮断すべき装置間に挿入されたとき、前記
ゲート板駆動力の分力で前記真空封止部を変形させ、真
空封止させることが必要である。
本発明に係る真空遮断バルブの基本期造を第1図に示す
。
。
発火プラグ1で火薬2を引火爆発させ、その爆発力をロ
ッド3を介してクサビ形ゲート板5に伝え、該ゲート板
5を真空封止ベローズ4の伸縮により下方に移動させる
。下方に駆動されたゲート板5のクサビ斜面は真空遮断
バルブの真空ハウジング6の内壁に形成したテーパガイ
ド7にそって移動するため、該ゲート板は下方移動に伴
って軟質材料から成る真空封止部8を抑さえ変形させる
。
ッド3を介してクサビ形ゲート板5に伝え、該ゲート板
5を真空封止ベローズ4の伸縮により下方に移動させる
。下方に駆動されたゲート板5のクサビ斜面は真空遮断
バルブの真空ハウジング6の内壁に形成したテーパガイ
ド7にそって移動するため、該ゲート板は下方移動に伴
って軟質材料から成る真空封止部8を抑さえ変形させる
。
これにより高真空側排気ダクト9が低真空側排気ダクト
10を真空的に完全に遮断することができる。
10を真空的に完全に遮断することができる。
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。
同図において火薬2として黒色火薬20gを用いた。ま
た、ゲート板5はステンレス鋼製でクサビの傾斜角は3
0’である。テーパガイド7の材質はゲート板5と同じ
ステンレス鋼を用いた。真空封止部8には無酸素銅又は
純アルミニウム製の0リングを用いハウジング6の溝部
に圧入した。
た、ゲート板5はステンレス鋼製でクサビの傾斜角は3
0’である。テーパガイド7の材質はゲート板5と同じ
ステンレス鋼を用いた。真空封止部8には無酸素銅又は
純アルミニウム製の0リングを用いハウジング6の溝部
に圧入した。
発火プラグへの高電圧印加は低真空側排気ダクト内に設
けた真空度センサの真空劣化検知信号により行った。本
実施例によればゲート板5に約100Gの加速度を加え
ることができ、真空劣化信号を受けてから真空遮断が行
えるまでに要した時間は約0 、2 m sであった。
けた真空度センサの真空劣化検知信号により行った。本
実施例によればゲート板5に約100Gの加速度を加え
ることができ、真空劣化信号を受けてから真空遮断が行
えるまでに要した時間は約0 、2 m sであった。
本実施例において、黒色火薬の替りに、ガソリン、炭素
微粉末等、周知の引火爆発性物質はすべて適用できる。
微粉末等、周知の引火爆発性物質はすべて適用できる。
本発明によれば、真空劣化異常発生から真空遮断までに
要する時間を従来の数十msから約2桁短くできること
から従来使用していたADL。
要する時間を従来の数十msから約2桁短くできること
から従来使用していたADL。
DPSを装備しなくても、例えば電子蓄積リングの超高
真空を汚染せず保護できるため、SORを用いた露光装
置系の大幅なコストダウンが図られ、かつ、電子蓄積リ
ングの真空保護が容易になる。
真空を汚染せず保護できるため、SORを用いた露光装
置系の大幅なコストダウンが図られ、かつ、電子蓄積リ
ングの真空保護が容易になる。
第1図は本発明の一実施例を示す縦断面図である。
1・・・発火プラグ、2・・・火薬、3・・・ロンド、
4・・・ベローズ、5・・・ゲート板、6・・・ハウジ
ング、7・・・テーパガイド、8・・・真空封止部、9
・・・高真空側排気ダクト、10・・・低真空側排気ダ
クト。
4・・・ベローズ、5・・・ゲート板、6・・・ハウジ
ング、7・・・テーパガイド、8・・・真空封止部、9
・・・高真空側排気ダクト、10・・・低真空側排気ダ
クト。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、真空排気路をゲート板で遮断する真空遮断(ゲート
)バルブにおいて、該ゲート板の前記真空排気路への挿
入駆動力が引火爆発性の液体、固体、気体、もしくはそ
れらの混合物の爆発力であることを特徴とした真空遮断
バルブ。 2、特許請求の範囲第1項記載の真空遮断バルブにおい
て、前記ゲート板の形状をくさび形としたことを特徴と
する真空遮断バルブ。 3、特許請求の範囲第2項記載の真空遮断バルブにおい
て、真空遮断時に前記ゲート板が対向する前記真空排気
路側の真空遮断面に前記ゲート板より軟質の材料を用い
たことを特徴とする真空遮断バルブ。 4、特許請求の範囲第3項記載の真空遮断バルブにおい
て、前記ゲートバルブを複数個、直列結合したことを特
徴とする真空遮断バルブ。 5、真空排気路をゲート板で遮断する真空遮断(ゲート
)バルブを有する放射線照射装置において、該ゲート板
の前記真空排気路への挿入駆動力が引火爆発性の液体、
固体、気体もしくはそれらの混合物の爆発力であるゲー
トバルブを有することを特徴とする放射線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28660786A JPS63141299A (ja) | 1986-12-03 | 1986-12-03 | 真空遮断バルブおよびこれを用いた放射線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28660786A JPS63141299A (ja) | 1986-12-03 | 1986-12-03 | 真空遮断バルブおよびこれを用いた放射線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63141299A true JPS63141299A (ja) | 1988-06-13 |
Family
ID=17706602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28660786A Pending JPS63141299A (ja) | 1986-12-03 | 1986-12-03 | 真空遮断バルブおよびこれを用いた放射線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63141299A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002257998A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Sony Corp | 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射装置における真空シール方法 |
-
1986
- 1986-12-03 JP JP28660786A patent/JPS63141299A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002257998A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Sony Corp | 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射装置における真空シール方法 |
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