JPS63142184A - 万能スペーサー用水性組成物および井戸特に油井およびガス井を掘削する分野におけるその用途 - Google Patents
万能スペーサー用水性組成物および井戸特に油井およびガス井を掘削する分野におけるその用途Info
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- JPS63142184A JPS63142184A JP29965187A JP29965187A JPS63142184A JP S63142184 A JPS63142184 A JP S63142184A JP 29965187 A JP29965187 A JP 29965187A JP 29965187 A JP29965187 A JP 29965187A JP S63142184 A JPS63142184 A JP S63142184A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、油井または他の井戸の完成において使用する
分離流体のテクノロジーに関する。これらの「スラグ流
体」は、汎用されている「スペーサー」なる用語によっ
て以下示される。
分離流体のテクノロジーに関する。これらの「スラグ流
体」は、汎用されている「スペーサー」なる用語によっ
て以下示される。
スペーサーは、特に膠若（ｃｅｍｅｎｔｉｎｇ ）操作
において使用される流体である。スペーサーは、掘削泥
水とそれを取り替えるべきセメントスラリーとの間にポ
ンプ給送される。スペーサーは、泥水がセメントスラリ
ーと接触するのを防止するのに不可欠であり、これらの
２つの「流体」は、化学的に不相容性である。更に、井
戸の壁からの泥水排除を助長する性質を有するスペーサ
ーは、一般に、掘削泥水の除去および噴出しくｅｊｅｃ
ｔｉｏｎ）に寄与する。
において使用される流体である。スペーサーは、掘削泥
水とそれを取り替えるべきセメントスラリーとの間にポ
ンプ給送される。スペーサーは、泥水がセメントスラリ
ーと接触するのを防止するのに不可欠であり、これらの
２つの「流体」は、化学的に不相容性である。更に、井
戸の壁からの泥水排除を助長する性質を有するスペーサ
ーは、一般に、掘削泥水の除去および噴出しくｅｊｅｃ
ｔｉｏｎ）に寄与する。
スペーサーは、一般に、その密度を所望の値に増大する
ため、かつ穿孔によって交差される累層の壁土に存在す
る「マッドケーキ」に対する侵食効果を増大するために
粒状の増量剤が添加された水性ベースの流体からなる。
ため、かつ穿孔によって交差される累層の壁土に存在す
る「マッドケーキ」に対する侵食効果を増大するために
粒状の増量剤が添加された水性ベースの流体からなる。
水性ベース流体は、それ自体、その組成に直接の関係を
有する数種の基本的性質、即ち、懸濁液中での粒子の安
定性（「沈降防止」性）、流体損失制御、レオロジー、
泥水およびセメントスラリーとの相容性を有しているべ
きである。
有する数種の基本的性質、即ち、懸濁液中での粒子の安
定性（「沈降防止」性）、流体損失制御、レオロジー、
泥水およびセメントスラリーとの相容性を有しているべ
きである。
従って、技術の現状で既知のスペーサーベースは、少な
くとも（ｉ）沈降防止剤、（ｉｉ）流体損失制御剤、（
Ｉｉｉ）分散剤からなる。
くとも（ｉ）沈降防止剤、（ｉｉ）流体損失制御剤、（
Ｉｉｉ）分散剤からなる。
著しい進歩は、特定の種類の沈降防止剤／流体損失制御
剤／分散剤からなり、かつ特定の性質を有する水性スペ
ーサーを記載している仏国特許出願第８５−０８４３４
（２，５８２，６６４）号明細書の指摘によって達成
された。
剤／分散剤からなり、かつ特定の性質を有する水性スペ
ーサーを記載している仏国特許出願第８５−０８４３４
（２，５８２，６６４）号明細書の指摘によって達成
された。
この特許出願によれば、沈降防止剤は、生体高分子、好
ましくは細菌アゾトバクター・インディカス（Ａｚｏｔ
ｏｂａｃｔｅｒ １ｎｄｌｃｕｓ ）の発酵によって得
られる生体高分子である。流体損失制御剤は、好ましく
はポリスチレンまたはポリビニルトルエンスルホネート
ファミリーに属する高分子量（５００，０００〜１ｏ、
０００： ０００）の陰イオン重合体である。分散剤
は、ポリスチレンスルホネートファミリーに属する低分
子量（５，０００〜１００．０００）陰イオン高分子電
解質からなる。
ましくは細菌アゾトバクター・インディカス（Ａｚｏｔ
ｏｂａｃｔｅｒ １ｎｄｌｃｕｓ ）の発酵によって得
られる生体高分子である。流体損失制御剤は、好ましく
はポリスチレンまたはポリビニルトルエンスルホネート
ファミリーに属する高分子量（５００，０００〜１ｏ、
０００： ０００）の陰イオン重合体である。分散剤
は、ポリスチレンスルホネートファミリーに属する低分
子量（５，０００〜１００．０００）陰イオン高分子電
解質からなる。
前記スペーサーを浦をベースとする泥水の存在下で使用
する時には、スペーサーは、界面活性剤（ＨＬＢ値７〜
１５）、好ましくは０９〜Ｃ１□脂肪酸のポリエトキシ
ルエステルも含む。
する時には、スペーサーは、界面活性剤（ＨＬＢ値７〜
１５）、好ましくは０９〜Ｃ１□脂肪酸のポリエトキシ
ルエステルも含む。
本発明は、２つの主要部（ｉ）ゲル化剤および（ｉｉ）
少なくとも１種の流体損失制御剤からなる万能スペーサ
ー（その性状は水性ベース系の塩分に従って決められる
）に関する。
少なくとも１種の流体損失制御剤からなる万能スペーサ
ー（その性状は水性ベース系の塩分に従って決められる
）に関する。
本発明によれば、系は、いかなるＵ水氷（即ち、淡水ま
たは海水、または塩水であることができる）と併用でき
、その塩分は、ＮａＣ１およびＫＣＩで飽和まで柔性で
きる。
たは海水、または塩水であることができる）と併用でき
、その塩分は、ＮａＣ１およびＫＣＩで飽和まで柔性で
きる。
系の主要な利点の１つは、単純に成分（ｉ）の濃度を変
えることによって、プラグ流れまたは乱流でポンプ給送
できることである。本発明によれば、それは、１５０℃
までの温度で使用でき、その密度は、１．０５〜２−４
ｇ／ｃｒｊで変化できる。
えることによって、プラグ流れまたは乱流でポンプ給送
できることである。本発明によれば、それは、１５０℃
までの温度で使用でき、その密度は、１．０５〜２−４
ｇ／ｃｒｊで変化できる。
本発明のスペーサー系は、仏国特許出願第８５−０８４
３４号明細書に記載のものを超える大きい使用の融通性
の決定的利点を有し、かつまた特に塩水環境で性能を改
良しながらより少ないプロダクトを使用してコストを下
げるという利点を有する。この改良性能は、特に成るか
ん水をベースとする泥水との系の良好な相容性によって
達成される。新しい系は、塩分のすべての条件下（即ち
、強または弱塩水濃度）および淡水を使用する場合に好
都合に挙動するだけではなく、プラグ流または乱流中で
同等によく挙動することが認められるであろう。
３４号明細書に記載のものを超える大きい使用の融通性
の決定的利点を有し、かつまた特に塩水環境で性能を改
良しながらより少ないプロダクトを使用してコストを下
げるという利点を有する。この改良性能は、特に成るか
ん水をベースとする泥水との系の良好な相容性によって
達成される。新しい系は、塩分のすべての条件下（即ち
、強または弱塩水濃度）および淡水を使用する場合に好
都合に挙動するだけではなく、プラグ流または乱流中で
同等によく挙動することが認められるであろう。
特殊な予防策なしに、このように井戸処理のリスクをよ
り少なく事実上フィールドでのすべての形態の操作での
使用を可能にするこのような完全な範囲の性質を有する
スペーサーは、実際に油田サービス工業で均等物を有し
ていない。
り少なく事実上フィールドでのすべての形態の操作での
使用を可能にするこのような完全な範囲の性質を有する
スペーサーは、実際に油田サービス工業で均等物を有し
ていない。
前記のように、新しい系の第一成分は、ゲル化剤である
。
。
このゲル化剤の機能は、２つ：第一に、表面調製時の静
止時とポンプ給送時の剪断条件下との両方で増量剤を懸
濁液中に保持すること、第二に流れの性状、その速度プ
ロフィールまたは明確に規定された圧力低下に応じてス
ペーサーのレオロジーを制御することである。
止時とポンプ給送時の剪断条件下との両方で増量剤を懸
濁液中に保持すること、第二に流れの性状、その速度プ
ロフィールまたは明確に規定された圧力低下に応じてス
ペーサーのレオロジーを制御することである。
ゲル化剤（ｉ）は、淡水からＮａＣ、、ＫＣＩなどの塩
の飽和溶液、例えば、海水およびフィールドで局所的に
入手できる塩水（場合によってＣａおよびＭｇによって
高度に汚染）までの範囲のすべての種類の混合水と相容
性でなければならない。高度に塩分を含んだ水を使用す
る時には、ゲル化剤の予備水和は、ベース水（淡水、塩
水、海水）およびその後に添加される塩 （ＮａＣ１またはＫＣ１）において実施しなければなら
ない（ソーキング時間３０分は水和に十分である）。
の飽和溶液、例えば、海水およびフィールドで局所的に
入手できる塩水（場合によってＣａおよびＭｇによって
高度に汚染）までの範囲のすべての種類の混合水と相容
性でなければならない。高度に塩分を含んだ水を使用す
る時には、ゲル化剤の予備水和は、ベース水（淡水、塩
水、海水）およびその後に添加される塩 （ＮａＣ１またはＫＣ１）において実施しなければなら
ない（ソーキング時間３０分は水和に十分である）。
本発明によれば、ゲル化剤それ自体は、生体高分子と成
る。場合にはポリナフタレンスルホネート型の高分子電
解質との混合物からなる。好ましい生体高分子は、アゾ
トバクター・インディカス細菌の誘導体である。ポリナ
フタレンスルホネート型の分散剤は、以下の表１に示す
ように最も大きい問題を起こすらしいセメントスラリー
とゲル化剤との相容性を改良する。
る。場合にはポリナフタレンスルホネート型の高分子電
解質との混合物からなる。好ましい生体高分子は、アゾ
トバクター・インディカス細菌の誘導体である。ポリナ
フタレンスルホネート型の分散剤は、以下の表１に示す
ように最も大きい問題を起こすらしいセメントスラリー
とゲル化剤との相容性を改良する。
前記のような生体高分子の機能は、本質上増量剤を懸濁
液中に保持すること、および流体のレオロジーを制御す
ることである。−回生体高分子／ベース水濃度が２ｇ／
ｌを超えたら、懸濁液の優秀な性質が得られる。
液中に保持すること、および流体のレオロジーを制御す
ることである。−回生体高分子／ベース水濃度が２ｇ／
ｌを超えたら、懸濁液の優秀な性質が得られる。
ポリナフタレンスルホネート（ＰＮＳ）は、本来、表１
にも示すように、スペーサーのレオロジーに対して何の
作用も有していないことに留意。
にも示すように、スペーサーのレオロジーに対して何の
作用も有していないことに留意。
生体高分子対ＰＮＳ型分散剤の比率は、１：０から１＝
３で変化できる。好ましい比率は、表１にも示すように
、１：２である。
３で変化できる。好ましい比率は、表１にも示すように
、１：２である。
表２は、好ましい比率１：２のゲル化剤と分散剤との相
容性、淡水とかん水との両方の中の異なる泥水およびセ
メントスラリーとの相容性を示す。
容性、淡水とかん水との両方の中の異なる泥水およびセ
メントスラリーとの相容性を示す。
表３Ａおよび３Ｂは、ゲル化剤がスペーサーに対して成
る流体損失制御性を与えることを示す。
る流体損失制御性を与えることを示す。
この性質は、二次的であるが、ゲル化剤の濃度が増大す
るにつれてますます強調されるようになり、このような
場合には、最良の流体損失制御は、高度に塩分を含んだ
水中で得られる（表３Ｂ）。
るにつれてますます強調されるようになり、このような
場合には、最良の流体損失制御は、高度に塩分を含んだ
水中で得られる（表３Ｂ）。
また、表３Ａおよび３Ｂは、スペーサーがゲル化剤のみ
からなる時にスペーサーのレオロジー挙動を与える。
からなる時にスペーサーのレオロジー挙動を与える。
非常に低い挙動指数ｎ （０，２〜０．３５）を有する
ベキ乗則に従う挙動は、流量に無関係にプラグ流に対応
する流体のフラット（Ｈａｔ）速度プロフィールの特性
である。追加的に、ゲル化剤を水中で１０ｇ／ｌ程度ま
たはそれ以下の低濃度で使用する時には、得られたスペ
ーサーは、表３Ａおよび３Ｂに与えられた乱流の場合に
臨界的な流量によって指摘されるように、容易に乱流で
ポンプ給送もできる。このように、本発明の系の決定的
利点は、層流の有意の相を通過せずに、掘削泥水を正確
に置換する際の効率が既知の２種のみの特性的流れ（プ
ラグ流および乱流）を提示することである。
ベキ乗則に従う挙動は、流量に無関係にプラグ流に対応
する流体のフラット（Ｈａｔ）速度プロフィールの特性
である。追加的に、ゲル化剤を水中で１０ｇ／ｌ程度ま
たはそれ以下の低濃度で使用する時には、得られたスペ
ーサーは、表３Ａおよび３Ｂに与えられた乱流の場合に
臨界的な流量によって指摘されるように、容易に乱流で
ポンプ給送もできる。このように、本発明の系の決定的
利点は、層流の有意の相を通過せずに、掘削泥水を正確
に置換する際の効率が既知の２種のみの特性的流れ（プ
ラグ流および乱流）を提示することである。
表３Ｂから、多量に塩分を含んだ水中においては、ゲル
化剤それ自体は、プラグ流または乱流のいずれかにおい
て優秀なスペーサーを与え、特定の制御剤の必要なしに
流体損失上に良好な制御を与えることがわかる。
化剤それ自体は、プラグ流または乱流のいずれかにおい
て優秀なスペーサーを与え、特定の制御剤の必要なしに
流体損失上に良好な制御を与えることがわかる。
表３Ａおよび３Ｂは、前記のような本発明の必須の利点
の１つを実証する。表示の例は、流れがいかなる流量で
も有効に副層流（ｓｕｂ−Ｉａｍｉｎａｒ ）またはプ
ラグ型を有することを示すだけではなく、乱流が低流量
においてさえ達成されることを示す。
の１つを実証する。表示の例は、流れがいかなる流量で
も有効に副層流（ｓｕｂ−Ｉａｍｉｎａｒ ）またはプ
ラグ型を有することを示すだけではなく、乱流が低流量
においてさえ達成されることを示す。
本発明のスペーサーの流れは、用語の厳密な意味で決し
て層流ではない（放射線軌道速度プロフィール）。この
ことは、得ようとする性質に必須の非常にオリジナルな
特性である。
て層流ではない（放射線軌道速度プロフィール）。この
ことは、得ようとする性質に必須の非常にオリジナルな
特性である。
生体高分子の市販の例は、ケルコ・ロータリー（メルク
・エンド・カンパニー）裂「ビオザン（Ｂｌｏｚａｎ）
Ｊである。
・エンド・カンパニー）裂「ビオザン（Ｂｌｏｚａｎ）
Ｊである。
ポリナフタレンスルホネートの非限定例としては、ダイ
ヤモンド・シャームロツクがらのロマール（Ｌｏｍａｒ
） ＤＳＫ、 Ｌ ３、ＭＳ、 Ｗ、 ＤＬＳＦ 。
ヤモンド・シャームロツクがらのロマール（Ｌｏｍａｒ
） ＤＳＫ、 Ｌ ３、ＭＳ、 Ｗ、 ＤＬＳＦ 。
Ｗ、 Ｒ，ブレースからのダキサッド（Ｄａｘａｄ ）
１つおよび１９Ｌ；セピックｉ土からのディスボレン（
Ｄｌｓｐｏｌｃｎｃ ） ＤおよびＧ；ローム・エンド
・ハースからのポリマーＱＲ−８１９およびＢＡＳＦか
らのプルラダイン（Ｐｌｕｒａｄｙｎｃ ） ＣＤ ９
８が挙げられる。
１つおよび１９Ｌ；セピックｉ土からのディスボレン（
Ｄｌｓｐｏｌｃｎｃ ） ＤおよびＧ；ローム・エンド
・ハースからのポリマーＱＲ−８１９およびＢＡＳＦか
らのプルラダイン（Ｐｌｕｒａｄｙｎｃ ） ＣＤ ９
８が挙げられる。
流体損失制御剤としては、ヒドロキシエチルセルロース
、カルボキシメチルセルロースおよびカルボキシメチル
ヒドロキシエチルセルロース型のセルロース誘導体、並
びにヒドロキシプロピルメチルセルロースが挙げられる
（表４参照）。
、カルボキシメチルセルロースおよびカルボキシメチル
ヒドロキシエチルセルロース型のセルロース誘導体、並
びにヒドロキシプロピルメチルセルロースが挙げられる
（表４参照）。
しかしながら、本発明の必須の態様の１つは、高曇り点
（〉７０℃）を有するプロピルメチルセルロース誘導体
を流体損失制御剤として選択することに存する。
（〉７０℃）を有するプロピルメチルセルロース誘導体
を流体損失制御剤として選択することに存する。
以前は、欧州特許第００７９９９７号明細書に記載の文
献においては、ここに記載のものとは反対に、低曇り点
についての探索がなされた。これは、乱流の開始を容易
にするが、不安定現象（沈殿、不安定な流れ）を起こし
た。
献においては、ここに記載のものとは反対に、低曇り点
についての探索がなされた。これは、乱流の開始を容易
にするが、不安定現象（沈殿、不安定な流れ）を起こし
た。
本発明によれば、高曇り点（少なくとも７０℃）をＨす
るヒドロキシプロピルメチルセルロースは、スペーサー
レオロジーに最小の影響しが与えずに優秀な流体損失制
御（８０ｍｌ／３０分よりも少なＩＯ）を与えるので特
に推奨される。このことは、非常に低い濃度（例えば、
２ｇ／ＩＩ）においてさえ真実である。
るヒドロキシプロピルメチルセルロースは、スペーサー
レオロジーに最小の影響しが与えずに優秀な流体損失制
御（８０ｍｌ／３０分よりも少なＩＯ）を与えるので特
に推奨される。このことは、非常に低い濃度（例えば、
２ｇ／ＩＩ）においてさえ真実である。
塩水環境においては、前記のように、ゲル化剤それ自体
がスペーサーにこの点で満足な性質を付与するので、流
体損失制御の問題は、余り重要ではない。
がスペーサーにこの点で満足な性質を付与するので、流
体損失制御の問題は、余り重要ではない。
それにも拘らず、非常に良好な流体損失制御が必要であ
る場合、例えば、高浸透帯に遭遇する時、特に乱流を使
用する時には、累層への流体の損失は、スペーサーレオ
ロジーの望ましくない修正を生ずる。この場合には、高
分子量 （３００，０００〜１，０００，０００）ポリスチレン
スルホネートからなる流体損失制御剤が、使用できた。
る場合、例えば、高浸透帯に遭遇する時、特に乱流を使
用する時には、累層への流体の損失は、スペーサーレオ
ロジーの望ましくない修正を生ずる。この場合には、高
分子量 （３００，０００〜１，０００，０００）ポリスチレン
スルホネートからなる流体損失制御剤が、使用できた。
分子量約５００，０００のポリスチレンスルホネート、
例えば、製品ベルサ（Ｖｅｒｓａ ）ＴＬ５００は、こ
の種の良好な薬剤である。好ましい流体損失制御剤の別
の例は、好ましくは！Ｉｌｌ比１：２のベルサＴＬ５０
０などの高分子量ポリスチレンスルホネートとベルサＴ
Ｌ７０などの低分子量のポリスチレンスルホネートとの
混合物であろう。このような組成物は、スペーサーのレ
オロジーまたはその流体損失制御性を破壊せずに（表４
および５参照）、最も問題なかん水をベースとする掘削
泥水との不相容性の改良を許す（表７参照）。
例えば、製品ベルサ（Ｖｅｒｓａ ）ＴＬ５００は、こ
の種の良好な薬剤である。好ましい流体損失制御剤の別
の例は、好ましくは！Ｉｌｌ比１：２のベルサＴＬ５０
０などの高分子量ポリスチレンスルホネートとベルサＴ
Ｌ７０などの低分子量のポリスチレンスルホネートとの
混合物であろう。このような組成物は、スペーサーのレ
オロジーまたはその流体損失制御性を破壊せずに（表４
および５参照）、最も問題なかん水をベースとする掘削
泥水との不相容性の改良を許す（表７参照）。
好ましい増量剤は、水酸化バリウムであろうが、スペー
サーのデザインの詳細については、仏国特許出願第８５
−０８４３４号明細書参照。このように、スペーサーは
、水酸化バリウム（１，５５ｇ／Ωまで）で増量でき、
そして増量は、最終の所望の密度を達成するために赤鉄
鉱またはチタン鉄鉱で補完できる。このような系の場合
に得られた実験結果を表３Ａおよび３Ｂ注釈（２）に示
す。
サーのデザインの詳細については、仏国特許出願第８５
−０８４３４号明細書参照。このように、スペーサーは
、水酸化バリウム（１，５５ｇ／Ωまで）で増量でき、
そして増量は、最終の所望の密度を達成するために赤鉄
鉱またはチタン鉄鉱で補完できる。このような系の場合
に得られた実験結果を表３Ａおよび３Ｂ注釈（２）に示
す。
最適のスペーサー性は、米国特許第４，１０４゜１９３
号明細書に記載のように塩（ＮａＣ１またはＫＣｌ）の
添加前にゲル化剤を先ずベース水（これは淡水または海
水または塩水のいずれかである）中で水和するならば、
得られる。しかしながら、ゲル他剤ａ度を少なくとも５
０％まで増大するかスペーサーを混合し連続的にポンプ
給送するならば、多量の既に溶存した塩を含有する水の
使用は、可能である。以下の表３Ｂは、多いＫＣＩ含量
を有する水中の本発明に係るスペーサーの若干の性質を
示す〔注釈（４）〕。
号明細書に記載のように塩（ＮａＣ１またはＫＣｌ）の
添加前にゲル化剤を先ずベース水（これは淡水または海
水または塩水のいずれかである）中で水和するならば、
得られる。しかしながら、ゲル他剤ａ度を少なくとも５
０％まで増大するかスペーサーを混合し連続的にポンプ
給送するならば、多量の既に溶存した塩を含有する水の
使用は、可能である。以下の表３Ｂは、多いＫＣＩ含量
を有する水中の本発明に係るスペーサーの若干の性質を
示す〔注釈（４）〕。
泡止め剤は、常時、成分の混合時に使用されるであろう
。これは、スペーサーを弱塩水と混合するならば、ポリ
グリコール型、例えば、ダウ・ケミカル・カンパニー製
ポリグリコール４，０００である。強塩水（ＮａＣ１１
０％当瓜よりも大）の場合には、ポリグリコールは、も
はやａ効ではなく、代わりにポリオルガノシロキサンな
どのシリコーン乳濁液が使用される。例えば、ダウ・コ
ーニング・カンパニー製の製品ＤＢ３１が、使用できる
（表６参照）。
。これは、スペーサーを弱塩水と混合するならば、ポリ
グリコール型、例えば、ダウ・ケミカル・カンパニー製
ポリグリコール４，０００である。強塩水（ＮａＣ１１
０％当瓜よりも大）の場合には、ポリグリコールは、も
はやａ効ではなく、代わりにポリオルガノシロキサンな
どのシリコーン乳濁液が使用される。例えば、ダウ・コ
ーニング・カンパニー製の製品ＤＢ３１が、使用できる
（表６参照）。
最後に、スペーサーを油をベースとする泥水の存在下で
使用する時には、界面活性剤は、前記仏国特許に記載の
ようにポンプ給送前に井戸に入れられるであろう。ＨＬ
Ｂ値７〜１５を有する界面活性剤（ＨＬＢ：親水性親油
性バランス）は、スペーサーｌＴｌ１当たり１０〜４Ｏ
Ｎの濃度で使用される。
使用する時には、界面活性剤は、前記仏国特許に記載の
ようにポンプ給送前に井戸に入れられるであろう。ＨＬ
Ｂ値７〜１５を有する界面活性剤（ＨＬＢ：親水性親油
性バランス）は、スペーサーｌＴｌ１当たり１０〜４Ｏ
Ｎの濃度で使用される。
表 ２
ゲル化剤と各種の泥水およびセメントスラリーとの相容
性ゲル化剤−「ビオザンＪ ＋ＰＮＳ （比率１：２）
表 ６ 泡止め剤／サリンスベーサー 泡止め剤 ポリグリコール４０００ （ダウ・ケミカル）泡止め剤
ヘクスト製ＴＩＰ 泡止め剤ヘクスト製ＦＮ ？／ｌ／ニア：／製ＥＰＩＭＩＮ ＯＰ ７０ロー
ヌφブーラン製４１４ ８Ｍ １６マルコン製ＤＣ１
３０１ ダウ・コーニング製ＤＢ ３１ ★★シリコーン乳
濁液 試験法ニ スペーサ−を泡止め剤５ｇ／ｌを含有する３０９１次い
で、これを室温で２５０ｍ１のメスシリンダー泡容量（
ｍｌ） 備 考 ５０ 安定な泡 ５０ 安定な泡 ４０ 安定な泡 ４０ 低抵抗泡 ２５ 超低抵抗泡 ５ 泡は自発的に破壊 ０ 泡は完全に不在 １Ｎａｃ１水溶液と混合する。
性ゲル化剤−「ビオザンＪ ＋ＰＮＳ （比率１：２）
表 ６ 泡止め剤／サリンスベーサー 泡止め剤 ポリグリコール４０００ （ダウ・ケミカル）泡止め剤
ヘクスト製ＴＩＰ 泡止め剤ヘクスト製ＦＮ ？／ｌ／ニア：／製ＥＰＩＭＩＮ ＯＰ ７０ロー
ヌφブーラン製４１４ ８Ｍ １６マルコン製ＤＣ１
３０１ ダウ・コーニング製ＤＢ ３１ ★★シリコーン乳
濁液 試験法ニ スペーサ−を泡止め剤５ｇ／ｌを含有する３０９１次い
で、これを室温で２５０ｍ１のメスシリンダー泡容量（
ｍｌ） 備 考 ５０ 安定な泡 ５０ 安定な泡 ４０ 安定な泡 ４０ 低抵抗泡 ２５ 超低抵抗泡 ５ 泡は自発的に破壊 ０ 泡は完全に不在 １Ｎａｃ１水溶液と混合する。
に注ぎ、形成された泡の容量を測定する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、（ａ）（ｉ）ゲル化剤および（ｉｉ）少なくとも１
種の流体損失制御剤からなるスペーサー自体用のベース
； （ｂ）淡水またはかん水、または塩水および場合によっ
て泡止め剤、界面活性剤、増量剤などの標準添加剤 からなることを特徴とするスペーサー組成物。 ２、ゲル化剤が、１：０から１：３の比率、、好ましく
は１：２から１：１の比率の生体高分子とポリナフタレ
ンスルホネート型の高分子電解質とからなる特許請求の
範囲第１項に記載の組成物。 ３、ベース水中の生体高分子の濃度が、少なくとも２ｇ
／ｌである特許請求の範囲第１項または第２項に記載の
組成物。 ４、流体損失制御剤が、曇り点少なくとも７０℃を有す
るセルロース誘導体、特にヒドロキシプロピルメチルセ
ルロースである特許請求の範囲第１項ないし第３項のい
ずれかに記載の組成物。 ５、塩水環境中の流体損失制御剤が、少なくとも１種の
ポリスチレンスルホネートからなる高分子電解質である
特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の
組成物。 ６、生体高分子が、アゾトバクター・インディカス細菌
の誘導体である特許請求の範囲第１項ないし第５項のい
ずれかに記載の組成物。 ７、油井、ガス井、水抜き井戸または地熱さく井の処理
および類似の応用におけるスペーサーとしての特許請求
の範囲第１項ないし第６項のいずれかに記載の組成物の
用途。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8616786 | 1986-11-28 | ||
| FR8616786A FR2607514B1 (fr) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | Composition aqueuse de spacer universel, et son utilisation dans le secteur des puits de forage, notamment petroliers et de gaz |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63142184A true JPS63142184A (ja) | 1988-06-14 |
| JP2583251B2 JP2583251B2 (ja) | 1997-02-19 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62299651A Expired - Lifetime JP2583251B2 (ja) | 1986-11-28 | 1987-11-27 | 万能スペーサー用水性組成物および井戸特に油井およびガス井を掘削する分野におけるその用途 |
Country Status (6)
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|---|---|
| EP (1) | EP0273471B1 (ja) |
| JP (1) | JP2583251B2 (ja) |
| BR (1) | BR8706435A (ja) |
| DE (1) | DE3780934T2 (ja) |
| FR (1) | FR2607514B1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS56115376A (en) * | 1980-02-14 | 1981-09-10 | Taisei Corp | Digging of muddy water |
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1987
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Patent Citations (9)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| NO874957L (no) | 1988-05-30 |
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| FR2607514B1 (fr) | 1994-04-08 |
| NO176402C (no) | 1995-03-29 |
| NO176402B (no) | 1994-12-19 |
| FR2607514A1 (fr) | 1988-06-03 |
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