JPS631545A - パタ−ン描画装置 - Google Patents
パタ−ン描画装置Info
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- JPS631545A JPS631545A JP61144614A JP14461486A JPS631545A JP S631545 A JPS631545 A JP S631545A JP 61144614 A JP61144614 A JP 61144614A JP 14461486 A JP14461486 A JP 14461486A JP S631545 A JPS631545 A JP S631545A
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- Japan
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- roll
- substrate
- roll substrate
- stage
- cassette
- Prior art date
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- Granted
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- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、光スポットをラスター走査により２次元的に
走査して２次元パターンを描画するパターン描画装置、
特にフレキシブル基板やアートワークフィルム基板の直
接描画に好適なパターン｛ｊη画装置に関する。
走査して２次元パターンを描画するパターン描画装置、
特にフレキシブル基板やアートワークフィルム基板の直
接描画に好適なパターン｛ｊη画装置に関する。
（従来の技術）
従来、レーザビームの走査と変調とにより、プリント基
板用アートワークフィルム等の精密パターンを描画する
装置として、第３図に示すようなパターン描画装置が知
られている。レーザー光源１から出たレーザビームが光
変調器２によって強度変調され、ビームエキスパンダ３
によってビーム幅が拡大された後、回転するポリゴンミ
ラ−４により反射、偏向され、ｆθレンズ５によリ集束
されて反射鏡６を介して、極めて小さい光スポットとな
り、一次元移動ステージ７に載置されたシート状の惑光
基板８上に投射される。その投射される光スボソトは、
光変調器２の作用によって明滅しなからＸ方向に直線走
査される。
板用アートワークフィルム等の精密パターンを描画する
装置として、第３図に示すようなパターン描画装置が知
られている。レーザー光源１から出たレーザビームが光
変調器２によって強度変調され、ビームエキスパンダ３
によってビーム幅が拡大された後、回転するポリゴンミ
ラ−４により反射、偏向され、ｆθレンズ５によリ集束
されて反射鏡６を介して、極めて小さい光スポットとな
り、一次元移動ステージ７に載置されたシート状の惑光
基板８上に投射される。その投射される光スボソトは、
光変調器２の作用によって明滅しなからＸ方向に直線走
査される。
その惑光基仮８は、送りねじ９および駆動モータＭによ
って、光スボソトによる主走査方向Ｘと直角なｙ方向に
架台１０上を一次元移動するステージ７上に真空吸着等
によって固定されている。
って、光スボソトによる主走査方向Ｘと直角なｙ方向に
架台１０上を一次元移動するステージ７上に真空吸着等
によって固定されている。
従って、レーザ光束による極めて小さい光スポットによ
って感光基板８はＸ方向に主走査され、ステージ７の移
動によってｙ方向に副走査されて、２次元のパターンが
その感光基板８上に描画される。
って感光基板８はＸ方向に主走査され、ステージ７の移
動によってｙ方向に副走査されて、２次元のパターンが
その感光基板８上に描画される。
（発明が解決しようとする問題点）
上記のような構成の従来公知のハターン描画装置におい
ては、ステージ７上に載置される惑光基仮８はシート状
であって、一枚の感光基板８の描れる。ところが、その
交換の際には、反射鏡６が惑光基板８上に設けられてい
るため、ステージ７を第３図中で右方へ大きく移動して
、惑光基仮８を反射鏡６の直下から引き出した後に交換
しなければならない。しかも、交換する毎に、未感光基
板を再びステージ７に対して位置および方向の粗い位置
合わせ（ブリアライメント）をする必要が有り、複数の
感光基板に描画するときは多くの時間を必要とし、非能
率的なものとなる問題点が有った。
ては、ステージ７上に載置される惑光基仮８はシート状
であって、一枚の感光基板８の描れる。ところが、その
交換の際には、反射鏡６が惑光基板８上に設けられてい
るため、ステージ７を第３図中で右方へ大きく移動して
、惑光基仮８を反射鏡６の直下から引き出した後に交換
しなければならない。しかも、交換する毎に、未感光基
板を再びステージ７に対して位置および方向の粗い位置
合わせ（ブリアライメント）をする必要が有り、複数の
感光基板に描画するときは多くの時間を必要とし、非能
率的なものとなる問題点が有った。
本発明は、上記従来装置の問題点を解決し、複数の感光
基板を能率的に描画し、しかも、簡単にローディングと
アンローディングとが可能で、次工程にスムーズに移管
することができるパターン描画装置を提供することを目
的とする。
基板を能率的に描画し、しかも、簡単にローディングと
アンローディングとが可能で、次工程にスムーズに移管
することができるパターン描画装置を提供することを目
的とする。
（問題点を解決するための手段）
上記の目的を達成するために本発明においては、ロール
フィルム状に巻かれて形成された未感光の描画用ロール
基板（ｌ１）を収納し且つ大きい描画用アパーチャを有
するロール基仮カセット（ｌ２）と、そのロール基板カ
セット（ｌ２）を着脱可能に支持して一次元移動可能な
ステージ（１３）と、このステージ（１３）に載置され
た前記のロール基板カセント（ｌ２）内の描画用ロール
基＋ｆｆｌ（１１）をラスタ走査する光スポソトを投射
するための光スポソト投射光学系（１５〜２１）とｔｊ
Ｊ画された描画用ロール基板を一駒づつ巻き取る巻取り
手段（３１）とを設けて、パターンを連続して描画可能
に構成することを技術的要点とするものである。
フィルム状に巻かれて形成された未感光の描画用ロール
基板（ｌ１）を収納し且つ大きい描画用アパーチャを有
するロール基仮カセット（ｌ２）と、そのロール基板カ
セット（ｌ２）を着脱可能に支持して一次元移動可能な
ステージ（１３）と、このステージ（１３）に載置され
た前記のロール基板カセント（ｌ２）内の描画用ロール
基＋ｆｆｌ（１１）をラスタ走査する光スポソトを投射
するための光スポソト投射光学系（１５〜２１）とｔｊ
Ｊ画された描画用ロール基板を一駒づつ巻き取る巻取り
手段（３１）とを設けて、パターンを連続して描画可能
に構成することを技術的要点とするものである。
（作 用）
複数のパターンが連続して描画できるように、ロールフ
ィルム状に形成された未感光の描画用ロール基板（１１
）をロール基板カセ７｝（１２）に収納し、そのロール
基板カセット（１２）を−次元移動するステージ（ｌ３
）上に！ｌ２置し、ステージ（１３）を移動させると同
時に、光スポット投射光学系（１５〜２１）によって投
射される光スポソトで描画用ロール基板（１ １）をラ
スタ走査してパターンを描画する。描画用ロール基板カ
セント（１２）の描画用アパーチャ（１２Ｂ）を通して
一駒分のパターンが描画されたならば、巻取り手段（３
１）で、その一駒分の描画用ロール基板（１１）を巻き
取り、再び、ステージ（ｌ３）を移動しつつ、光スポッ
トで描画用ロール基板（ｌ１）の未怒光面をラスタ走査
して、パターンを繰返して描画する。描画用ロール基仮
（ｌｌ）全部が描画されたならばロール基板カセ・７ト
（ｌ２）をステージ（１３）から取りはずして別のロー
ル基板（１２）と交換してステージ（ｌ３）上に載置す
る。上記のようにして、複数のパターンが連続して描画
用ロール基板（１１）上に描画される。その際、ブリア
ライメント作業はロール基板カセット（１２）１個につ
き１回だけ行えばよいから、極めて能率的に描画を行う
ことができる。また、ステージ（１３）から取りはずさ
れたロール基板力セッｌ−（１２）は、そのまま、次の
処理工程に搬送できるから、搬送にも有利である。
ィルム状に形成された未感光の描画用ロール基板（１１
）をロール基板カセ７｝（１２）に収納し、そのロール
基板カセット（１２）を−次元移動するステージ（ｌ３
）上に！ｌ２置し、ステージ（１３）を移動させると同
時に、光スポット投射光学系（１５〜２１）によって投
射される光スポソトで描画用ロール基板（１ １）をラ
スタ走査してパターンを描画する。描画用ロール基板カ
セント（１２）の描画用アパーチャ（１２Ｂ）を通して
一駒分のパターンが描画されたならば、巻取り手段（３
１）で、その一駒分の描画用ロール基板（１１）を巻き
取り、再び、ステージ（ｌ３）を移動しつつ、光スポッ
トで描画用ロール基板（ｌ１）の未怒光面をラスタ走査
して、パターンを繰返して描画する。描画用ロール基仮
（ｌｌ）全部が描画されたならばロール基板カセ・７ト
（ｌ２）をステージ（１３）から取りはずして別のロー
ル基板（１２）と交換してステージ（ｌ３）上に載置す
る。上記のようにして、複数のパターンが連続して描画
用ロール基板（１１）上に描画される。その際、ブリア
ライメント作業はロール基板カセット（１２）１個につ
き１回だけ行えばよいから、極めて能率的に描画を行う
ことができる。また、ステージ（１３）から取りはずさ
れたロール基板力セッｌ−（１２）は、そのまま、次の
処理工程に搬送できるから、搬送にも有利である。
（実施例）
次に、本発明の実施例を添付の図面に基づいて詳しく説
明する。
明する。
第１図は、本発明の実施例を示すパターン描画装置の斜
視図で、第２図は本発明の要部をなす第１図中のロール
基板カセットとステージ部との構成を示すｙ方向の縦断
面図である。
視図で、第２図は本発明の要部をなす第１図中のロール
基板カセットとステージ部との構成を示すｙ方向の縦断
面図である。
ドライフィルムをラミネートし、あるいは液状レジスト
を塗布してロールフィルム状に巻き取られて形成された
怒光基板またはアートワーク用フィルム（以下、単に「
ロール基仮」と称する．）１１を内部に収納するロール
基板カセット１２は、後で詳しく述べられる一次元移動
ステージ（以下単に「ステージ」と称する。）１３に第
１図および第２図に示すように載置されている。また、
ステージｌ３を移動可能に支持する架台１４たは、レー
ザ光源１５が設けられ、レーザ光源１５から出たレーザ
光束は、プリズム１６Ａにて上方へ転向され、光変調器
（例えば超音波光変調器）１７、プリズム１６Ｂおよび
ビームエキスパンダ１８を介して定速回転するポリゴン
ミラ−１９に投射される。光変調器１７によって変調さ
れて明滅し且つポリゴンミラ−１９にて反射・偏向され
たレーザ光束は、ｆθレンズ２０によって集光され、Ｘ
方向に長いミラー２ｌにて下方へ転向されて、ロール基
仮１１上に明滅する微小光スボソトとして垂直に投射さ
れる。この光スポットは、ポリゴンミラーｌ９の回転に
応じてロール基板１１をＸ方向に等速にて走査する。な
お、レーザ光源１５からミラー２１までの光学系をもっ
て光スポノト投射光学系が構成される。
を塗布してロールフィルム状に巻き取られて形成された
怒光基板またはアートワーク用フィルム（以下、単に「
ロール基仮」と称する．）１１を内部に収納するロール
基板カセット１２は、後で詳しく述べられる一次元移動
ステージ（以下単に「ステージ」と称する。）１３に第
１図および第２図に示すように載置されている。また、
ステージｌ３を移動可能に支持する架台１４たは、レー
ザ光源１５が設けられ、レーザ光源１５から出たレーザ
光束は、プリズム１６Ａにて上方へ転向され、光変調器
（例えば超音波光変調器）１７、プリズム１６Ｂおよび
ビームエキスパンダ１８を介して定速回転するポリゴン
ミラ−１９に投射される。光変調器１７によって変調さ
れて明滅し且つポリゴンミラ−１９にて反射・偏向され
たレーザ光束は、ｆθレンズ２０によって集光され、Ｘ
方向に長いミラー２ｌにて下方へ転向されて、ロール基
仮１１上に明滅する微小光スボソトとして垂直に投射さ
れる。この光スポットは、ポリゴンミラーｌ９の回転に
応じてロール基板１１をＸ方向に等速にて走査する。な
お、レーザ光源１５からミラー２１までの光学系をもっ
て光スポノト投射光学系が構成される。
一方、ステージ１３は、第２図に示すように大別して、
架台１４上をｙ方向に移動可能なステージ本体２２と、
ステージ本体２２上に回転可能に支持されたθ回転テー
ブル２３と、θ回転テープル２３上に昇降可能に支持さ
れたロール基板台２４と、ロール基板台２４の上方に位
置してステージ本体２２に固設された上板２５とから構
成されている。
架台１４上をｙ方向に移動可能なステージ本体２２と、
ステージ本体２２上に回転可能に支持されたθ回転テー
ブル２３と、θ回転テープル２３上に昇降可能に支持さ
れたロール基板台２４と、ロール基板台２４の上方に位
置してステージ本体２２に固設された上板２５とから構
成されている。
ステージ本体２３は、架台ｌ４上に回転可能に設けられ
た送りねじ２６を駆動モータ２７で回転することにより
、ｙ方向に一次元移動するように構成されている。θ回
転テーブル２３は、ステージ本体２２に設けられた図示
されないモータによって水平面内で微動回転される。ま
た、θ回転テーブル２３とロール基板台２４との間には
、例えばピストンリングとエアシリンダのようなアクチ
ュエータ２８と、ロール基仮台２４を上下に案内する昇
降ガイド２９とが設けられ、これにより、ロール基仮台
２５は光スポソトの投射光軸方向に上下微動可能である
。なお、ロール基板台２４の上面は、光スボソトの投射
光軸に垂直で且つステージ本体２２の移動方向（ｙ方向
）に平行するように形成されている。
た送りねじ２６を駆動モータ２７で回転することにより
、ｙ方向に一次元移動するように構成されている。θ回
転テーブル２３は、ステージ本体２２に設けられた図示
されないモータによって水平面内で微動回転される。ま
た、θ回転テーブル２３とロール基板台２４との間には
、例えばピストンリングとエアシリンダのようなアクチ
ュエータ２８と、ロール基仮台２４を上下に案内する昇
降ガイド２９とが設けられ、これにより、ロール基仮台
２５は光スポソトの投射光軸方向に上下微動可能である
。なお、ロール基板台２４の上面は、光スボソトの投射
光軸に垂直で且つステージ本体２２の移動方向（ｙ方向
）に平行するように形成されている。
ロール基仮台２４の上面外周には、ロール基板カセッｌ
−１２を着脱可能に支持する段差部２４ａが設けられ、
その段差部２４ａに、ロール基板カセノトｌ２の裏側に
形成された開口１２Ａが嵌合することにより、ロール基
板カセットｌ２はロール基板台２４上に位置および方向
が規正されて載置される。また、ロール基仮カセット１
２がロール基板台２４に載置されると、ロール基板台２
４の上面２４ｂは、ロール基板カセット１２内のロール
基板１１の裏面に接触し、ロール基仮ｌ１を真空吸着す
ることにより、ロール基板ｌ１の平面度を良好に保つよ
うに構成されている。
−１２を着脱可能に支持する段差部２４ａが設けられ、
その段差部２４ａに、ロール基板カセノトｌ２の裏側に
形成された開口１２Ａが嵌合することにより、ロール基
板カセットｌ２はロール基板台２４上に位置および方向
が規正されて載置される。また、ロール基仮カセット１
２がロール基板台２４に載置されると、ロール基板台２
４の上面２４ｂは、ロール基板カセット１２内のロール
基板１１の裏面に接触し、ロール基仮ｌ１を真空吸着す
ることにより、ロール基板ｌ１の平面度を良好に保つよ
うに構成されている。
ロール基板カセット１２の表面（第２図中で上面）には
、描画アパーチャ１２Ｂが設けられ、さらにその描画ア
パーチャ１２Ｂの上方に位置する上板２５の下面に突設
された少なくとも３個の位置決めピン３０がそれぞれ貫
通する逃げ孔１２Ｃが設けられている。また、ロール基
板カセット１２の巻取り側には、ロール基仮１１を巻き
取るための巻取り用モータ３ １ １＞＜設けられ、そ
のモータ３１の駆動により一定屋（一駒分）づつロール
基板１１が描画アパーチャ１２Ｂを通過するように構成
されており、一回に描画できる一駒分の大きさは、その
描画アパーチャ１２Ｂにようて定められる。また、ロー
ル基板ｌ１がロール基仮台２４と共に上昇して位置決め
ビン３０の下端面に接することにより、ロール基板１１
の感光面（上面）は、ｆθレンズ２０の焦点面と一敗し
、その感光面上にｆθレンズ２０によって投射された光
スポットが結像されるように構成されている。なお、上
板２５は、ステージ本体２２に設けられた支柱２２Ａ（
第１図参照）によって支持され、ミラー２１を介して投
射されるレーザ光が通過する窓２５Ａを有し、位置決め
ピン３０は、その窓２５Ａの外周枠部分に植設されてい
る。
、描画アパーチャ１２Ｂが設けられ、さらにその描画ア
パーチャ１２Ｂの上方に位置する上板２５の下面に突設
された少なくとも３個の位置決めピン３０がそれぞれ貫
通する逃げ孔１２Ｃが設けられている。また、ロール基
板カセット１２の巻取り側には、ロール基仮１１を巻き
取るための巻取り用モータ３ １ １＞＜設けられ、そ
のモータ３１の駆動により一定屋（一駒分）づつロール
基板１１が描画アパーチャ１２Ｂを通過するように構成
されており、一回に描画できる一駒分の大きさは、その
描画アパーチャ１２Ｂにようて定められる。また、ロー
ル基板ｌ１がロール基仮台２４と共に上昇して位置決め
ビン３０の下端面に接することにより、ロール基板１１
の感光面（上面）は、ｆθレンズ２０の焦点面と一敗し
、その感光面上にｆθレンズ２０によって投射された光
スポットが結像されるように構成されている。なお、上
板２５は、ステージ本体２２に設けられた支柱２２Ａ（
第１図参照）によって支持され、ミラー２１を介して投
射されるレーザ光が通過する窓２５Ａを有し、位置決め
ピン３０は、その窓２５Ａの外周枠部分に植設されてい
る。
第１図および第２図に示すパターン描画装置は上記の如
く構成されているので、アクチュエータ２８を作動させ
てロール基板台２４を最下位置まで下降させた後、未感
光のロール基板１１が収納されたロール基板カセット１
２をロール基板台２４上にｕ．置する。この場合、ロー
ル基板カセット１２の裏面開口１２Ａをロール基板台２
４の段差部２４ａに嵌合させると、ロール基仮１１はロ
ール基板台２４の上面２４ｂに接触し、真空吸着によっ
てその上面２４ｂに固定される。次に、θ回転テーブル
２３を微動回転して、ロール基板カセット１２の描画ア
パーチャ１２Ｂの長手力向をスで テージ本体２２の移動方向（ｙ方向）と一致ぎ１プリア
ライメントを行う。このロール基仮１１のブリアライメ
ントが完了したならば、アクチュエータ２８を作動させ
てロール基板台２４を上昇させ、上板２５に植設された
位置決めピン３０の下端にロール基板を接触させ、ロー
ル基Ｆｉ．ｌｌの上面（惑光面）をｆθレンズ２６の焦
点面に一敗させる。次に、ポリゴンミラ−１９を回転さ
せつつ、駆動モーク２７を回転してステージｌ３をｙ方
向に送り、ｆθレンズ２０を介して投射されるレーザ光
束の光スポットによってロール基板１ｌをラスター走査
し、光変調器ｌ７によって明滅変調されるレーザ光束に
よって所定パターンの描画を行なう。ロール基仮゛カセ
ット１２のロール基板アパ−チャ１２Ｂに対応する一駒
分の描画が終了すると、そのロール基板アパーチャ１２
Ｂの第１図中で左端が光スポット投射位置近傍に達し、
また、光スポットは光変調器１７によって消滅される。
く構成されているので、アクチュエータ２８を作動させ
てロール基板台２４を最下位置まで下降させた後、未感
光のロール基板１１が収納されたロール基板カセット１
２をロール基板台２４上にｕ．置する。この場合、ロー
ル基板カセット１２の裏面開口１２Ａをロール基板台２
４の段差部２４ａに嵌合させると、ロール基仮１１はロ
ール基板台２４の上面２４ｂに接触し、真空吸着によっ
てその上面２４ｂに固定される。次に、θ回転テーブル
２３を微動回転して、ロール基板カセット１２の描画ア
パーチャ１２Ｂの長手力向をスで テージ本体２２の移動方向（ｙ方向）と一致ぎ１プリア
ライメントを行う。このロール基仮１１のブリアライメ
ントが完了したならば、アクチュエータ２８を作動させ
てロール基板台２４を上昇させ、上板２５に植設された
位置決めピン３０の下端にロール基板を接触させ、ロー
ル基Ｆｉ．ｌｌの上面（惑光面）をｆθレンズ２６の焦
点面に一敗させる。次に、ポリゴンミラ−１９を回転さ
せつつ、駆動モーク２７を回転してステージｌ３をｙ方
向に送り、ｆθレンズ２０を介して投射されるレーザ光
束の光スポットによってロール基板１ｌをラスター走査
し、光変調器ｌ７によって明滅変調されるレーザ光束に
よって所定パターンの描画を行なう。ロール基仮゛カセ
ット１２のロール基板アパ−チャ１２Ｂに対応する一駒
分の描画が終了すると、そのロール基板アパーチャ１２
Ｂの第１図中で左端が光スポット投射位置近傍に達し、
また、光スポットは光変調器１７によって消滅される。
上記の一駒の描画が終了すると、アクチュエータ２８を
作動させてロール基板台２４をわずかに下降させると同
時に、ロール基板ｌ１の真空吸着を解除し、巻き上げモ
ータ３１を駆動させて、ロール基仮１１を一駒分だけ巻
き上げる。さらに、再びロール基板１１は真空吸着され
、上板２５の位置決めビン３０に接触するまでロール基
板台２４と共に上昇し、２駒目のパターン描画が行われ
る。この場合、ロール基板カセットｌ２をステージ１３
と共にｙ方向とは逆方向に移動して第１図の位置まで復
帰させ、再び前回と同様に描画を行ってもよいが、その
戻り方向でも光スポソトでラスタ走査することにより、
２駒目のパターン閘画を行うことができる。いずれの場
合においても、既にロールＭ＋ｆｆｌｌｌのブリアライ
メントは完了し、巻き上げによる方向の狂いは、極めて
僅かであるので、再びブリアライメントを行うことなく
描画することができる。
作動させてロール基板台２４をわずかに下降させると同
時に、ロール基板ｌ１の真空吸着を解除し、巻き上げモ
ータ３１を駆動させて、ロール基仮１１を一駒分だけ巻
き上げる。さらに、再びロール基板１１は真空吸着され
、上板２５の位置決めビン３０に接触するまでロール基
板台２４と共に上昇し、２駒目のパターン描画が行われ
る。この場合、ロール基板カセットｌ２をステージ１３
と共にｙ方向とは逆方向に移動して第１図の位置まで復
帰させ、再び前回と同様に描画を行ってもよいが、その
戻り方向でも光スポソトでラスタ走査することにより、
２駒目のパターン閘画を行うことができる。いずれの場
合においても、既にロールＭ＋ｆｆｌｌｌのブリアライ
メントは完了し、巻き上げによる方向の狂いは、極めて
僅かであるので、再びブリアライメントを行うことなく
描画することができる。
上記のようにして、全フィルムの駒数の描画を終了した
ならば、ステージｌ３を第２図において左方へ移動して
ロール基板カセット１２をミラー２ｌの下部から引き出
した後、ロール基板台２４と共にロール基板カセット１
２を最下位置まで下降させる。次に、ロール基板１１の
真空吸着を解除し、ロール基板カセットｌ２をロール基
板台２４から取りはずし、別のロール基板カセット１２
と交換して描画が行われる。
ならば、ステージｌ３を第２図において左方へ移動して
ロール基板カセット１２をミラー２ｌの下部から引き出
した後、ロール基板台２４と共にロール基板カセット１
２を最下位置まで下降させる。次に、ロール基板１１の
真空吸着を解除し、ロール基板カセットｌ２をロール基
板台２４から取りはずし、別のロール基板カセット１２
と交換して描画が行われる。
なお、上記の実施例においては、描画用ロール基板ｌ１
の巻取り手段として、巻取り用モータ３１をロール基板
カセット１２に直接設けたが、ロール基板台２４に巻取
り用モークを設け、ロール基板力セソ｝１２を、ロール
基板台２４に代置したときに、ロール基板力七ソｌ−１
２の巻取り軸がその巻取りモータにカップリングを介し
て結合するように構成してもよい。丈だ、描画用ロール
基板１ｌの厚さが一様で、常に一定の厚さの描画用Ω ロール基板のみを用場合には、ロール基坂台２４を昇降
させるアクチュエータ２日と、上板２５とは不用となり
、ロール基板台２４をθ回転テーブル２３上に直接固定
するように構成してもよい。
の巻取り手段として、巻取り用モータ３１をロール基板
カセット１２に直接設けたが、ロール基板台２４に巻取
り用モークを設け、ロール基板力セソ｝１２を、ロール
基板台２４に代置したときに、ロール基板力七ソｌ−１
２の巻取り軸がその巻取りモータにカップリングを介し
て結合するように構成してもよい。丈だ、描画用ロール
基板１ｌの厚さが一様で、常に一定の厚さの描画用Ω ロール基板のみを用場合には、ロール基坂台２４を昇降
させるアクチュエータ２日と、上板２５とは不用となり
、ロール基板台２４をθ回転テーブル２３上に直接固定
するように構成してもよい。
以上の如く本発明によれば、ロールフィルム状に巻かれ
た描画用ロール基仮が収納されたロール基板カセットを
用いてパターン描画を行うようにしたから、ブリアライ
メントを一描画毎に行う必要が無いから、作業時間を短
縮でき、カセット毎の搬送が可能であるから、多数のパ
ターン描画の自動化、無人化が可能となる。
た描画用ロール基仮が収納されたロール基板カセットを
用いてパターン描画を行うようにしたから、ブリアライ
メントを一描画毎に行う必要が無いから、作業時間を短
縮でき、カセット毎の搬送が可能であるから、多数のパ
ターン描画の自動化、無人化が可能となる。
なお、一描画毎に描画用感光基板を交換する必要が無い
から、ステージの往勤ばかりでな《復動の際にも描画可
能であるから、極めて能率的に描画することができる利
点がある。
から、ステージの往勤ばかりでな《復動の際にも描画可
能であるから、極めて能率的に描画することができる利
点がある。
第１図は本発明の実施例を示す斜視図、第２図は第１図
に示す実施例の要部を構成するロール基板カセントとそ
のロール基板カセントを支持するステージ部とのｙ方向
の縦断面図、第３図は従来ｖｔ置の概略構成を示す斜視
図である。 （主要部分の符号の説明）
に示す実施例の要部を構成するロール基板カセントとそ
のロール基板カセントを支持するステージ部とのｙ方向
の縦断面図、第３図は従来ｖｔ置の概略構成を示す斜視
図である。 （主要部分の符号の説明）
Claims (3)
- （１）ロールフィルム状に巻かれて形成された未感光の
描画用ロール基板を収納し且つ大きい描画用アパーチャ
を有するロール基板カセットと、該ロール基板カセット
を着脱可能に支持して一次元移動可能なステージと、該
ステージに載置された前記ロール基板カセット内の前記
ロール基板をラスタ走査する光スポットを投射するため
の光スポット投射光学系と、描画された描画用ロール基
板を一駒づつ巻き取る巻取り手段とを有することを特徴
とするパターン描画装置。 - （２）前記ステージは、一次元移動可能なステージ本体
（２２）と、該ステージ本体（２２）に回転可能に支持
されたθ回転テーブル（２３）と、前記ロール基板カセ
ット（１２）を着脱可能に支持すると共に前記ロール基
板（１１）を真空吸着可能なロール基板台（２４）と、
該ロール基板台を前記θ回転テーブル（２３）上に昇降
可能に移動させるアクチュエータ（２８）とを含むこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のパターン描画
装置。 - （３）前記巻取り手段は、前記ロール基板カセット（１
２）に設けられた巻取り用モータ（３１）であることを
特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項記載のパ
ターン描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61144614A JPH0675972B2 (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | パタ−ン描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61144614A JPH0675972B2 (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | パタ−ン描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS631545A true JPS631545A (ja) | 1988-01-06 |
| JPH0675972B2 JPH0675972B2 (ja) | 1994-09-28 |
Family
ID=15366124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61144614A Expired - Fee Related JPH0675972B2 (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | パタ−ン描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0675972B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7292308B2 (en) | 2004-03-23 | 2007-11-06 | Asml Holding N.V. | System and method for patterning a flexible substrate in a lithography tool |
| JP2019174755A (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-10 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
| JP2022088436A (ja) * | 2017-09-13 | 2022-06-14 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
-
1986
- 1986-06-20 JP JP61144614A patent/JPH0675972B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7292308B2 (en) | 2004-03-23 | 2007-11-06 | Asml Holding N.V. | System and method for patterning a flexible substrate in a lithography tool |
| JP2008033359A (ja) * | 2004-03-23 | 2008-02-14 | Asml Holding Nv | システムおよび方法 |
| JP2009187038A (ja) * | 2004-03-23 | 2009-08-20 | Asml Holding Nv | システムおよび方法 |
| JP2022088436A (ja) * | 2017-09-13 | 2022-06-14 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
| JP2019174755A (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-10 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0675972B2 (ja) | 1994-09-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |