JPS63161043A - 酸化崩壊に対して安定化されたポリオレフィン組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明の背景 本発明は、少なくとも１８１Ｆのアシルキル−シアリー
ルアミンおよび少なくとも１種の立体障害ホスファイト
の組合せで酸化崩壊に対して安定化されたポリオレフィ
ンホモポリマー、コポリマーおよびそれらの混合物に関
する。

４．４′−ビス（α、α−ジメチルベンジル）ジフェニ
ルアミン（ＮＡＵＧＡＲＤ　４４５、Ｕｎｉｒｏｙａｌ
Ｃｈｅｍｉｃａ１社）のようなアラルキル−置換シアリ
ールアミンおよび各種のポリマー物質の酸化防止剤とし
てのそれらの利用は、Ｕ、Ｓ、Ｐ、　Ｎｏｓ。

３．４５２．９５６および３，５０５，２２５から公知
である。

立体障害ホスファイトは酸化防止剤物質の他の公知の部
類を構成する。他の成分を含むまたは含まない、アミン
成分および立体障害ホスファイト成分の両者を含有する
酸化防止剤組成物も公知である。

例、ｔ　ハ、Ｕ、Ｓ、Ｐ、　　ｒＩ＆１３，３７７，３
１５には、所望によりトリス−ノニルフェニルホスファ
イト、フェニルジオクチルホスファイトおよびトリラフ
リルトリチオホスファイトのようなホスファイトエステ
ルと組合せたアシリアミノジフェニルアミンを基剤とす
る、ポリオレフィンのような天然および合成ポリマーの
安定剤が記載されている。

Ｕ、Ｓ、Ｐ、　　Ｎｕ　３．６５５，５５９には、アル
キル化ジフェニルアミンおよび所望によシ、任意の多数
の酸化防止剤、特にアルキル、アリールまたはアラルキ
ルホスファイトラ基剤とする合成潤滑剤用の安定剤が開
示されている。

Ｕ、Ｓ、Ｐ、　　ｈ　３，８８６．１１４には、天然ゴ
ム用の安定剤として、フェノールまたはアミンのいずれ
かとホスファイトとの組合せが開示されている。

Ｕ、Ｓ、Ｐ、　Ｎｏ５−４，１９５−０１６　ｐ　４．
２３３−２０８；４．２９０．９４１；および４．３５
１．７５９の各々には、熱、酸化および紫外線崩壊に対
してポリプロぎレンのようなポリオレフィンを含む有機
物質の安定化のための立体障害ホスファイトの使用が開
示されている。ホスファイトは、所望によってこれに関
して特に言及されているアミノアリール誘導体、オクチ
ル化およびノニル化ジフェニルアミンのような任意の数
種の酸化防止剤と組合せることができる。

本発明の概要 本発明によって、 （ａ）　　少なくとも１種のアラルキル−置換シアリー
ルアミン：および （ｂ）　　少なくとも１ｓの立体障害ホスファイトから
成る激化防止剤組成物の安定化ｉＩヲ配合することによ
ってポリオレフィンホモポリマー、コポリマーおよびそ
れらの混合物を酸化崩壊に対して安定化させる。

＊を対ｉｔに基づくアラルキル−置換シアリ−ルアミン
と立体障害ホスファイトとの前記の組合せは、これらの
物質をいずれか単独で使用した場合より酸化崩壊に対し
てポリオレフィンを有意に太ぎい割合で保護することが
見出逼れた。

好ましい態様の説明 本発明の実施において有用なアラルキル−置換ジアリー
ルアミンは、一般式 ％式％ （式中、ＡｒおよびＡｒ’の各々は、アリール基であり
、該基の少なくとも一つはアラルキル基によって置換さ
れている）によつ１表わ烙れる。

好ましいアラルキル−置換ジアリールアミンはＵ、Ｓ、
Ｐ、　Ｎｏ８．３，４５２，０５６および３，５０５，
２２５に開示ちれている、なお、これらの開示は本明細
書の参考になる。好ましいアラルキル−置換ジアリール
アミンは次の一般式によって表わされる：Ｒ３Ｒ６ （式中、Ｒ１はフェニルまたはｐ−トＩＪル基であり　
　； Ｒ２およびＲ３はメチル、フェニルおよびｐ−）リル基
であり； Ｒ４は、メチル、フェニル、ｐ−）リルおよびネオペン
チル基から選ばれ： Ｒ５は、メチル、フェニル、ｐ−トリルおよび２−フェ
ニルイソブチル基から 選ばれ；そして、 Ｒ６はメチル基である）。

（式中、Ｒ１−Ｂ５は、式■に示した基から選ばれ、そ
して、 Ｒ）は、メチル、フェニルまたはｐ−トリル基から選ば
れ； Ｘは、メチル、エチル、炭素原子３〜１０個を含有する
５ｅｃ−アルキル、α、α−ジメチルベンジル、α−メ
チルベン ジル、塩素、臭素、カルボキシルおよ び金属が亜鉛、カドミウム、ニッケル、鉛、錫、マグネ
シウムまたは銅である カルボン酸の金属塩から成る群から選 はれる基であり；そして Ｙは、水素、メチル、エチル、炭素原子３〜１０個を含
有する５ｅｃ−アルキル、塩素および臭素から成る評か
ら選ばれ る基である）。

（式中、Ｒ１は、フェニルまたはｐｌ！フル基であり； Ｒ２およびＲ３は、メチル、フェニルおよびｐ−）リル
基から選ばれ； Ｒ２は、水素、炭素原子１〜１０個を 含有する第一、第二および第三アル キルおよび炭素原子１〜１０個を含 有し、直鎖または分枝でもよいアル コキシから成る群から選ばれる基で あり；そして、 ＸおよびＹは、水素、メチル、エチル、炭素原子６〜１
０個を含有する５ｅｃ −アルキル、塩素および臭素から成 る群から選ばれる基である）。

■ （式中、Ｒｏは、フェニルまたはｐ−トＩＪル基であシ
； ＲＩＯは、メチル、フェニル、ｐ−トリルおよび２−フ
ェニルイソブチル基 から選はれ；　そして、 Ｒ１１は、メチル、フェニルおよびｐ−トリル基から選
ばれる）。

（式中、Ｒ工２は、フェニルまたはｐ−トリル基であり
； Ｒ１３は、メチル、フェニルおよびｐ−トリル基から選
ばれ； Ｒ工、は、メチル、フェニル、ｐ−トリルおよび２−フ
ェニルイソブチル基 から選ばれ；そして、 Ｒユ、は、水素、α、α−ジメチルベンシル、α−メチ
ルペンシル、トリフ ェニルメチルおよびα−１α、ｐ−ト リメチルベンジルから成る群から選 ばれる基である〕。

本発明において有用な典戴的薬剤は次のようなものであ
る： ＴＹＰＥ　　Ｉ フェニル　　　メチル　　メチル　　フェニル　　　メ
チル　　メチルフェニル　　　フェニル　メチル　　フ
ェニル　　　フェニル　メチルフェニル　　　フェニル
　フェニル　ネオペンチル　メチル　　メチルＴＹＰＥ
　　Ｉ フェニル　メチル　　メチル　イソプロざル水素　　　
　水素フェニル　メチル　　メチル　水素　　　　２−
オクチル水素ＹＰＥ　Ｎ （式中、Ｒ９はフェニルであり、ｒｈｏおよび’Ｒ１１
はメチルである〕。

ＴＹＰＥ　　Ｖ Ｒ４４ フェニル　メチル　メチル　水素 フェニル　メチル　メチル　α、α−ジメチルベンジル
上記の好ましいアラルキル−置換ジアリールアミンのう
ちで、式 （式中、Ｒおよびｙがメチルまたはフェニルである）の
置換ジフェニルアミンが特に好ましい。ＲおよびＲ′が
メチルである化合物は、４　、４’−ビス−（α、α−
ゾメチルベンジル）ジフェニルアミンであり、Ｒおよび
ｙがフェニルである化合物は４．４′−ビス−（α−メ
チルベンズヒドリル）ジフェニルアミンである。

前記のアラルキル−置換ジアリールアミンとの組合せで
使用できる立体障害ホスファイトには、酸化防止剤／安
定剤として従来使用されてきた任意の立体障害ホスファ
イトが本質的に含まれる。

かような化合物の代表は、Ｕ、Ｓ、Ｐ。

Ｎｏｓ、　４，１９５，０１６　；　４，２３３．２０
８　ｐ４．２９０．９４１；および４，３５１．７５９
に開示されており、これらの特許の開示は本明細書の参
考になる。本発明において使用して全般的に良結果　゛
が得られる立体障害ホスファイトは特に、一般式Ｐ＋０
−Ｒｘ　）３　　　　　　　（１）（式中、Ｒ１はアル
キル、アリールまたはアラルキル基である）、または （Ｒ２−０＋ｐＰ（Ｒ３）ｑ　　　　　（ｎ）（式中、
Ｒ２およびＲ３は、独立に、アルキル、アリールまたは
アラルキルであシ、ｐは１または２でありｑは１または
２であシ、ｐ＋ｑの合計は３である）のホスファイトで
ある。さらに特別には本発明において使用し、全般的に
顕著な結果が得られる立体障害ホスファイトには、一般
式％式％（） （式中、Ａｒは少なくとも２個の核炭素原子忙置換基を
有するアリール基であり、ｍは１〜６であり、ｎは０．
１または２であシ、ｍ＋ｎの合計は６であシ、そして、
ＲはＰの原子価状態を満足させる当業界で認識されてい
る置換基である）のアリール置換ホスファイトが含まれ
る。好ましいアリールホスファイトは、一般式 （式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の各々は、水素またはア
ルキルである）のフェニルホスファイトである。本発明
において使用できる好ましいトリス−アルキルフェニル
ホスファイトの中で全般的に良結果が得られるものは、
トリス（２，４−ジ−を一ブチルフェニル）ホスファイ
ト（ＮＡＵＧＡＲＤ　５２４、Ｕｎｉｒｏｙａｌ　Ｃｈ
ｅｍｉｃａ１社）、トリス（モノ−およびジフェニル混
合フェニル）ホスファイト（ＰＯＬＹＧＡＲＤ　、　Ｕ
ｎｉｒｏｙａｌ　Ｃｈｅｍｉｃａ１社）およびトリス（
モノノニルフェニル）ホスファイト（ＮＡＵＧＡＲＤ　
Ｐ　、　Ｕｎｉｒｏｙａｌ　Ｃｈｅｍｉｃａ１社）であ
る。

他の好ましいホスファイトには、ビス（２，４−ジ−も
一ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイ
ト（ＵＬＴＲＡＮＯＸ　６２６、Ｂｏｒｇ　ＶＶａｒｎ
ｅｒ社）およびジステアリール−ペンタエリスリトール
ジホスファイト（ＷＥ８ＴＯＮ　６１８、Ｂｏｒｇ　Ｗ
ａｒｎｅｒ社）が含まれる。これに加えて、テトラキス
〔２゜４−ジ−ｚ−ｉテルフェニル（４、４’−ビフエ
ニレンージホスホナイト）　）　（Ｐ　−ＢＰＱ　、　
５ａｎｄｏｚ社）も前記のアラルキル−置換ジアリール
アミンとの相乗的組合せにおいて好結果で使用できる。

前記のアラルキル−置換ジアリールアミンお裏び立体障
害ホスファイトの混合物を使用して酸化崩壊に対して安
定化されるポリオレフィンは、所望によシ架橋されてい
てもよいポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチ
レン、ポリメチルブテン−１、ポリメチルペンテン−１
、ポリブテン−１、ポリイソプレン、ポリブタジェン、
ポリスチレンなどのようなモノ−およびシーエチレン状
不飽和炭化水素モノマーから誘導されるホモポリマー；
エチレン−プロピレンコポリマー、プロピレン−ブテン
−１コポリマー、フロビレンーイソブオレンコボリマー
、スチレン−ブタジェンコポリマーのような前記のモノ
マー１種またはそれ以上から誘導されるコポリマーおよ
びエチレンおよびプロピレンとへキサジエン、ジシクロ
ペンタジェン、またはエチリデンノルボルネンのような
ジエンとのターポリマー；および前記のホモポリマーお
よび（または〕ポポリプロビレとポリエチレン、ポリプ
ロピレンとポリブテン−１およびポリプロビレ／とポリ
イソブチレンとのコポリマーの混合物が含まれる。ポリ
オレフィンホそポリマー、コポリマーおよびそれらの混
合物には、少ｌ量、すなわち、約５０重量係未満、好ま
しくは約２０重量係未満の、例えばポリビニルハライド
、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、
ポリアクリレートなどのように前記したポリマー以外の
、１種またはそれ以上の相溶性または相浴性化したポリ
マーを組合せることができる。

前記のポリオレフィン中に配合されるアラルキル−置換
ジアリールアミンと立体障害ホスファイトとの合計ｌ量
は、最小量でも酸化崩壊に対して有意な程度の安定性を
付与するのに要する量であろう。一般にかような量は、
ポリオレフィンホモポリマー、コポリマーまたはポリオ
レフィン混合物の約０．０１〜約５．０、好ましくは約
０．５〜約１重量係と変化しうる。

約Ｓ！！ｔ％を超える酸化防止剤の合計重量も使用でき
るが、かような量はポリオレフィン基体の物理的並びに
機械的性質に有害な影響を及ぼすおそれがあるから、通
常は避けるべきである。

アラルキル−置換ジアリールアミンと立体障害ホスファ
イトとの相対的割合は、広く変化しうる。

一般に、アラルキル−置換ジアリールアミン：立体障害
ホスファイトの比は、約２０＝１〜約１＝２０、好まし
くは約１０＝１〜約１＝１０と変化しうるが、これらの
範囲よシ幾分低いまたは高い比も有利な結果で使用でき
る。

アラルキル−置換ジアリールアミンおよび立体障害ホス
ファイトのポリオレフィン中への配合に使用する方法は
必須事項ではなく、本明細書の参考にした前記の米国特
許に記載の任意の方法が実際に使用できる。例えば、こ
れらの物質は、プレミックスとしてポリオレフィンに配
合できる、またはこれら物質は別個に維持し、ポリオレ
フィンに同時または逐次に添加し、次いで、混練、押出
混合または他の機械的方法によってポリマー全体に均質
に分布させることができる。アラルキル−置換ジアリー
ルアミン成分または立体障害ホスファイト成分のいずれ
かまたは両者を、予備濃厚物または好適な溶剤または共
−浴剤中のようなキャリヤ一方式によってポリオレフィ
ンに添加できる。

一般的実施方法に従って、酸化防止剤をポリオレフィン
へ添加する前、その間および（または）添加後に他の添
加剤をポリオレフィン中へ添加できる。かような添加剤
には、慣用量で存在する他の安定剤、着色剤、強化材、
充填剤、静電気防止剤、潤滑剤、可塑剤などが含まれる
。

酸化崩壊に対してポリオレフィンの増加された程度の保
論を達成するために、アラルキル−置換ジアリールアミ
ンと立体障害ホスファイトと共に本発明において使用で
きる所望の酸化防止剤としては立体障害フェノールが好
ましい。かような化合物の代表は、Ｕ、Ｓ、Ｐ、　Ｎｏ
ｓ　、　３＝３０４−２８３　ｐ３．４３２．５７８　
；　３．８８３，１１４　；　３．９７９，１８０；　
４，００２，２３０　；　４，２９０．９４１　；４．
３４１，６７７　；　４，４２０．５７９　；　４．４
４０．６７１；および４，４９７，９３１に開示されて
いる化合物であり、これらの特許の開示は本明細書の参
考になる。さらに特別には、本発明に良結果で使用でき
る立体障害フェノールには、２，４−ジメチル−６−オ
クテルフエノール；２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチ
ルフェノール（すなわち、ブチル化ヒドロキシトルエン
）　ｐ　２−６−ジ−　ｃ　−７”　チル−４−エチル
フェノール；２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチル
フェノール；　２　、２’−メチノール；４−ヒドロキ
シメチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール；ｎ−オ
クタデシル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）ゾロぎオネート；２，６−シオクタデ
シルー４−メチルフェノール；２．４．６−トリメチル
フェノール；２，４．６−１リインプロぎルアエノール
；２．４．６−トリーｔ−ブチルフェノール；２−Ｚ−
ブチル−４，６−ジメチルフェノール；２，６−メチル
−４−ジドデシルフェノール；オクタデシル−３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシーヒドロシンナメー）
　（ＮＡＵＧＡＲＤ７６　、　Ｕｎｉｒｏｙａｌ　Ｃｈ
ｅｍｉｃａｌ　；　ＩＲＧＡＮＯＸ　１０７６　＋Ｇｉ
ｂａ−Ｇｅｉｇｙ　）　；　　テトラキス〔メチレン（
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
メート〕〕メタン（ＮＡＵＧＡＲＤ　１０　、　Ｕｎｉ
ｒｏｙａｌＣｈｅｍｉｃａｌ　　；　　ＩＦＧＡＮＯＸ
　１０１０　、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ　）；２．２′−
オキサミドビス−〔エチル−３−（３゜５−ジ−ｔ−ｉ
チルー４−ヒドロキシフェニル〕プロピオネート（ＮＡ
ＵＧＡＲＤ　ＸＬ　−１、ＵｎｉｒｏｙａｌＣｈｅｍｉ
ｃａｌ　）　；　１　　＋　３　＃　５−）リス（４−
１−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−Ｓ　　−ト　リアジ゛ンー　２．４．６−（ＩＨ
。

３Ｈ，５Ｈ））リオン（ＣＹＡＮＯＸ　１７９０、Ａｍ
ｅｒｉｃａｎＣｙａｎａｍｉｄ　Ｃｏ、　）　；　　１
　　＊　３．５−トリメチル−２゜４．６−）リス（３
，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベン
ゼン（ＥＴＨＡＮＯＸ　３３０、Ｅｚｈｙｌ　Ｃｏｒｐ
、　）　；およびトリス（３，５−ジ−を一フチルー４
−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート（（）ＯＯＤ
Ｉ’１ＩＴＥ　３１１４、　Ｂ、Ｆ、　Ｇｏｏｄｒｉｃ
ｈ　）　；４．４′−チオビス（６−１−ブチル−出−
クレゾール）、トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−ｚ−ブチルフェノール）ブタン、１．３．５−　ト
ＩＪス（２−ヒドロキシエチル）　−５−）　ＩＪ　７
ジンー２．４．６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−）リオン、！
＝３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロ桂皮
酸とのトリエステル；ビス（３，３−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−ｃ−ｉｆチルェニル）ブタン酸）グリコール
エステルが含まれる。

一般に、存在する場合のこれらのフェノール酸化防止剤
は、アラルキル−置換ジアリールアミン酸化防止剤の部
分の当量の代り、例えば前記酸化防止剤の約５０′Ｎ量
％までを使用できる。

実施例１〜１２ 酸掃去剤として０．１１量係のステアリン酸カルシウム
を含有するポリプロピレンホモポリマー（ＰＲＯ−ＦＡ
Ｘ　６５０１、Ｈｅｒ　Ｃｕ１ｅｓ、　Ｉｎｃ、　）に
次の量（ＷＺ０％）の酸化防止剤を配合した：前記の酸
化防止剤／酸化防止剤組成物を、２組の条件下の押出機
操作で樹脂中に配合した：第１押出物は１９３℃および
２５　ＲＰＭで得た。そして第２〜第５押出物は２５０
℃および５３　ＲＰＭで得た。

ポリプロピレン試料の溶融安定性（ＡＳＴＭ　Ｄ１２６
８、条件りによυ２６０℃および２．１６ゆで測定した
溶融流量）および色の安定度（６５ミルブラツク上で行
ったＨｕｎｚｅｒ　ｂ　Ｃｏ１ｏｒとして測定した）に
及ぼす前記の酸化防止剤／酸化防止剤組成物の影響を次
のように下記に示す：押出物の溶融流量　　　　　押出
物の ［単位］　：　　　　　　　　Ｈｕｎｚｅｒ　ｂ　Ｃｏ
１ｏｒ：実施例　　１ｓｚ　　３ｒｄ　　５ｚｈ　　　
　　　ｌ５ｔ３ｒｄ　　　５ｚｈ１　　　１．６　８．
４５４．３　　　　　２．１　２．６　　３．２２　　
　１．１１．５２．３　　　　　１．７３．３　　４．
３３　　　１．２１．９３．０　　　　　２．２３．６
　　４．６４　　１．１１．４２．４　　　　　１．９
３．６　　４．８５　　　１．２　１．５　２．７　　
　　　２．２　３．２　　４．６６　　　１．２１．４
２．０　　　　　１．６３．３　　４．６７　　　１．
１　２．７　４．８　　　　　２．３　３．４　　６．
４８　　　１．０　１．４　１．９　　　　　１．８　
５．２　１０．５９　　　１．１１．６２．５　　　　
　１．９３．２　　４．３１０　　０．９　１．４　２
．２　　　　　１．８　３．３　　４．８１１　　　１
．３　２．０　２．７　　　　　２．０　３．３　　４
．６１２　　１．１　１．５　２．６　　　　　１．９
　４．１　　６．０これらのデータに示されるように（
実施例２バアラルキルー置換ジアリールアミン（ＮＡＵ
ＧＡＲＤ４４５）と立体障害ホスファイト（ＮＡＵＧＡ
ＲＤ５２４）との組合せは、ホスファイトのみを含有す
る基材ポリゾロピレン（実施例１）に比較して低浴融流
量によって証明されるように安定化に劇的の改善が得ら
れた。残余の例（実施例６〜１２）の各々においては、
アラルキル−置換ジアリールアミン、立体障害ホスファ
イトおよび所望成分の立体障害フェノールの組合せ（実
施例４．６．８．１０および１２）は、立体障害ホスフ
ァイトと立体障害フェノールとの組合せ（実施例３．５
．７．９および１１）にまさる溶融流量のかなりの、但
し、有意の減少が得られた。偶然の発見であるが比較的
価格の高い立体障害フェノール酸化防止剤化合物の一部
を本発明のアミン駿化防止剤によって置換することによ
ってポリマー系の浴融安定性の同等または向上が得られ
る。

色の安定度に関しては、これらのデータでは本発明のア
ミンと本発明のホスファイトとの組合せは、立体障害フ
ェノール酸化防止剤／ホスファイト酸化防止剤組合せま
たはアミン／立体障害フェノール／ホスファイト酸化防
止剤組合せよ多良好または同等の色の安定度が得られる
。大部分の例において、本発明の三成分酸化防止剤混合
物は、実施例７と８および実施例１１と１２を除いては
立体障害フェノール／ホスファイト酸化防止剤組合せと
同等または良好な色の安定度が得られた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）（ａ）少なくとも１種のアラルキル−置換ジアリ
   ールアミン；および （ｂ）少なくとも１種の立体障害ホスファイトから成る
   酸化防止剤組成物を安定化量存在させることによって、
   酸化崩壊に対して安定化されたポリオレフイン。 （２）前記のアラルキル−置換ジアリールアミンが一般
   式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ＡｒおよびＡｒ′の各々はアリール基であり該
   基の少なくとも一つはアラルキル基で置換されている）
   を有する特許請求の範囲第１項のポリオレフイン。 （ I ）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は、フェニルまたはｐ−トリル基であり
   ； Ｒ＿２およびＲ＿３は、メチル、フェニルおよびｐ−ト
   リル基から選ばれ； Ｒ＿４は、メチル、フェニル、ｐ−トリルおよびネオペ
   ンチル基から選ばれ； Ｒ＿５は、メチル、フェニル、ｐ−トリルおよび２−フ
   ェニルイソブチル基から 選ばれ；そして、 Ｒ＿６は、メチル基である）； （II）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１〜Ｒ＿５は、式 I に示した基から選ば
   れ、そして、Ｒ＿７はメチル、フェニルまたは ｐ−トリル基から選ばれ； Ｘは、メチル、エチル、炭素原子３〜１０個を含有する
   ｓｅｃ−アルキル、α，α−ジメチルベンジル、α−メ
   チルベンジル、塩素、臭素、カルボキシル、および金属
   が亜鉛、カドミウム、ニッケル、鉛、錫、マグネシウム
   または銅であるカルボン酸の金属塩から成る群から選ば
   れる基であり；そしてＹは、水素、メチル、エチル、炭
   素原子３〜１０個を含有するｓｅｃ−アルキル、 塩素および臭素から成る群から選ばれる基である）； （III）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は、フェニル、またはｐ−トリル基であ
   り； Ｒ＿２およびＲ＿３は、メチル、フェニルおよびｐ−ト
   リル基から選ばれ； Ｒ＿４は、水素、炭素原子１〜１０個を含有する第一、
   第二および第三アルコール、 および炭素原子１〜１０個を含有し、 直鎖または分枝でもよいアルコキシから成る群から選ば
   れる基であり；そして、 ＸおよびＹは、水素、メチル、エチル、炭素原子３〜１
   ０個を含有するｓｅｃ−アルキル、塩素および臭素から
   成る群から選ばれる基である）； （IV）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿９は、フェニル、またはｐ−トリル基であ
   り； Ｒ＿１＿０は、メチル、フェニル、ｐ−トリルおよび２
   −フェニルイソブチル基から 選ばれ；そして、 Ｒ＿１＿１は、メチル、フェニルおよびｐ−トリル基か
   ら選ばれる）；および （Ｖ）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１＿２は、フェニルまたはｐ−トリル基で
   あり； Ｒ＿１＿３は、メチル、フェニルおよびｐ−トリル基か
   ら選ばれ； Ｒ＿１＿４は、メチル、フェニルおよびｐ−トリルおよ
   び２−フェニルイソブチル基から選ばれ；そして、 Ｒ＿１＿５は、水素、α，α−ジメチルベンジル、α−
   メチルベンジル、トリフェニルメチル、およびα，α，
   ｐ−トリメチルベンジルから成る群から選ばれる基であ
   る） から成る群から選ばれる特許請求の範囲第２項のポリオ
   レフィン。 （４）前記のアラルキル−置換ジアリールアミンが４，
   ４′−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）ジフェニル
   アミンまたは４，４′−ビス−（α−メチルベンジル）
   ジフェニルアミンである特許請求の範囲第３項のポリオ
   レフィン。 （５）前記の立体障害ホスファイトが一般式、Ｐ−（Ｏ
   −Ｒ＿１）＿３（ I ） （式中、Ｒ＿１はアルキル、アリールまたはアラルキル
   基である）のホスファイトおよび、一般式（Ｒ＿２−Ｏ
   ）−＿ｐＰ（Ｒ＿３）＿ｑ（II）（式中、Ｒ＿２および
   Ｒ＿３は独立に、アルキル、アリールまたはアラルキル
   であり、ｐは１または２であり、ｑは１または２であり
   、ｐ＋ｑの合計は３である）のホスファイトから成る群
   から選ばれる特許請求の範囲第１項のポリオレフィン。 （６）前記の立体障害ホスファイトが、一般式〔Ａｒ−
   Ｏ〕−＿ｍＰ−〔Ｒ〕＿ｎ （式中、Ａｒは少なくとも２個の核炭素原子上に置換基
   を有するアリール基であり、ｍは１〜３であり、ｎは０
   、１または２であり、ｍ＋ｎの合計は３であり、そして
   ＲはＰの三価状態を満足させる当業界で認識されている
   置換基である）のアリールホスファイトである特許請求
   の範囲第１項のポリオレフィン。 （７）前記のアリールホスファイトが、一般式▲数式、
   化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２およびＲ＿３の各々は、水素ま
   たはアルキル基である）のフェニルホスファイトである
   特許請求の範囲第６項のポリオレフィン。 （８）前記のフェニルホスファイトが、トリス（２，４
   −ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトである特許請
   求の範囲第７項のポリオレフィン。 （９）立体障害フェノールをさらに含有する特許請求の
   範囲第１項のポリオレフィン。 （１０）前記の立体障害フェノールが、２，４−ジメチ
   ル−６−オクチルフェノール；２，６−ジ−ｔ−ブチル
   −４−メチルフェノール；２，６−ジ−ｔ−ブチル−４
   −エチルフェノール；２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ
   −ブチルフェノール；２，２′−メチレンビス（４−メ
   チル−６−ｔ−ブチルフェノール）；２，２′−メチレ
   ンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）；２
   ，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール；４−ヒド
   ロキシメチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール；ｎ
   −オクタデシル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
   ヒドロキシフェニル）プロピオネート；２，６−オクタ
   デシル−４−メチルフェノール；２，４，６−トリメチ
   ルフェノール；２，４，６−トリイソプロピルフェノー
   ル；２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール；２−ｔ
   −ブチル−４，６−ジメチルフェノール；２，６−メチ
   ル−４−ジドデシルフェノール；オクタデシル−３，５
   −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート
   ；テトラキス〔メチレン（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
   −ヒドロキシ−ヒドロシンナメート〕メタン；２，２′
   −オキサミドビス−〔エチル−３−（３，６−ジ−ｔ−
   ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート；１
   ，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−６−ヒドロキシ−
   ２，６−ジメチルベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４
   ，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン；１，３，５−ト
   リメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチ
   ル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン；およびトリス
   （３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
   イソシアヌレート；４，４′−チオビス（６−ｔ−ブチ
   ル−ｍ−クレゾール、トリス（２−メチル−４−ヒドロ
   キシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−
   トリス（２−ヒドロキシエチル）−５−トリアジン−２
   ，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオンとの３，５−
   ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロ桂皮酸とのトリ
   エステル、ビス（３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−
   ２−ブチルフェニル）ブタン酸）グリコールエステルか
   ら成る群から選ばれる特許請求の範囲第９項のポリオレ
   フィン。 （１１）前記のポリマーが、ポリオレフィンホモポリマ
   ー、ポリオレフィンコポリマーまたはポリオレフィン混
   合物である特許請求の範囲第１項のポリオレフィン。 （１２）前記のポリマーが、ポリプロピレンホモポリマ
   ーである特許請求の範囲第１１項のポリオレフィン。 （１３）前記の立体障害ホスファイトが、一般式Ｐ−（
   ＯＲ＿１）＿３（ I ） （式中、Ｒ＿１はアルキル、アリールまたはアラルキル
   基である）のホスファイトおよび、一般式（Ｒ＿２−Ｏ
   ）−＿ｐＰ（Ｒ＿３）＿ｑ（II）（式中、Ｒ＿２および
   Ｒ＿３は、独立に、アルキル、アリールまたはアラルキ
   ルであり、ｐは１または２であり、ｑは１または２であ
   り、ｐ＋ｑの合計は３である）のホスファイトから成る
   群から選ばれる特許請求の範囲第３項のポリオレフィン
   。 （１４）前記の立体障害ホスファイトが、一般式〔Ａｒ
   −Ｏ〕−＿ｍＰ−〔Ｒ〕＿ｎ （式中、Ａｒは少なくとも２個の核炭素原子上に置換基
   を有するアリール基であり、ｍは１〜３であり、ｎは０
   、１または２であり、ｍ＋ｎの合計は３であり、そして
   、ＲはＰの三価状態を満足させる当業界で認識されてい
   る置換基である）のアリールホスファイトである特許請
   求の範囲第３項のポリオレフィン。 （１５）前記のアリールホスファイトが、一般式▲数式
   、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２およびＲ＿３の各々は水素また
   はアルキルである）のフェニルホスファイトである特許
   請求の範囲第１４項のポリオレフィン。 （１６）前記のフェニルホスファイトがトリス（２，４
   −ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトである特許請
   求の範囲第１５項のポリオレフィン。 （１７）立体障害フェノールをさらに含む特許請求の範
   囲第１４項のポリオレフィン。 （１８）立体障害フェノールをさらに含有する特許請求
   の範囲第１５項のポリオレフィン。 （１９）立体障害フェノールをさらに含有する特許請求
   の範囲第１６項のポリオレフィン。 （２０）前記のポリマーが、ポリオレフィンホモポリマ
   ー、コポリマーまたはポリオレフィン混合物である特許
   請求の範囲第３項のポリオレフィン。 （２１）前記のポリマーが、ポリオレフィンホモポリマ
   ー、コポリマーまたはポリオレフィン混合物である特許
   請求の範囲第１４項のポリオレフィン。 （２２）前記のポリマーが、ポリオレフィンホモポリマ
   ー、コポリマーまたはポリオレフィン混合物である特許
   請求の範囲第１７項のポリオレフィン。 （２３）酸化防止剤組成物を安定化量存在させることに
   よつて酸化崩壊に対して安定化されたポリオレフィンで
   あつて、該酸化防止剤組成物が、 （ａ）トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホス
   ファイト；トリス（モノ−およびジ−ノニル混合フェニ
   ル）ホスファイト；トリス（モノ−ノニルフェニル）ホ
   スファイト；ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
   ペンタエリスリトールジホスファイト；およびジステア
   リル−ペンタエリスリトールジホスファイトから成る群
   から選ばれるホスファイト；および、 （ｂ）（ I ）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１はフェニルまたはｐ−トリル基であり； Ｒ＿２およびＲ＿３は、メチル、フェニルおよびｐ−ト
   リル基から選ばれ； Ｒ＿４は、メチル、フェニル、ｐ−トリルおよびネオペ
   ンチル基から選ばれ； Ｒ＿５は、メチル、フェニル、ｐ−トリルおよび２−フ
   ェニルイソブチル基から選ばれ；そして、 Ｒ＿６はメチル基である）； （II）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１〜Ｒ＿５は、式 I に示した基から選ば
   れ、 Ｒ＿７はメチル、フェニルまたはｐ−トリル基から選ば
   れ： Ｘは、メチル、エチル、炭素原子３〜１０個を含有する
   ｓｅｃ−アルキル、α，α−ジメチルベンジル、α−メ
   チルベンジル、塩素、臭素、カルボキシル、および金属
   が亜鉛、カドミウム、ニッケル、鉛、錫、マグネシウム
   または銅であるカルボン酸の金属塩から成る群から選ば
   れる基であり；そして Ｙは水素、メチル、エチル、炭素原子３〜１０個を含有
   するｓｅｃ−アルキル、塩素および臭素から成る群から
   選ばれる基である）； （III）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１はフェニルまたはｐ−トリル基であり： Ｒ＿２およびＲ＿３は、メチル、フェニルおよびｐ−ト
   リル基から選ばれ； Ｒ＿４は、水素、炭素原子１〜１０個を含有する第一、
   第二および第三アルキル、炭素原子１〜１０個を含有し
   、直鎖または分枝でもよいアルコキシから成る群から選
   ばれる基であり；そして ＸおよびＹは、水素、メチル、エチル、炭素原子３〜１
   ０個を含有するｓｅｃ−アルキル、塩素および臭素から
   成る群から選ばれる基である）； （IV）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿９は、フェニルまたはｐ−トリル基であり
   ： Ｒ＿１＿０は、メチル、フェニル、ｐ−トリルおよび２
   −フェニルイソブチル基から選ばれ；そして、 Ｒ＿１＿１は、メチル、フェニルおよびｐ−トリル基か
   ら選ばれる）；および、 （Ｖ）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１＿２は、フェニルまたはｐ−トリル基で
   あり； Ｒ＿１＿３は、メチル、フェニルおよびｐ−トリル基か
   ら選ばれ； Ｒ＿１＿４は、メチル、フェニル、ｐ−トリルおよび２
   −フェニルイソブチル基から選ばれ；そして Ｒ＿１＿５は、水素、α，α−ジメチルベンジル、α−
   メチルベンジル、トリフェニルメチルおよびα，α，ｐ
   −トリメチルベンジルから成る群から選ばれる基である
   ） から成る群から選ばれるアラルキル−置換ジアリールア
   ミンから成ることを特徴とする前記のポリオレフィン。 （２４）前記のアラルキル−置換ジアリールアミンが４
   ，４′−ビス（α，α−ジメチルベンジル）ジフェニル
   アミンである特許請求の範囲第２３項のポリオレフィン
   組成物。 （２５）２，４−ジメチル−６−オクチルフェノール；
   ２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール；２，
   ６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール；２，６−
   ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール；２，２′
   −メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
   ル）；２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−
   ブチルフェノール）；２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチ
   ルフェノール；４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ｔ
   −ブチルフェノール；ｎ−オクタデシル−β−（３，５
   −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
   ネート；２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノー
   ル；２，４，６−トリメチルフェノール；２，４，６−
   トリイソプロピルフェノール；２，４，６−トリ−ｔ−
   ブチルフェノール；２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチル
   フェノール；２，６−メチル−４−ジドデシルフェノー
   ル；オクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
   ロキシヒドロシンナメート；テトラキス〔メチレン（３
   ，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナ
   メート）〕メタン；２，２′−オキサミドビス〔エチル
   −３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
   ニル）プロピオネート；１，３，５−トリス（４−ｔ−
   ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）
   −Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）
   トリオン；１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリ
   ス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル
   ）ベンゼン；および、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル
   −４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート；４，４
   ′−チオビス（６−ｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、ト
   リス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフ
   ェニル）ブタン、１，３，５−トリス（２−ヒドロキシ
   エチル）−５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，
   ５Ｈ）−トリオンと３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
   ロキシヒドロ桂皮酸とのトリエステル、ビス（３，３−
   ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
   ン酸）グリコールエステルから成る群から選ばれる立体
   障害フェノールを追加として含む特許請求の範囲第２４
   項のポリオレフィン組成物。