JPS631620U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS631620U JPS631620U JP9631686U JP9631686U JPS631620U JP S631620 U JPS631620 U JP S631620U JP 9631686 U JP9631686 U JP 9631686U JP 9631686 U JP9631686 U JP 9631686U JP S631620 U JPS631620 U JP S631620U
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- JP
- Japan
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- gas
- pipe
- wet type
- tip
- flow path
- Prior art date
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- Granted
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 9
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例を示す湿式除害装置
の要部拡大断面図、第２図は従来の湿式除害装置
の説明図である。 １……気液接触筒、２……アルカリ水溶液、３
……充填材、４……ガス排出管、５……ガス導入
管、６……排ガス導入管、７……不活性ガス導入
管、８……循環ポンプ、９……吸入管、１０……
吐出管、１１……ノズル、２０……排ガス供給用
外管、２０ａ……開口端、２１……不活性ガス供
給用内管、２１ａ……開口端。
の要部拡大断面図、第２図は従来の湿式除害装置
の説明図である。 １……気液接触筒、２……アルカリ水溶液、３
……充填材、４……ガス排出管、５……ガス導入
管、６……排ガス導入管、７……不活性ガス導入
管、８……循環ポンプ、９……吸入管、１０……
吐出管、１１……ノズル、２０……排ガス供給用
外管、２０ａ……開口端、２１……不活性ガス供
給用内管、２１ａ……開口端。
Claims (1)
- アルカリ水溶液が貯液され、上部にガス排出管
を、下方に側壁を貫通して半導体製造工程からの
排ガスを不活性ガスにより稀釈されたのち導入す
るガス導入管を配設すると共に、前記貯液された
アルカリ水溶液を抜き出して筒体上部に循環供給
するアルカリ水溶液循環系を設けた気液接触筒を
備えてなる湿式除害装置において、前記ガス導入
管の少なくとも先端部を、中心に不活性ガス流路
、その回りに排ガス流路を配設した内外二重管に
構成すると共に、外管の先端部を縮径し、かつ内
管の開口端を前記縮径した外管開口端の近傍に位
置するよう構成してなることを特徴とする湿式除
害装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986096316U JPH044813Y2 (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986096316U JPH044813Y2 (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS631620U true JPS631620U (ja) | 1988-01-07 |
| JPH044813Y2 JPH044813Y2 (ja) | 1992-02-12 |
Family
ID=30961918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986096316U Expired JPH044813Y2 (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH044813Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008205090A (ja) * | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 気相成長装置 |
| US7553356B2 (en) | 2004-10-12 | 2009-06-30 | Sumco Corporation | Exhaust gas scrubber for epitaxial wafer manufacturing device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4916544U (ja) * | 1972-05-19 | 1974-02-12 |
-
1986
- 1986-06-24 JP JP1986096316U patent/JPH044813Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4916544U (ja) * | 1972-05-19 | 1974-02-12 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7553356B2 (en) | 2004-10-12 | 2009-06-30 | Sumco Corporation | Exhaust gas scrubber for epitaxial wafer manufacturing device |
| JP2008205090A (ja) * | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 気相成長装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH044813Y2 (ja) | 1992-02-12 |