JPS63174242A - エミツタチツプ処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、エミッタチップ処理装置に係り、特に液体金
属イオン源で使用するエミッタチップの前処理に好適な
エミッタチップ処理装置に関する。

〔従来の技術〕

イオンビーム加工装置やイオン微小分析装置等で利用さ
れている液体金属イオン源として、例えば特開昭６０−
２４１６３２号に示されているものがあるが、この種の
イオン源ではエミッタチップの先端をイオン化材料で濡
らし、電界をかけてイオン化し、イオンビームとして引
き出すよう構成されている。ここで、エミッタチップの
濡れ特性の良否がイオンビームの安定度を左右するため
、エミッタチップの前処理が重要である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところが、上記従来技術では、エミッタチップを液体金
属イオン源に組込んだ後、溶融したイオン化材料で濡ら
すものであるため、操作が煩わしくまた長時間を要する
という問題がある。さらに、良好な濡れ特性を得ること
が困難で、所定の濡れ特性が得られない場合にはイオン
源の真空を破って再度組立て調整をやり直さなければな
らないという問題があった。

本発明の目的は、簡単な操作で均一な濡れ特性のエミッ
タチップを得ることができるエミッタチップ処理装置を
提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明はイオン材料を充填したるつぼと、このるつぼを
加熱してイオン化材料を溶融させる加熱手段と、この加
熱手段からの放出電子を制御して前記るつぼに衝撃させ
る制御電極および電子衝撃用加速電源と、前記るつぼ内
の溶融イオン化材料中でエミッタチップを移動させるエ
ミッタチップ調整つまみから構成したものである。

〔作用〕

エミッタチップは、るつぼ内で溶融したイオン化材料中
で移動されることにより、均一に濡らされる。従って、
簡単に均一な濡れ特性のエミッタチップを得ることがで
きる。

〔実施例〕 第１図は本発明の一実施例を示す構成図である。

同図において、１はＧａ、Ａｖ、Ｉｎ等のイオン化材料
、２はイオン化材料を充填したＴａの製るつぼ、３はＷ
製エミッタチップ、４はエミッタチップ３を上・下に移
動できるエミッタチップ調整つまみ、５はフィラメント
、６は放出電子を制御する制御電極、７は放出電子をる
つぼに衝撃させる電子衝撃用加速電源、８はフィラメン
ト電源、９は熱絶縁性の良いセラミックス製るつぼ支持
台である。

次にこの実施例の動作について述べる。

２　Ｘ　１０−Ｉ５Ｔｏｒｒ以下の真空中において、イ
オン化材料１、るつぼ２、エミッタチップ３は同電位に
保たれており、外部より、電気的に絶縁されたエミッタ
チップ調整つまみ４でエミッタチップ３を上下に移動で
きる。フィラメント５からの放出電子は電子衝撃用加速
電源７の電圧（Ｅｘ　）とフィラメント電源８の電圧（
Ｅ２）の差（ＥＩ　Ｅｘ）で加速され、イオン化材料１
を充填したるつぼ２に衝撃して加熱する。るつぼ２は、
支枝台９で熱的に隔離されているので、加熱効率は良く
、２５００℃までの昇温か可能である。故に、融点の低
いものから高いものまでの各種イオン化材料ｌを加熱・
溶融できる。エミッタチップ３を上下に移動し、エミッ
タチップ３の先端を溶融材料１で均一に濡らす。

本実施例によれば、融点の低いものから高いものまでの
各種のイオン化材料を用いることができ、さらにエミッ
タチップを溶融材料中で上下に移動させることで、均一
で濡れ特性の良いエミッタチップ製作することができる
。

第２図は、第１図のフィラメント５による電子衝撃加熱
の代わりにヒータ線１０でるつぼ２を抵抗加熱するよう
にした実施例を示すものであり。

抵抗加熱は電子衝撃加熱に比べてるつぼ２を高温加熱で
きないが、簡単な回路組立で済み、Ｇａの如き融点の低
いイオン化材料１を用いる場合に好。

都合である。

第３図は複数個のエミッタチップ３を一度に溶融材料１
中で処理できるようにした実施例であり。

この実施例によれば、均一に濡れ特性の良いエミッタチ
ップを短時間で多数製作することができる。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように本発明によれば、均一で
濡れ特性の良いエミッタチップを容易に短時間で製作で
きる。従って、このようにして製作されたエミッタチッ
プを組み込んだ液体金属イオン源は、イオン化材料の溶
融後すぐに安定なイオンビームを出力することができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図はるつ
ぼの加熱手段としてヒータ線を用いた実施例を示す図、
第３図は同時に複数のエミッタチップを処理するように
した実施例を示す図である。 １・・・イオン化材料、２・・・るつぼ、３・・・エミ
ッタチップ、４・・・エミッタチップ調整つまみ、５・
・・フィラメント、６・・・制御電極、７・・・電子衝
撃用加用加速電源、１０・・・ヒータ線。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、イオン化材料を充填したるつぼと、このるつぼを加
   熱してイオン化材料を溶融させる加熱手段と、この加熱
   手段からの放出電子を制御して前記るつぼに衝撃させる
   制御電極および電子衝撃用加速電源と、前記るつぼ内の
   溶融イオン化材料中でエミッタチップを移動させるエミ
   ッタチップ調整つまみとを備えたエミッタチップ処理装
   置。 ２、エミッタチップ調整つまみは複数個のエミッタチッ
   プをるつぼ内で同時に移動可能に構成されていることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載のエミッタチップ
   処理装置。