JPS63185010A - クライオスタツト - Google Patents

クライオスタツト

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Publication number
JPS63185010A
JPS63185010A JP62017026A JP1702687A JPS63185010A JP S63185010 A JPS63185010 A JP S63185010A JP 62017026 A JP62017026 A JP 62017026A JP 1702687 A JP1702687 A JP 1702687A JP S63185010 A JPS63185010 A JP S63185010A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid helium
inlet
port
cryostat
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62017026A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Hayakawa
宏 早川
Kaneo Yamada
山田 包夫
Akio Fukunaga
福永 昭男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
Priority to JP62017026A priority Critical patent/JPS63185010A/ja
Publication of JPS63185010A publication Critical patent/JPS63185010A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は超電導コイルを内装するクライオスタットに関
し、詳細には該クライオスタット内に冷却媒体(以下単
に冷媒という)を収納したまま搬送し、且つ狭い扉から
でも搬入できる様に構成したクライオスタットに関する
ものである。
下記においては、医療用の磁気共鳴イメージングシステ
ム(Magnetic Re5onance  Ima
gtn3System )に利用されるクライオスタッ
トを取り上げることとするが本発明の適用対象はこの例
に限定解釈されるべきものではない。
[従来の技術] 医療診断又は工業用分析等を目的としてX線CTが汎用
されているが、近年X線被ばくの心配がなくしかも任意
な断層についての画像化性能が優れたMRI装置が実用
化され始めている。
MRI装置を構造面から分類すると、静磁場を形成する
方式の如何により、超電導電磁石方式、常電導電磁石方
式及び永久磁石方式に分けられる。
これらのうち超電導電磁石方式は静磁場安定度や磁場均
一度等の性能が優れており、断層面の画像化に最も適し
ているとされている。しかし超電導電磁石方式では、電
導コイルを超電導状態とする必要上詰コイルを極低温(
4,2K)に保持しなければならないという条件がある
。第4図は電導コイルを極低温に保つための中空円筒状
タライオスタットの例を示す一部断面説明図である。中
空円筒状に形成される電導コイル2は液体ヘリウム槽8
(図中4は液体ヘリウム)内に収納され、該液体ヘリウ
ム槽8は真空断熱層6a、6bを挟んで液体窒素槽9に
よって囲繞される。そして該液体窒素槽9は真空断熱層
6Cを介して外筒3によフて囲繞される。
液体ヘリウム槽8には真空断熱層6a〜6c及び液体窒
素槽9を貫通して液体ヘリウム注入管20aが上方に向
けて突設され、該液体ヘリウム注入管20aの回りには
複数の断熱層を形成して外筒3から突出する液体ヘリウ
ムポート10を形成する。この液体ヘリウムポート10
の先端には破線で示す液体ヘリウム供給管12が接続さ
れ、クライオスタット1の外部に設けられる液体ヘリウ
ム供給装置から液体ヘリウムの供給を受ける。
同様に液体窒素槽9についても液体窒素ボート11を介
して液体窒素供給管13より液体窒素の供給を受ける様
に構成される。
[発明が解決しようとする問題点コ 上記クライオスタット1の外径はMRI装置の場合2m
φを越えざらに外筒シールド3より突出して設けられる
液体ヘリウムポート10を含めた装置全体の高さは2.
5m以上に達する程である。
一方MRI装置を収納する建屋(病院や研究機関)の扉
や廊下は大型装置の搬入に備えて予め大きく形成されて
いるという訳ではないから、多くの場合はクライオスタ
ットを組立てた状態で建屋内へ搬入することはできず、
工場でいったん組立てられたクライオスタットを分解し
、建屋内で再組立するという方法を採るか、或は建屋内
で−から組立てを行なうという方法を採らざるを得ない
。後者は病院等を工場に見たてることを意味し全く現実
性がない。従って製造工場において組立てが完了して試
運転も済み、直ちに使用可能となっているクライオスタ
ットから、わざわざ冷媒を放出してからユーザー向けに
搬送し、ユーザー側建屋内でタライオスタッ1−の再組
立てや真空引き及びヘリウム冷却等の立上り運転を行わ
なければならず、正常運転開始までに相当の日数と高価
な液体ヘリウムの大量消費が必要となり、元々高価な装
置の上に余分の経費がかかってしまう。
そこで木発明者らは少なくとも搬入時点におけるクライ
オスタットの高さを制限することによって該クライオス
タット内に冷媒等を保留したままユーザーの建屋内に搬
入し設置できる様な装置の開発を期して種々研究を重ね
た結果、本発明を完成させるに至った。
[問題点を解決するための手段] 上記目的を達成した本発明のクライオスタットは、液体
ヘリウム槽の液体ヘリウム導入口を開放構造とすると共
に、該導入口を取巻く様に形成される導入口断熱層を密
封構造とし、断熱層でシールドされた液体ヘリウム注入
管を備えた液体ヘリウムポートを上記液体ヘリウム導入
口及び導入口断熱層に対して着脱自在に取付は得る様に
構成しCなる点を要旨とするものである。
[作用] 外筒からや\突出する様に設けられる液体ヘリウム導入
口は、これを取巻く様に形成された導入口断熱層によっ
て外気温度の侵入を防止する。そしてこの液体ヘリウム
導入口には真空断熱層に囲繞された液体ヘリウム注入管
を着脱自在に構成し、液体ヘリウムの供給を支障なく行
なえる様にする。また該液体ヘリウム注入管を取外した
ときであっても、液体ヘリウム導入口はそれ自身が断熱
構造とされると共にキャップを冠せられるので、クライ
オスタット本体内に収容されている液体ヘリウムが気化
蒸散されていくことはない。そして上記キャップは液体
ヘリウム注入の為の液体ヘリウム注入管よりも背が低く
、液体ヘリウム注入管を外した後で冠せめることができ
るので、組立て工場において立上り運転等をした後で液
体ヘリウム注入管を外してキャップに置き換えれば嵩高
さを解消できるので搬送・搬入時の障害がなくなる。
[実施例] 第1図は本発明に係るクライオスタットの実施例を示す
一部断面説明図であり、第2図は第1図に示した液体ヘ
リウムポート10の拡大断面図である、外筒3の内部は
′!J4図に示した従来例と同様であるが、液体ヘリウ
ムポート10の部分に次の様な特徴的構成が採用される
即ち液体ヘリウムポート10は接合部14において着脱
自在に構成され、液体ヘリウム注入管側のフランジ部2
6とボート外筒23a先端側のフランジ部25との接続
はクランプ16の締付けによって行なわれる。クランプ
16は第3図に示す如く2分割型のクランプ片16m、
16bを蝶ナツトによって連結して締結するものが例示
される。一方液体ヘリウム注入管側のポート外筒23b
の内側のシールド板21b、22bはガイド部材21c
、22cを介して導入口20a側のシールド板21a、
22a先端に嵌合され、さらにもっとも内側の液体ヘリ
ウム注入管20b先端は液体ヘリウム導入口20g先端
のガイド部材20cと完全に密封嵌合される。
上記液体ヘリウムポート10の接合時には、夫々のシー
ルド板21b、22b、ポート外筒23bによって囲ま
れる空間部を真空引きポート27に真空ポンプを連結し
て真空引きすることにより液体ヘリウム注入管20bに
対して真空断熱層28a〜28cを形成する。尚シール
ド板21b及び22bには真空引きのための貫通孔が設
けられている。
他方液体ヘリウム導入口20a側における真空断熱層6
8〜6Cの気密性はシールド板間を封鎖する気密部材2
4a〜24cの接合によフて保持しておき、液体ヘリウ
ム注入管20bが接続部14から取外されても真空状態
及び液体窒素槽の密封状態はそのまま維持される。上記
気密部材24a・〜24cは縦断面形状が2字形状とな
る様に形成し、外部からの熱侵入を極力抑制できる様に
構成されている。
また液体ヘリウムポート10を取外したときには、少な
くとも液体ヘリウム導入口20aを密栓する第5図(a
)、(b)に示す様なキャップ29をクランプ片30a
、30bを有するクランプ等を使って配設する。
接合部14におけるフランジ部25,260接続は上記
クランプ16を使用する例に限らず、ボルト締めフラン
ジ接合によるものや受挿接合によるもの等であっても構
わない。
また上述の液体ヘリウムポート10の構造は第1図に示
す様に液体窒素ボート11においても採用でき、両者を
併用することによってタライオスタット全体の高さを低
くすることが可能となる。
[発明の効果] 本発明のタライオスタットは該タライオスタット内の冷
却効果を保持させたままで液体ヘリウムポートの一部を
取外すことが可能となり、該タライオスタットの高さを
低くして建屋内への搬入及び設置が容易にできる様にな
り、液体ヘリウムポート取付は後は該ポートを取り巻く
断熱層の真空引き作業のみによって装置の稼動が行なえ
、経済性及び作業性に優れたタライオスタット据え付け
が可能となった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の代表的な実施例を示す一部破断説明図
、第2図は第1図における液体ヘリウムポート部を拡大
して示す断面説明図、第3図は液体ヘリウムポートの接
合部に利用されるクランプの例を示す説明図、第4図は
従来のタライオスタットの例を示す一部破断説明図、第
5図(a)はキャップ及びクランプを示す説明図、第5
図(b)は第5図(a)のB−B線断面説明図である。 1・・・タライオスタット 2・・・電導コイル   3・・・外筒4・・・液体ヘ
リウム  5・・・液体窒素68〜6C・・・真空断熱
層 8・・・液体ヘリウム槽9・・・液体窒素槽   
10−・・液体ヘリウムポート11・・・液体窒素ポー
ト 12・・・液体ヘリウム供給管13・・・液体窒素
供給管 14.15・・・接合部18a、18b ・・
・クランプ 20a =液体ヘリウム導入口

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  超電導コイルを内装した液体ヘリウム槽の周囲に断熱
    層を形成したクライオスタットであって、上記液体ヘリ
    ウム槽の液体ヘリウム導入口を開放構造とすると共に、
    該導入口を取巻く様に形成される導入口断熱層を密封構
    造とし、断熱層でシールドされた液体ヘリウム注入管を
    備えた液体ヘリウムポートを上記液体ヘリウム導入口及
    び導入口断熱層に対して着脱自在に取付け得る様に構成
    してなることを特徴とするクライオスタット。
JP62017026A 1987-01-27 1987-01-27 クライオスタツト Pending JPS63185010A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62017026A JPS63185010A (ja) 1987-01-27 1987-01-27 クライオスタツト

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62017026A JPS63185010A (ja) 1987-01-27 1987-01-27 クライオスタツト

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63185010A true JPS63185010A (ja) 1988-07-30

Family

ID=11932481

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62017026A Pending JPS63185010A (ja) 1987-01-27 1987-01-27 クライオスタツト

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JP (1) JPS63185010A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002222709A (ja) * 2001-01-26 2002-08-09 Imura Zairyo Kaihatsu Kenkyusho:Kk 磁場発生コイル装置

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JP2002222709A (ja) * 2001-01-26 2002-08-09 Imura Zairyo Kaihatsu Kenkyusho:Kk 磁場発生コイル装置

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