JPS63197043A - optical disc - Google Patents
optical discInfo
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- JPS63197043A JPS63197043A JP2824787A JP2824787A JPS63197043A JP S63197043 A JPS63197043 A JP S63197043A JP 2824787 A JP2824787 A JP 2824787A JP 2824787 A JP2824787 A JP 2824787A JP S63197043 A JPS63197043 A JP S63197043A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザー光を用いて情報の記録・再生・消去
を行う光ディスクにおいて、特に情報記録媒体の腐食を
抑制するのに好適な光ディスクの構造に関する。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical disc that records, reproduces, and erases information using a laser beam, and is particularly suitable for suppressing corrosion of an information recording medium. Regarding structure.
[従来の技術〕
近年、高密度・大容量、ランダムアクセスが可能な可逆
光ディスクが注目されている。可逆光ディスは大きく分
類すると1)相変化を利用したもの、2)磁気光学効果
を利用したものとの2種類になる。可逆光ディスクのコ
ストの低下、量産化のためにプラスチックの基板を用い
ることが各社で検討されている。また、光デイスク媒体
中にも樹脂層が存在する場合がある。これら高分子材料
r
中には、水分や材料合成時の副生成物、溶媒等l含まれ
ている。そこで、ディスク作成に先立ち、樹脂基板や樹
脂薄膜に対して80〜100℃で真空ベーク処理を行な
っていた。しかしこの手法では、ディスク作成直後は特
に問題は生じないが、作成後時間の経過とともにこれら
樹脂が吸収した水や樹脂中に残存している不純物により
情報記録膜が腐食を受け、ディスク特性が著しく低下す
るという問題があった。この問題を解決するための対策
の1つとして特開昭57−181447をあげることが
できる。しかしこれは物理的に記録膜と基板の界面を遮
断したのみであった。[Prior Art] In recent years, reversible optical disks that have high density, large capacity, and are capable of random access have been attracting attention. Reversible optical disks can be broadly classified into two types: 1) those that utilize phase change, and 2) those that utilize magneto-optic effects. Various companies are considering using plastic substrates to lower the cost and mass produce reversible optical discs. Further, a resin layer may also be present in the optical disc medium. These polymer materials contain water, by-products during material synthesis, solvents, etc. Therefore, prior to disk production, the resin substrate and resin thin film are vacuum baked at 80 to 100°C. However, with this method, no particular problem occurs immediately after the disc is created, but as time passes after the disc is created, the information recording film is corroded by the water absorbed by the resin and the impurities remaining in the resin, causing the disc characteristics to deteriorate significantly. There was a problem with the decline. JP-A-57-181447 can be mentioned as one of the measures to solve this problem. However, this only physically blocked the interface between the recording film and the substrate.
上記従来技術は、基板やディスク構成中の樹脂中から拡
散してくる水や不純物成分等による記録媒体の腐食に対
する配慮、特に保護膜中の02゜Hx Oの拡散に対す
る配慮が不十分であり、結果として、ディスク特性の経
時変化によりディスク寿命が低下するという問題があっ
た。The above-mentioned conventional technology does not give enough consideration to the corrosion of the recording medium due to water or impurity components that diffuse from the resin in the substrate or disk structure, especially the diffusion of 02°HxO in the protective film. As a result, there was a problem in that the disk life span was shortened due to changes in disk characteristics over time.
本発明の目的は、樹脂基板、或いは樹脂層に起因する記
録膜の腐食によるディスク特性の低下を抑制し、長寿命
の可逆光ディスクを提供することにある。An object of the present invention is to provide a long-life reversible optical disk that suppresses deterioration of disk characteristics due to corrosion of a recording film caused by a resin substrate or a resin layer.
上記目的は、樹脂基板や樹脂層表面を透明な無機物材料
でコーティングすることにより達成される。The above object is achieved by coating the surface of the resin substrate or resin layer with a transparent inorganic material.
上記材料の薄膜は光学的に透明であり、またこの膜中の
02やH20或いは他の物質の拡散係数は著しく小さく
、ピンホール等の膜欠陥による物質(主に水や酸素)の
透過も少ないので、化学的に活性な光磁気情報記録膜の
腐食を抑制することができ、かつディスクに光学的悪影
響は与えない。The thin film of the above material is optically transparent, and the diffusion coefficient of 02, H20, or other substances in this film is extremely small, and the permeation of substances (mainly water and oxygen) due to film defects such as pinholes is also small. Therefore, corrosion of the chemically active magneto-optical information recording film can be suppressed, and there is no adverse optical effect on the disk.
結果として、長寿命で、高信頼性を有する可逆光ディス
クを得ることができる。さらに、この無機物質膜は、基
板と光学効果膜或いは基板と光磁気情報記録膜との間に
存在するので、両層の接着性の改善及び低ストレス化に
も著しく有効である。As a result, a reversible optical disc with long life and high reliability can be obtained. Furthermore, since this inorganic material film exists between the substrate and the optical effect film or between the substrate and the magneto-optical information recording film, it is extremely effective in improving the adhesion between both layers and reducing stress.
以下、本発明の詳細を実施例1〜3を用いて説明する。 The details of the present invention will be explained below using Examples 1 to 3.
[実施例1]
作成した光ディスクの断面構造の模式図を第1図に示す
。基板1には、ポリメチルメタアクリレート(PMMA
)、ポリカーボネート(pc)。[Example 1] FIG. 1 shows a schematic diagram of the cross-sectional structure of the produced optical disc. The substrate 1 is made of polymethyl methacrylate (PMMA).
), polycarbonate (pc).
エポキシ樹脂(EP)、光硬化性樹脂(フオl〜キャス
ティング基板:PHC)を用いた。この上にインライン
型マグネトロンスパッタ装置を用いて、まず最初に透明
の無機化合物薄膜としてS n O2またはInzOs
にAQまたはTiをドープした膜或いはITO膜2を形
成した。スパッタターゲットには、5no2またはIn
zOs上に、AQまたはTiチップをのせたもの或いは
ITOを用い、放電ガスとしてArをそれぞれ用いた。Epoxy resin (EP) and photocurable resin (Follow casting substrate: PHC) were used. Using an in-line magnetron sputtering device, a transparent inorganic compound thin film of S n O 2 or InzOs is deposited on top of this.
A film doped with AQ or Ti or an ITO film 2 was formed. For the sputter target, 5no2 or In
AQ or Ti chips placed on zOs or ITO were used, and Ar was used as the discharge gas.
また、スパッタ条件は、放電ガス圧: 5 X 10−
’ (Torr)、投入RF電カニIW/(!I?、そ
してスパッタ時間は10分である。作成した膜の厚さは
、1000人である。次にこの上に、光学効果膜3とし
て、SisNa膜をスパッタ法により作成した。ターゲ
ットにはSi3N4焼結体ターゲットを、そして放電ガ
スにArをそれぞれ用いた。スパッタ条件は、先の透明
な無機化合物薄膜作成の場合と同様である。作成した膜
の厚さは850人である。次に、光磁気記録膜: Tb
27FeaaCozzNba 4をスパッタ法により作
成した。ターゲットにTbx7FerhsCoxwNb
s合金焼結体ターゲットを用い、放電ガスにArを用い
た。スパッタ条件は、先の透明な無機化合物薄膜作成の
場合と同様である。作成した薄膜の膜厚は1000人で
、光磁気特性はKerr回転角θに=0.35″ 、保
磁力Hc = 5 KOe 、キュリ一温度”I’c=
200℃、補償温度: Tc;IIP= 120℃(光
磁気記録膜のみ)であった。そして最後に、保護膜5の
5isNaを先の光学効果膜作成の場合と同様の条件で
作成した。ここで、スパッタ時間のみ20分とし、15
00人の膜を形成した。また比較のために、本発明の透
明の無機化合物簿膜を含まない光磁気ディスクも作成し
た。In addition, the sputtering conditions are: discharge gas pressure: 5 x 10-
' (Torr), input RF electric crab IW/(!I?), and sputtering time is 10 minutes. The thickness of the created film is 1000. Next, on top of this, as optical effect film 3, A SisNa film was created by sputtering.A Si3N4 sintered target was used as the target, and Ar was used as the discharge gas.The sputtering conditions were the same as in the case of creating the transparent inorganic compound thin film. The thickness of the film is 850.Next, the magneto-optical recording film: Tb
27FeaaCozzNba 4 was prepared by sputtering. Tbx7FerhsCoxwNb on target
An s-alloy sintered target was used, and Ar was used as the discharge gas. The sputtering conditions are the same as in the case of creating the transparent inorganic compound thin film described above. The thickness of the produced thin film was 1000, the magneto-optical properties were Kerr rotation angle θ = 0.35'', coercive force Hc = 5 KOe, Curie temperature ``I'c =
200°C, compensation temperature: Tc; IIP = 120°C (magneto-optical recording film only). Finally, 5isNa as the protective film 5 was formed under the same conditions as in the case of forming the optical effect film. Here, only the sputtering time was set to 20 minutes, and the sputtering time was 20 minutes.
A film of 00 people was formed. For comparison, a magneto-optical disk not containing the transparent inorganic compound film of the present invention was also prepared.
次に、作成したディスクを80℃−95%RH第 1
表
環境下に1000時間保存したときのKerr回転角(
OKL保磁力(Hc)、反射率(R)の経時変化を測定
した。その結果を第1表に示す。まず、透明な無機化合
物膜を基板表面と光学効果膜の間に設けたことによる反
射率等の光学的特性の低下はまったくみられず28%と
一定であった。また、光磁気特性、とりわけカー回転角
及び保磁力の変動をほぼ抑制できた。ここで保磁力の変
動は、その大きさから80℃中に非晶質の光磁気記録膜
を保存したことにより起る構造緩和に起因したものであ
り、腐食によるものではない。これに対して、基板と光
学効果膜との間に透明な無機化合物薄膜を設けていない
光磁気ディスクにおいては、カー回転角9反射率、保磁
力とも低下した。特に保磁力の変動は大きく、単に構造
緩和がその主原因ではなく、腐食によりその値の低下が
みられる。Next, the created disc was heated to 80°C and 95% RH.
Kerr rotation angle when stored for 1000 hours in a table environment (
Changes in OKL coercive force (Hc) and reflectance (R) over time were measured. The results are shown in Table 1. First, by providing a transparent inorganic compound film between the substrate surface and the optical effect film, there was no decrease in optical properties such as reflectance, which remained constant at 28%. In addition, fluctuations in magneto-optical properties, especially Kerr rotation angle and coercive force, were almost suppressed. Here, the variation in coercive force is due to structural relaxation caused by storing the amorphous magneto-optical recording film at 80° C., and is not due to corrosion. On the other hand, in a magneto-optical disk in which a transparent inorganic compound thin film was not provided between the substrate and the optical effect film, both the Kerr rotation angle 9 reflectance and coercive force decreased. In particular, the coercive force fluctuates significantly, and the main cause of this is not simply structural relaxation, but a decrease in its value due to corrosion.
このように、本発明の透明な無機化合物薄膜を基板表面
に設けることにより、光磁気ディスクの磁気及び磁気光
学的特性の変動を抑制することができ、高信頼性を有す
る可逆光ディスクを得た。As described above, by providing the transparent inorganic compound thin film of the present invention on the substrate surface, it was possible to suppress variations in the magnetic and magneto-optical characteristics of the magneto-optical disk, and a highly reliable reversible optical disk was obtained.
磁性膜の保護効果は、非晶質の透明な無機化合物膜を用
いると結晶質膜を用いた場合よりさらに2割程度向上し
た。The protective effect of the magnetic film was improved by about 20% when an amorphous transparent inorganic compound film was used compared to when a crystalline film was used.
[実施例2]
作成した光ディスクの断面構造は実施例1と同様で、第
1図に示すとおりである。ディスク基板lには、PMM
A、PC,EP、PHCを用いた。[Example 2] The cross-sectional structure of the produced optical disc was the same as that of Example 1, and is as shown in FIG. The disk substrate l has a PMM
A, PC, EP, and PHC were used.
この基板上にインライン型薄膜形成装置で透明な無機化
合物薄膜として、Cu I y A u p CT O
薄膜2を形成した。薄膜の形成は、真空蒸着法により行
ない、膜厚を50nmとした。そのときの形成条件は、
真空槽内をI X 10−6(Torr)以下に排気し
た後に、抵抗加熱法にて行なった。つづいて、この膜の
表面を軽くスパッタエッチした後に、光学効果膜3とし
てSiO膜をスパッタ法により作成した。条件は、後述
するとおりである。つまりターゲットにSiO焼結体を
用い、lXl0 BTorrまで排気した後に放電ガス
にArを用い、圧カニ 5 X 10−”(Torr)
、投入RF出カニ 2.5W/cd 、にて7分間ス
パッタした、得られた膜は、膜厚:85nm、屈折率:
n=1.98 であった。On this substrate, a transparent inorganic compound thin film was formed using an in-line thin film forming apparatus.
A thin film 2 was formed. The thin film was formed by vacuum evaporation, and the film thickness was 50 nm. The formation conditions at that time are
After the inside of the vacuum chamber was evacuated to below I x 10-6 (Torr), the resistance heating method was used. Subsequently, after lightly sputter etching the surface of this film, a SiO film was formed as an optical effect film 3 by sputtering. The conditions are as described below. In other words, a SiO sintered body was used as the target, and after exhausting to lXl0 B Torr, Ar was used as the discharge gas, and the pressure crab was
The resulting film, which was sputtered for 7 minutes at an input RF output of 2.5 W/cd, had a film thickness of 85 nm and a refractive index:
n=1.98.
次にこの上に、光磁気記録膜(T b F e Co
N b非晶質薄膜)4をスパッタ法により1100nの
膜厚に形成した。そのときのターゲット及び形成条件は
、実施例1と同様である。最後に、SiO保護膜5を1
50nmの膜厚に形成した。その時の条件は、スパッタ
時間が15分である以外は、先の光学効果膜形成の場合
と同じである。また、比較のために本発明の透明導電性
薄膜で基板表面をおおっていないディスクも合わせて作
成した。Next, a magneto-optical recording film (T b Fe Co
A Nb amorphous thin film) 4 was formed to a thickness of 1100 nm by sputtering. The target and formation conditions at that time are the same as in Example 1. Finally, apply 1 layer of SiO protective film 5.
The film was formed to have a thickness of 50 nm. The conditions at that time were the same as in the case of forming the optical effect film previously, except that the sputtering time was 15 minutes. For comparison, a disk whose substrate surface was not covered with the transparent conductive thin film of the present invention was also prepared.
次に、作成したディスクを80℃−95%RH環境下に
1000時間保存したときのKerr回転角=θに、保
磁カニHc を反射率:Rの経時変化を測定した。その
結果を第2表にまとめて示す。この表より、本発明の詳
細な説明導電性膜でプラスチック基板表面をおおうこと
に光磁気ディスクの磁気及び磁気光学特性の変動を抑制
することができ、高信頼性を有する可逆光ディスクを得
た。Next, when the prepared disk was stored in an environment of 80° C. and 95% RH for 1000 hours, the change over time of the reflectance R of the coercive crab Hc was measured at Kerr rotation angle=θ. The results are summarized in Table 2. From this table, it is possible to suppress variations in the magnetic and magneto-optical characteristics of the magneto-optical disk by covering the surface of the plastic substrate with a conductive film, thereby obtaining a highly reliable reversible optical disk.
第 2 表
[実施例3コ
作成した光磁気ディスクの断面構造は、実施例1と同様
で、その模式図は第1図に示すとおりである。ディスク
作成の手順は、インライン型スパッタ装置を用い、以下
に述べる順序で行なった。Table 2 [Example 3] The cross-sectional structure of the produced magneto-optical disk was the same as that of Example 1, and its schematic diagram is as shown in FIG. The disc preparation procedure was performed using an in-line sputtering device in the order described below.
まずディスク基板1には、PC,PHCを用いた。First, for the disk substrate 1, a PC or a PHC was used.
この基板上にPdをインオビーム蒸着法で、或いはsb
、またはTiをドープしたSnO膜2をスパッタ法で形
成した、EB法によるPd膜の形成は通常の方法で作成
した、Tiまたはsbをドープした5nOz膜は、Sn
O2板上に、ターゲットボンドでTi或いはsbのチッ
プをはがったモザイク状の複合体ターゲットを用いた。Pd is deposited on this substrate by ino-beam evaporation or sb
, or a SnO film 2 doped with Ti was formed by sputtering, a Pd film was formed by the EB method using a normal method, and a 5nOz film doped with Ti or sb was formed using SnO.
A mosaic-like composite target in which Ti or SB chips were removed using target bonding was used on an O2 plate.
これら金属を多くドープすると、吸収率が大きくなり、
ディスク特性の低下をきたすので注意しなければならな
い。これら透明な無機化合物の厚さは、50nmである
。一方この透明の無機化合物膜を基板と光学効果膜との
間に設けることにより、光磁気記録膜の保護以外にこの
両者の膜の接着性の向上、ストレスの軽減にも有効であ
った。つづいて、この膜上に5ixNa光学効果膜3を
スパッタ法で形成した。スパッタ条件は、実施例1と同
様である。Doping a large amount of these metals increases the absorption rate,
Care must be taken as this will cause a deterioration of the disc characteristics. The thickness of these transparent inorganic compounds is 50 nm. On the other hand, by providing this transparent inorganic compound film between the substrate and the optical effect film, it was effective not only to protect the magneto-optical recording film but also to improve the adhesion between the two films and reduce stress. Subsequently, a 5ixNa optical effect film 3 was formed on this film by sputtering. The sputtering conditions are the same as in Example 1.
作成した膜の厚さは85 n m 、屈折率は2.05
であった。次に、光磁気情報記録膜4として(Gdo+
aTbo、z)o、zz(Feo、eCoo、z)o、
7Jbo+oaをスパッタ法により作成した。その手法
は、ターゲットに、GdTb合金、FeCo合金、そし
てNb板を用い回転数12Orpmで基板を回転させた
三元DC同時スパッタ法で行なった。光磁気記録膜の組
成は、DC電源の投入電力を制御して行なった。また、
記録膜の耐食性を向上させるために、膜厚が60nmを
越えたところでNbターゲットの投入電力を増加し、他
ターゲットの電力を低下させ、Nbに組成勾配を膜厚方
向にもたせた。そして最後に5iaNa保護膜5をマグ
ネトロンスパッタ法で50nm形成した。その時のスパ
ッタ条件は、先の光学効果膜形成の場合と同様である。The thickness of the created film was 85 nm, and the refractive index was 2.05.
Met. Next, as the magneto-optical information recording film 4 (Gdo+
aTbo,z)o,zz(Feo,eCoo,z)o,
7Jbo+oa was prepared by sputtering. The method was a ternary DC simultaneous sputtering method using GdTb alloy, FeCo alloy, and Nb plate as targets and rotating the substrate at a rotation speed of 12 rpm. The composition of the magneto-optical recording film was determined by controlling the applied power of the DC power supply. Also,
In order to improve the corrosion resistance of the recording film, the power applied to the Nb target was increased when the film thickness exceeded 60 nm, and the power applied to the other targets was decreased to provide a compositional gradient in Nb in the film thickness direction. Finally, a 5iaNa protective film 5 was formed to a thickness of 50 nm by magnetron sputtering. The sputtering conditions at this time are the same as in the case of forming the optical effect film described above.
また、比較のために、本発明の透明な無機化合物の薄膜
で基板表面をおおわず、直接ディスク基板上に光学効果
膜でおおった光磁気ディスクも製造した。For comparison, a magneto-optical disk was also manufactured in which the surface of the substrate was not covered with the thin film of the transparent inorganic compound of the present invention, but an optical effect film was directly covered on the disk substrate.
次に、作成した光磁気ディスクを80℃−95%RH環
境下に1000時間保存したときのKerr回転角二〇
に、保磁カニHct反射率:Rの経時変化を測定した。Next, the produced magneto-optical disk was stored in an environment of 80° C. and 95% RH for 1000 hours at a Kerr rotation angle of 20, and the change over time in the coercive crab Hct reflectance: R was measured.
ディスク作成初期と1000時間後のこれら特性の推移
を第3表にまとめて示す。Table 3 summarizes the changes in these characteristics from the initial stage of disc creation to after 1000 hours.
この表より、本発明の透明な無機化合物膜でプラスチッ
ク基板表面をおおうことに光磁気ディスクの磁気及び磁
気光学特性の変動を抑制することができ、高信頼性を有
する光磁気ディスクを得た。This table shows that by covering the plastic substrate surface with the transparent inorganic compound film of the present invention, fluctuations in the magnetic and magneto-optical properties of the magneto-optical disk can be suppressed, and a highly reliable magneto-optical disk can be obtained.
第 3 表
〔発明の効果〕
本発明によれば、プラスチック基板または樹脂層を有す
る基板を用いた可逆光ディスクの形成において、これら
樹脂表面を透明の無機化合物薄膜でおおうことにより、
樹脂よりしみだしてくる物質或いは樹脂中を拡散してく
る物質を遮断することができるので、これらの物質によ
る記録膜腫変質を抑制でき、ディスクの寿命を伸す効果
がある。Table 3 [Effects of the Invention] According to the present invention, in forming a reversible optical disc using a plastic substrate or a substrate having a resin layer, by covering the resin surface with a transparent inorganic compound thin film,
Since it is possible to block substances that seep out of the resin or diffuse into the resin, it is possible to suppress recording membranous deterioration caused by these substances, and has the effect of extending the life of the disk.
またこの薄膜は、ディスクの長寿命化のみならず、光学
効果膜と基板の間のストレスを軽減することにより両者
の接着強度を増す効果がある。特に透明な無機化合物膜
として基板材料と同じ屈折率を有するものを用いると、
光路に与える影響は無視でき、その膜厚も任意に選択で
きる。Furthermore, this thin film has the effect of not only extending the life of the disk but also increasing the adhesive strength between the optical effect film and the substrate by reducing the stress between the two. In particular, if a transparent inorganic compound film with the same refractive index as the substrate material is used,
The influence on the optical path can be ignored, and the film thickness can be arbitrarily selected.
第1図は作成した光ディスクの断面構造を表わす模式図
である。
1・・・基板、2・・・透明な無機化合物膜、3・・・
光学効果膜、4・・・情報記録膜、5・・・保護膜。FIG. 1 is a schematic diagram showing the cross-sectional structure of the produced optical disc. 1... Substrate, 2... Transparent inorganic compound film, 3...
Optical effect film, 4... Information recording film, 5... Protective film.
Claims (1)
ィスクにおいて、樹脂基板または樹脂層と情報記録媒体
との界面に透明の無機物層を設けたことを特徴とする光
ディスク。 2、上記透明の無機物層は、CuI膜であるか、又はA
u、Pd、Al、Ti、錫の少なくとも1つをドープし
た酸化インジウム膜(ITO膜)であるか、又は、Al
、アンチモン、Tiをドープした酸化錫膜であるか、又
はカドミウム・錫酸化物膜(CTO膜)のうちの少なく
とも1種類の膜からなる層であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の光ディスク。 3、上記透明の無機物層は、金属元素の薄膜からなる層
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光
ディスク。 4、上記透明の無機物層が非晶質であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の光デ
ィスク。 5、上記透明の無機物層の屈折率が基板材料の屈折率と
等しいことを特徴とする特許請求の範囲第1項、第2項
、第3項又は第4項記載の光ディスク。[Scope of Claims] 1. An optical disc on which information is read and written using laser light, characterized in that a transparent inorganic layer is provided at the interface between a resin substrate or resin layer and an information recording medium. 2. The transparent inorganic layer is a CuI film or an A
Indium oxide film (ITO film) doped with at least one of u, Pd, Al, Ti, and tin, or Al
, antimony, a tin oxide film doped with Ti, or a cadmium tin oxide film (CTO film). The optical disc described. 3. The optical disc according to claim 1, wherein the transparent inorganic layer is a layer made of a thin film of a metal element. 4. The optical disc according to claim 1, 2 or 3, wherein the transparent inorganic layer is amorphous. 5. The optical disk according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the refractive index of the transparent inorganic layer is equal to the refractive index of the substrate material.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2824787A JPS63197043A (en) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | optical disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2824787A JPS63197043A (en) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | optical disc |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63197043A true JPS63197043A (en) | 1988-08-15 |
Family
ID=12243249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2824787A Pending JPS63197043A (en) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | optical disc |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63197043A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63266651A (en) * | 1986-12-26 | 1988-11-02 | Teijin Ltd | Magneto-optical recording medium |
-
1987
- 1987-02-12 JP JP2824787A patent/JPS63197043A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63266651A (en) * | 1986-12-26 | 1988-11-02 | Teijin Ltd | Magneto-optical recording medium |
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