JPS63205609A - 熱線反射膜 - Google Patents
熱線反射膜Info
- Publication number
- JPS63205609A JPS63205609A JP3884187A JP3884187A JPS63205609A JP S63205609 A JPS63205609 A JP S63205609A JP 3884187 A JP3884187 A JP 3884187A JP 3884187 A JP3884187 A JP 3884187A JP S63205609 A JPS63205609 A JP S63205609A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- layer
- heat ray
- alnx
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 abstract description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 81
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- -1 Polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 12
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 12
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 12
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009684 ion beam mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、太陽光線中に含まれる熱線を効率よく反射し
、かつ可視光線の透過率が良好で、しかも耐久性に優れ
た熱線反射膜に関するものであり。
、かつ可視光線の透過率が良好で、しかも耐久性に優れ
た熱線反射膜に関するものであり。
さらに１面発熱体としても応用可能である。
（従来の技術）
熱線反射膜は、建物、自動車窓等の熱線の透過による内
部温度の上昇を防止し、空調の効率を上げる目的で、ガ
ラスまたはフィルム上に形成され。
部温度の上昇を防止し、空調の効率を上げる目的で、ガ
ラスまたはフィルム上に形成され。
使用されている。
従来の熱線反射膜は、第１層および第３層としてＴｉＯ
２，ＩＴＯ，ＺｎＳ膜等の酸化物、硫化物が提案されて
いる（特開昭５１−６６８４１号）。
２，ＩＴＯ，ＺｎＳ膜等の酸化物、硫化物が提案されて
いる（特開昭５１−６６８４１号）。
しかしながら、第１層および第３層がＴ ｉ Ｏｚまた
はＩＴＯ膜等の酸化物では、光、酸素等の励起により第
２層のＡｇ原子が酸化、もしくは第１層および第３層の
Ｔｉ０ｚ膜またはＩＴＯ膜ヘマイグレーションが起こり
、可視光線の透過率が低下する。
はＩＴＯ膜等の酸化物では、光、酸素等の励起により第
２層のＡｇ原子が酸化、もしくは第１層および第３層の
Ｔｉ０ｚ膜またはＩＴＯ膜ヘマイグレーションが起こり
、可視光線の透過率が低下する。
また、このような問題は、ＺｎＳ膜においては熱線の反
射効果が失われる等、実用上問題となっている。
射効果が失われる等、実用上問題となっている。
したがって２本発明の目的は、太陽光線中に含まれる熱
線を効率よく反射し、かつ可視光線の透過率が良好で、
しかも耐久性に優れた熱線反射膜を提供することにある
。
線を効率よく反射し、かつ可視光線の透過率が良好で、
しかも耐久性に優れた熱線反射膜を提供することにある
。
（問題点を解決するための手段）
本発明者らは、上記のごとき問題を解決し、太陽光線中
に含まれる熱線を効率よく反射し、かつ可視光線の透過
率が良好で、しかも耐久性に優れた熱線反射膜について
鋭意研究の結果、第１層および第３ＮとしてＡｊｉ！Ｎ
ｘの窒化膜を設けることにより本発明の目的が達成しう
ろことを見出し。
に含まれる熱線を効率よく反射し、かつ可視光線の透過
率が良好で、しかも耐久性に優れた熱線反射膜について
鋭意研究の結果、第１層および第３ＮとしてＡｊｉ！Ｎ
ｘの窒化膜を設けることにより本発明の目的が達成しう
ろことを見出し。
本発明に到達した。
すなわち１本発明は、透明基体上に、該透明基体面から
数えて第１層としてＡ／！Ｎｘ膜を、第２層としてＡｇ
膜を、第３層としてＡｊ！Ｎｘ膜を有する多層膜であり
、ＡｌＮｘ膜のＸが０．４以上。
数えて第１層としてＡ／！Ｎｘ膜を、第２層としてＡｇ
膜を、第３層としてＡｊ！Ｎｘ膜を有する多層膜であり
、ＡｌＮｘ膜のＸが０．４以上。
１以下、第１層および第３層のＡｆｆＮｘ膜の厚さが１
００Å〜５０００人であり、第２層のＡｇ膜の厚さが３
０Å〜３００人であることを特徴とする熱線反射膜を要
旨とするものである。
００Å〜５０００人であり、第２層のＡｇ膜の厚さが３
０Å〜３００人であることを特徴とする熱線反射膜を要
旨とするものである。
本発明の透明基体としては、ガラス板、プラスチック板
、プラスチックフィルム等の透明基体があげられる。
、プラスチックフィルム等の透明基体があげられる。
本発明の熱線反射膜は、このような透明基体に第１Ｎお
よび第３層として厚さ１００Å〜５０００人のＡｌＮｘ
膜、第２層として厚さ３０Å〜３００人のＡｇ膜を順次
成膜してなる多層膜を設けることにより得られる。
よび第３層として厚さ１００Å〜５０００人のＡｌＮｘ
膜、第２層として厚さ３０Å〜３００人のＡｇ膜を順次
成膜してなる多層膜を設けることにより得られる。
第１層および第３層のＡｊ２Ｎｘ膜は、イオンブレーテ
ィング法、スパッタリング法等の真空薄膜形成法により
形成することができるが、薄膜の付着強度、成膜速度等
の点から、高周波による。またはホローカソードガンを
用いたイオンブレーティング法や、プラズマ発生装置を
用いたイオンビームミキシング法、シートプラズマ法等
が望ましい。Ａｊ２Ｎｘ膜の膜厚は、１００Å〜５００
０人。
ィング法、スパッタリング法等の真空薄膜形成法により
形成することができるが、薄膜の付着強度、成膜速度等
の点から、高周波による。またはホローカソードガンを
用いたイオンブレーティング法や、プラズマ発生装置を
用いたイオンビームミキシング法、シートプラズマ法等
が望ましい。Ａｊ２Ｎｘ膜の膜厚は、１００Å〜５００
０人。
好ましくは２００Å〜１０００人である。膜厚が１００
人未満では透過率が十分でなく、５０００人を超える場
合は経済性の面で実用的でない。また、Ｘは真空薄膜形
成法および薄膜形成条件により変化するものであるが、
Ｘ＜０．４では十分な可視光の透過性が得られず、好ま
しくない。
人未満では透過率が十分でなく、５０００人を超える場
合は経済性の面で実用的でない。また、Ｘは真空薄膜形
成法および薄膜形成条件により変化するものであるが、
Ｘ＜０．４では十分な可視光の透過性が得られず、好ま
しくない。
第２層のＡｇ膜は、真空蒸着法、イオンブレーティング
法、スパッタリング法等のような通常の真空薄膜形成法
により形成することができるが。
法、スパッタリング法等のような通常の真空薄膜形成法
により形成することができるが。
薄膜の付着強度等の点から、アルゴンプラズマ中でＡｇ
を蒸発させてＡｇ膜を堆積させるイオンブレーティング
法が望ましい。Ａｇ膜の膜厚は３０Å〜３００人である
。膜厚が３０人未満では熱線の反射効果が十分でなく、
３００人を超える場合は十分な可視光の透過性が得られ
ない。
を蒸発させてＡｇ膜を堆積させるイオンブレーティング
法が望ましい。Ａｇ膜の膜厚は３０Å〜３００人である
。膜厚が３０人未満では熱線の反射効果が十分でなく、
３００人を超える場合は十分な可視光の透過性が得られ
ない。
また、付着力向上のために、アンカー処理剤の塗布、フ
ィルム表面の放電処理または化学処理等も同時に行うこ
とが可能である。また、必要に応じて、この膜上に保護
コーティングを施すこともできる。
ィルム表面の放電処理または化学処理等も同時に行うこ
とが可能である。また、必要に応じて、この膜上に保護
コーティングを施すこともできる。
（実施例）
次に、実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明する
。
。
実施例１
ポリエチレンテレフタレートフィルムとＡｌおよびＡｇ
ペレットを各所定の位置にセットした真空装置内を、
Ｉ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒまで排気した後、窒素ガス
をＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ導入し、高周波プラズマ（
１３，５６ＭＨｚ、 ３００ Ｗ）を発生させ、電子
銃によりＡｆペレットを加熱蒸発させてＡＩを窒素プラ
ズマ下で反応させ、３人／Ｓの成膜速度で第１層のＡ／
Ｎｘ膜を膜厚３００人で作成した。
ペレットを各所定の位置にセットした真空装置内を、
Ｉ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒまで排気した後、窒素ガス
をＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ導入し、高周波プラズマ（
１３，５６ＭＨｚ、 ３００ Ｗ）を発生させ、電子
銃によりＡｆペレットを加熱蒸発させてＡＩを窒素プラ
ズマ下で反応させ、３人／Ｓの成膜速度で第１層のＡ／
Ｎｘ膜を膜厚３００人で作成した。
室温まで冷却の後、Ａｒガスを２ Ｘ １０−’Ｔｏｒ
ｒ導入し、高周波プラズマ（１３，５６Ｍｌｌｚ、
５０ Ｗ）を発生させ、電子銃によりＡｇペレットを加
熱仄発させて、５人／Ｓの成膜速度で第２層のＡｇ膜を
膜厚１５０人で形成した。
ｒ導入し、高周波プラズマ（１３，５６Ｍｌｌｚ、
５０ Ｗ）を発生させ、電子銃によりＡｇペレットを加
熱仄発させて、５人／Ｓの成膜速度で第２層のＡｇ膜を
膜厚１５０人で形成した。
次に、第１ＮのＡ６Ｎｘ膜形成方法と同様な方法で第３
ＮのＡｊ２Ｎｘ膜を膜厚３００人で形成し。
ＮのＡｊ２Ｎｘ膜を膜厚３００人で形成し。
熱線反射膜をポリエチレンテレフタレートフィルム上に
形成した。ＡｌＮｘ１ｌｌのＸは、Ｘ線光電子分光装置
の測定により０．５であった。
形成した。ＡｌＮｘ１ｌｌのＸは、Ｘ線光電子分光装置
の測定により０．５であった。
このようにして得られた本発明の熱線反射膜を形成した
ポリエチレンテレフタレートフィルムを。
ポリエチレンテレフタレートフィルムを。
分光光度計（Ｕ−３４００，日立製）により、可視光の
透過率（５５０ｎｍ）および熱線の反射率（１５００ｎ
ｍ）を測定した。また、耐久性を評価するために、ＪＩ
Ｓ−Ｌ−０８２４規格の耐光試験機を用いて１０００時
間露光後の可視光の透過率（５５０ｎｍ）および熱線の
反射率（１５００ｎｍ）を分光光度計（Ｕ−３４００，
日立製）により測定した。
透過率（５５０ｎｍ）および熱線の反射率（１５００ｎ
ｍ）を測定した。また、耐久性を評価するために、ＪＩ
Ｓ−Ｌ−０８２４規格の耐光試験機を用いて１０００時
間露光後の可視光の透過率（５５０ｎｍ）および熱線の
反射率（１５００ｎｍ）を分光光度計（Ｕ−３４００，
日立製）により測定した。
得られた結果を第１表に示す。
比較例１
ポリエチレンテレフタレートフィルムとＡｌおよびＡｇ
ベレットを各所定の位置にセットした真空装置内を、
Ｉ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒまで排気した後、窒素ガス
をＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ導入し、高周波プラズマ（
１３，５６ＭＨｚ、５０Ｗ）を発生させ、電子銃により
Ａｌベレットを加熱蒸発させて／ｌを窒素プラズマ下で
反応させ、１０人／Ｓの成膜速度で第１層のＡｌＮｘ膜
を膜厚３００人で作成した。
ベレットを各所定の位置にセットした真空装置内を、
Ｉ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒまで排気した後、窒素ガス
をＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ導入し、高周波プラズマ（
１３，５６ＭＨｚ、５０Ｗ）を発生させ、電子銃により
Ａｌベレットを加熱蒸発させて／ｌを窒素プラズマ下で
反応させ、１０人／Ｓの成膜速度で第１層のＡｌＮｘ膜
を膜厚３００人で作成した。
室温まで冷却の後、Ａｒガスを２ Ｘ １０−’Ｔｏｒ
ｒ導入し、高周波プラズマ（１３，５６ＭＨｚ、 ３
００ Ｗ）を発生させ、電子銃によりＡｇベレットを加
熱蒸発させて、５人／Ｓの成膜速度で第２層のＡｇ膜を
膜厚１５０人で形成した。
ｒ導入し、高周波プラズマ（１３，５６ＭＨｚ、 ３
００ Ｗ）を発生させ、電子銃によりＡｇベレットを加
熱蒸発させて、５人／Ｓの成膜速度で第２層のＡｇ膜を
膜厚１５０人で形成した。
第１ＮのＡ＃Ｎｘ膜形成方法と同様な方法で第３ＮのＡ
ｊ２Ｎｘ膜を膜厚３００人で形成し、熱線反射膜をポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に形成した。Ａｊ２
Ｎｘ膜のＸは、Ｘ線光電子分光装置の測定により０．３
であった。
ｊ２Ｎｘ膜を膜厚３００人で形成し、熱線反射膜をポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に形成した。Ａｊ２
Ｎｘ膜のＸは、Ｘ線光電子分光装置の測定により０．３
であった。
このようにして得られた本発明の熱線反射膜を形成した
ポリエチレンテレフタレートフィルムを。
ポリエチレンテレフタレートフィルムを。
実施例１と同様な方法で可視光の透過率、熱線の反射率
を評価した。
を評価した。
比較例２
ポリエチレンテレフタレートフィルムとＴｉおよびＡｇ
ペレットを各所定の位置にセットした真空装置内を、
Ｉ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒまで排気した後、酸素ガス
を４ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒｉ人し、高周波プラズマ（
１３，５６ＭＨｚ、５０Ｗ）を発生させ、電子銃により
Ｔｉベレットを加熱蒸発させてＴｉを酸素プラズマ下で
反応させ、３人／Ｓの成膜速度で第１層のＴｉ０ｚ膜を
膜厚３００人で作成した。
ペレットを各所定の位置にセットした真空装置内を、
Ｉ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒまで排気した後、酸素ガス
を４ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒｉ人し、高周波プラズマ（
１３，５６ＭＨｚ、５０Ｗ）を発生させ、電子銃により
Ｔｉベレットを加熱蒸発させてＴｉを酸素プラズマ下で
反応させ、３人／Ｓの成膜速度で第１層のＴｉ０ｚ膜を
膜厚３００人で作成した。
室温まで冷却の後、Ａｒガスを２ Ｘ １０−’Ｔｏｒ
ｒ導入し、高周波プラズマ（１３，５６ＭＨｚ、 ５
０ Ｗ）を発生させ、電子銃によりＡｇベレットを加熱
１発させて、５人／Ｓの成膜速度で第２層のＡｇ膜を膜
厚１５０人で形成した。
ｒ導入し、高周波プラズマ（１３，５６ＭＨｚ、 ５
０ Ｗ）を発生させ、電子銃によりＡｇベレットを加熱
１発させて、５人／Ｓの成膜速度で第２層のＡｇ膜を膜
厚１５０人で形成した。
次に、第１層のＴｉ０ｚ膜形成方法と同様な方法で第３
１のＴ ｉ Ｏｚ膜を膜厚３００人で形成し、熱線反射
膜をポリエチレンテレフタレートフィルム上に形成した
。
１のＴ ｉ Ｏｚ膜を膜厚３００人で形成し、熱線反射
膜をポリエチレンテレフタレートフィルム上に形成した
。
このようにして得られた本発明の熱線反射膜を形成した
ポリエチレンテレフタレートフィルムを。
ポリエチレンテレフタレートフィルムを。
実施例１と同様な方法で可視光の透過率、熱線の反射率
および耐久性を評価した。
および耐久性を評価した。
比較例３
ポリエチレンテレフタレートフィルムとＺｎＳおよびＡ
ｇペレットを各所定の位置にセットした真空装置内を、
Ｉ Ｘ １０−ｓＴｏｒｒまで排気した後。
ｇペレットを各所定の位置にセットした真空装置内を、
Ｉ Ｘ １０−ｓＴｏｒｒまで排気した後。
ＡｒガスをＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ導入し、高周波プ
ラズマ（１３，５６ＭＨｚ、 ５０Ｗ）を発生させ、
電子銃によりＺｎＳベレットを加熱蒸発させてＺｎＳを
Ａｒプラズマ下で反応させ、３人／Ｓの成膜速度で第１
ＮのＺｎＳ膜を膜厚３００人で作成した。
ラズマ（１３，５６ＭＨｚ、 ５０Ｗ）を発生させ、
電子銃によりＺｎＳベレットを加熱蒸発させてＺｎＳを
Ａｒプラズマ下で反応させ、３人／Ｓの成膜速度で第１
ＮのＺｎＳ膜を膜厚３００人で作成した。
室温まで冷却の後、Ａｒガスを２ Ｘ １０−’Ｔｏｒ
ｒ導入し、高周波プラズマ（１３，５６ＭＨｚ、 ５
０ Ｗ）を発生させ、電子銃によりＡｇベレットを加熱
蒸発させて、５人／Ｓの成膜速度で第２層のＡｇ膜を膜
厚１５０人で形成した。
ｒ導入し、高周波プラズマ（１３，５６ＭＨｚ、 ５
０ Ｗ）を発生させ、電子銃によりＡｇベレットを加熱
蒸発させて、５人／Ｓの成膜速度で第２層のＡｇ膜を膜
厚１５０人で形成した。
次に、第１ＨのＺｎＳ膜形成方法と同様な方法で第３層
のＺｎＳ膜を膜厚３００人で形成し、熱線反射膜をポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に形成した。
のＺｎＳ膜を膜厚３００人で形成し、熱線反射膜をポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に形成した。
このようにして得られた本発明の熱線反射膜を形成した
ポリエチレンテレフタレートフィルムを。
ポリエチレンテレフタレートフィルムを。
実施例１と同様な方法で可視光の透過率、熱線の反射率
および耐久性を評価した。
および耐久性を評価した。
（発明の効果）
本発明の熱線反射膜は、太陽光線に含まれる熱線を効率
よく反射し、かつ可視光線の透過率が良好で、しかも耐
久性が優れたものである。したがって、建物、自動車窓
用等の材料として広く用いることができる。
よく反射し、かつ可視光線の透過率が良好で、しかも耐
久性が優れたものである。したがって、建物、自動車窓
用等の材料として広く用いることができる。
Claims (3)
- （１）透明基体上に、該透明基体面から数えて第１層と
してＡｌＮｘ膜を、第２層としてＡｇ膜を、第３層とし
てＡｌＮｘ膜を有する多層膜であることを特徴とする熱
線反射膜。 - （２）ＡｌＮｘ膜のＸが０．４以上、１以下であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の熱線反射膜。 - （３）第１層および第３層のＡｌＮｘ膜の厚さが１００
Å〜５０００Åであり、第２層のＡｇ膜の厚さが３０Å
〜３００Åであることを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の熱線反射膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3884187A JPS63205609A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 熱線反射膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3884187A JPS63205609A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 熱線反射膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63205609A true JPS63205609A (ja) | 1988-08-25 |
Family
ID=12536426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3884187A Pending JPS63205609A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 熱線反射膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63205609A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63141901U (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-19 | ||
| JPH01310302A (ja) * | 1988-06-09 | 1989-12-14 | Nitto Denko Corp | 分光フイルター |
| JP2001523358A (ja) * | 1998-03-03 | 2001-11-20 | サン−ゴバン ビトラージュ | 熱放射線を反射する積層体を具備した透明基材 |
| WO2014021325A1 (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 株式会社京都薄膜応用技術研究所 | 透明導電膜及びその製造方法 |
-
1987
- 1987-02-20 JP JP3884187A patent/JPS63205609A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63141901U (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-19 | ||
| JPH01310302A (ja) * | 1988-06-09 | 1989-12-14 | Nitto Denko Corp | 分光フイルター |
| JP2001523358A (ja) * | 1998-03-03 | 2001-11-20 | サン−ゴバン ビトラージュ | 熱放射線を反射する積層体を具備した透明基材 |
| WO2014021325A1 (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 株式会社京都薄膜応用技術研究所 | 透明導電膜及びその製造方法 |
| JP2014028986A (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-13 | Soichi Ogawa | 透明導電膜及びその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4861669A (en) | Sputtered titanium oxynitride films | |
| US6333084B1 (en) | Double-sided reflector films | |
| US5563734A (en) | Durable low-emissivity solar control thin film coating | |
| US4900633A (en) | High performance multilayer coatings | |
| EP0456487A2 (en) | Interference filters | |
| JPH02160641A (ja) | 熱線反射ガラス | |
| JPS62148344A (ja) | 任意に１つ以上の薄膜金属層で被覆されたガラス基板に堆積される複合有機鉱物化合物フイルム | |
| EP1380553A1 (en) | Glazing panel | |
| CN88101654A (zh) | 氮氧钛喷镀膜 | |
| JPH01273001A (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 | |
| JPS63205609A (ja) | 熱線反射膜 | |
| JPS63238260A (ja) | 熱線反射膜の形成方法 | |
| CN1030101A (zh) | 低反射率赤褐色涂层 | |
| JPH06263486A (ja) | 熱線遮蔽ガラス | |
| JP2007533856A5 (ja) | ||
| JPH01279202A (ja) | 反射体 | |
| CN118619560A (zh) | 隐私镀膜玻璃及制备方法 | |
| CN1117175C (zh) | 一种镀制可热处理的仿低辐射膜玻璃的方法 | |
| JP2811885B2 (ja) | 熱線遮蔽ガラス | |
| JPH02102036A (ja) | 光学膜を被覆した物品 | |
| JPH01299028A (ja) | 熱線反射膜 | |
| JPH0764598B2 (ja) | 赤外線遮断ガラス | |
| JPS61124902A (ja) | 熱線反射膜の形成方法 | |
| JP3266625B2 (ja) | 紫外線遮蔽フィルムの製造方法 | |
| US20240240305A1 (en) | Composite film manufacturing method and organic/inorganic hybrid film manufacturing method |