JPS6321161B2 - - Google Patents
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- JPS6321161B2 JPS6321161B2 JP15205877A JP15205877A JPS6321161B2 JP S6321161 B2 JPS6321161 B2 JP S6321161B2 JP 15205877 A JP15205877 A JP 15205877A JP 15205877 A JP15205877 A JP 15205877A JP S6321161 B2 JPS6321161 B2 JP S6321161B2
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- Japan
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- photosensitive
- shape
- photosensitive layer
- etching
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Landscapes
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は写真用カメラやビデオカメラ等の焦点
板に使用される拡散板の製造方法に関し、特に所
定断面形状のフアイバープレートを利用し、所望
の拡散特性を得るようにした拡散板の製造方法に
関するものである。
板に使用される拡散板の製造方法に関し、特に所
定断面形状のフアイバープレートを利用し、所望
の拡散特性を得るようにした拡散板の製造方法に
関するものである。
(従来の技術)
従来より写真用カメラやビデオカメラ等におい
てフアインダー像を形成する拡散板には種々の表
面形状のものが提案されている。例えば単にガラ
ス板表面を砂摺りした拡散板や特公昭48−17093、
特公昭49−10265に記載されている如く、スペツ
クルパターンを感材に記録し、所定形状の拡散面
を形成した拡散板等が良く知られている。
てフアインダー像を形成する拡散板には種々の表
面形状のものが提案されている。例えば単にガラ
ス板表面を砂摺りした拡散板や特公昭48−17093、
特公昭49−10265に記載されている如く、スペツ
クルパターンを感材に記録し、所定形状の拡散面
を形成した拡散板等が良く知られている。
一般に拡散板上に形成したフアインダー像を観
察する際、フアインダー像をなるべく明るくなる
ようにするには、即ち接眼レンズ側に多くの光が
入射するようにするには拡散面の拡散特性が低下
するような表面形状で構成するのが良い。
察する際、フアインダー像をなるべく明るくなる
ようにするには、即ち接眼レンズ側に多くの光が
入射するようにするには拡散面の拡散特性が低下
するような表面形状で構成するのが良い。
しかしながら拡散特性が低下し、素通し光が多
くなると、例えば一眼レフカメラ等において拡散
板上のフアインダー像の鮮明度を観察しながら撮
影系のピント調整を行う場合には、空中像を観察
する場合に近くなる為、拡散板上のフアインダー
像の結像状態があまり変化せず、ピント調整が難
しくなる等の問題点があつた。
くなると、例えば一眼レフカメラ等において拡散
板上のフアインダー像の鮮明度を観察しながら撮
影系のピント調整を行う場合には、空中像を観察
する場合に近くなる為、拡散板上のフアインダー
像の結像状態があまり変化せず、ピント調整が難
しくなる等の問題点があつた。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は拡散板の入射光を拡散させる為の拡散
板上に形成する凹凸部の形状、及びその表面形状
を滑らかな連続模様となるようにし、所望の拡散
特性が容易に得られ、かつ該拡散板上にフアイン
ダー像を形成したとき適切なる明るさを有し、し
かも拡散面上のフアインダー像の結像状態の変化
が良好に観察できる拡散板の製造方法の提供を目
的としている。
板上に形成する凹凸部の形状、及びその表面形状
を滑らかな連続模様となるようにし、所望の拡散
特性が容易に得られ、かつ該拡散板上にフアイン
ダー像を形成したとき適切なる明るさを有し、し
かも拡散面上のフアインダー像の結像状態の変化
が良好に観察できる拡散板の製造方法の提供を目
的としている。
(問題点を解決するための手段)
本発明に係る拡散板は基板上に感光性樹脂の感
光層を形成し、該感光層を微細構造を有する所定
断面形状のフアイバープレートを利用して露光し
た後、該感光性樹脂の感光層のうちの感光部分若
しくは非感光部分のうちの一方を除去し、該基板
の感光層の除去領域をエツチングし、次いで該感
光性樹脂の感光層のうちの残りの部分を除去し、
その後該基板に形成された凹凸部表面を再度エツ
チングすることにより、該凹凸部表面形状を滑ら
かな連続模様となるようにして所望の微細凹凸形
状を得るようにしたことである。
光層を形成し、該感光層を微細構造を有する所定
断面形状のフアイバープレートを利用して露光し
た後、該感光性樹脂の感光層のうちの感光部分若
しくは非感光部分のうちの一方を除去し、該基板
の感光層の除去領域をエツチングし、次いで該感
光性樹脂の感光層のうちの残りの部分を除去し、
その後該基板に形成された凹凸部表面を再度エツ
チングすることにより、該凹凸部表面形状を滑ら
かな連続模様となるようにして所望の微細凹凸形
状を得るようにしたことである。
(実施例)
第1図A〜Eは本発明の拡散板の製造方法を示
す一実施例の概略図である。
す一実施例の概略図である。
同図Aは鉄、ニツケル等の金属、或は酸可溶性
ガラス(一般には硼酸、バリウム、アルカリを中
心としたもの)等の基材3上に感光性樹脂の感光
膜4を0.5〜1ミクロン程度回転などにより塗布
し、その上に所定の断面形状を有したフアイバー
プレート8を密着し、不図示の光源からの光束7
により露光を行なつたものである。この場合、フ
アイバープレート8の透過特性は感光膜の種類、
即ちネガタイプ及びポジタイプにより変更する必
要がある。
ガラス(一般には硼酸、バリウム、アルカリを中
心としたもの)等の基材3上に感光性樹脂の感光
膜4を0.5〜1ミクロン程度回転などにより塗布
し、その上に所定の断面形状を有したフアイバー
プレート8を密着し、不図示の光源からの光束7
により露光を行なつたものである。この場合、フ
アイバープレート8の透過特性は感光膜の種類、
即ちネガタイプ及びポジタイプにより変更する必
要がある。
一般的にフアイバープレートは芯部の方が屈折
率が高くなつており、その部分のみ露光されるの
でポジ型の感光膜が使われるが、芯部の方の屈折
率を低くすることもできるので、ネガ型の感光膜
も使用可能である。ポジ型の場合、各フアイバー
単繊維の周辺に吸収体を配置させることにより、
迷光を除去することや、迷光を増加させないため
の露光用光線に平行光成分を多くする配置も望ま
しいことである。
率が高くなつており、その部分のみ露光されるの
でポジ型の感光膜が使われるが、芯部の方の屈折
率を低くすることもできるので、ネガ型の感光膜
も使用可能である。ポジ型の場合、各フアイバー
単繊維の周辺に吸収体を配置させることにより、
迷光を除去することや、迷光を増加させないため
の露光用光線に平行光成分を多くする配置も望ま
しいことである。
又、フアイバープレートによる所定の断面形状
はフアイバー製造技術により5〜50ミクロン程度
の単繊維を面積の異なる複数の多角形や円形等に
束ねて構成し、任意形状の光の透過、不透過パタ
ーンを得ようにしている。
はフアイバー製造技術により5〜50ミクロン程度
の単繊維を面積の異なる複数の多角形や円形等に
束ねて構成し、任意形状の光の透過、不透過パタ
ーンを得ようにしている。
一般に、基材上に残すべき感光膜が網目状の方
が普通に考えられるが、その場合網目状に対して
はポジ型感光膜を、島状マスクに対してはネガ型
感光膜を組み合わせることが望ましい。例えば第
3図、第4図はポジ型感光膜によるもので、第5
図、第6図はネガ型感光膜によるものである。
が普通に考えられるが、その場合網目状に対して
はポジ型感光膜を、島状マスクに対してはネガ型
感光膜を組み合わせることが望ましい。例えば第
3図、第4図はポジ型感光膜によるもので、第5
図、第6図はネガ型感光膜によるものである。
第1図Bは基材3の表面上に露光溶解の結果、
網目状の感光膜4が残り、所定形状のパターンが
形成されている状態を示している。
網目状の感光膜4が残り、所定形状のパターンが
形成されている状態を示している。
網目の巾は凹凸形状により任意に選択されるべ
きものであり、目の解像力(アイピースを使用し
た時はその倍率を考慮した解像力)等を考慮する
と10ミクロン以下が望ましい。勿論、電子線及び
X線等の線源による露光の場所は、波長以下のオ
ーダーまで狭くすることは可能ではあるが、これ
はあくまでも目的に応じて選択されるべきもので
通常は可視光域で充分である。
きものであり、目の解像力(アイピースを使用し
た時はその倍率を考慮した解像力)等を考慮する
と10ミクロン以下が望ましい。勿論、電子線及び
X線等の線源による露光の場所は、波長以下のオ
ーダーまで狭くすることは可能ではあるが、これ
はあくまでも目的に応じて選択されるべきもので
通常は可視光域で充分である。
第1図Cは第1図Bよりなる基材3を硝酸等の
処理液でエツチングした断面を示す。サイドまで
エツチングされる位進行させるか、軽い凹凸面の
みに止めるかは、最後の焦点板の性質により任意
選択することができる。又、エツチングしない面
は保護膜9により保護し、処理液と接することを
防止することができる。
処理液でエツチングした断面を示す。サイドまで
エツチングされる位進行させるか、軽い凹凸面の
みに止めるかは、最後の焦点板の性質により任意
選択することができる。又、エツチングしない面
は保護膜9により保護し、処理液と接することを
防止することができる。
第1図Dは第1図Cによりエツチングされた基
材3の表面にある感光膜4を剥離剤により除去す
るか若しくは機械的に除去した断面を示す。この
場合、感光膜の付着していた個所は平面を有すた
め透過光量が多くなり明るい焦点板となる反面、
空中像に近い状態のフアインダー像を眺めること
になり、フアインダー像の結像状態の変化を良好
に観察するのが難しくなり、又、フアインダー像
の画面中心と周辺では明暗に急激な差を生ずると
いう欠点を持つている。
材3の表面にある感光膜4を剥離剤により除去す
るか若しくは機械的に除去した断面を示す。この
場合、感光膜の付着していた個所は平面を有すた
め透過光量が多くなり明るい焦点板となる反面、
空中像に近い状態のフアインダー像を眺めること
になり、フアインダー像の結像状態の変化を良好
に観察するのが難しくなり、又、フアインダー像
の画面中心と周辺では明暗に急激な差を生ずると
いう欠点を持つている。
この為、本実施例では感光膜除去後、その面を
軽くエツチングすることにより、第1図Eのよう
に凹凸部の表面形状を滑らかにし、上記の欠点を
減少せしめた焦点板及び焦点板型をつくつてい
る。
軽くエツチングすることにより、第1図Eのよう
に凹凸部の表面形状を滑らかにし、上記の欠点を
減少せしめた焦点板及び焦点板型をつくつてい
る。
第2図は第1図に示す方法で製造した拡散板1
の説明図である。同図においては表面形状が微細
レンズ形状となつたレンズの曲率を制御形成する
ことにより、制限された角度α内のみに入射光が
散乱され、射出させることができる状態を示して
いる。
の説明図である。同図においては表面形状が微細
レンズ形状となつたレンズの曲率を制御形成する
ことにより、制限された角度α内のみに入射光が
散乱され、射出させることができる状態を示して
いる。
第3図は均一な形状、寸法を有し規則的に配列
されたポジ型の感光膜4のついた基材3をエツチ
ングしたのを示した模式図であり、表面の感光膜
4を除去し、軽くエツチングし凹凸を滑らかにし
た模式図を第4図に示す。同様に第5図は均一な
形状寸法を有し、規則的に配列されたネガ型の感
光膜4のついた基材3をエツチングしたのを示し
た模式図であり、表面の感光膜4を除去し、軽く
エツチングし凹凸を滑らかにした模式図を第6図
に示す。
されたポジ型の感光膜4のついた基材3をエツチ
ングしたのを示した模式図であり、表面の感光膜
4を除去し、軽くエツチングし凹凸を滑らかにし
た模式図を第4図に示す。同様に第5図は均一な
形状寸法を有し、規則的に配列されたネガ型の感
光膜4のついた基材3をエツチングしたのを示し
た模式図であり、表面の感光膜4を除去し、軽く
エツチングし凹凸を滑らかにした模式図を第6図
に示す。
(発明の効果)
本発明によれば基板面上に所定形状のパターン
を焼付ける際、微細構造のパターンの作成が容易
な所定の断面形状のフアイバープレートを使用す
ることにより、任意形状の微細構造のパターン
(凹凸部)が容易に得られ、所望の拡散特性を有
した拡散板を容易に得ることができる。
を焼付ける際、微細構造のパターンの作成が容易
な所定の断面形状のフアイバープレートを使用す
ることにより、任意形状の微細構造のパターン
(凹凸部)が容易に得られ、所望の拡散特性を有
した拡散板を容易に得ることができる。
又、本発明では基板面上に所定形状の凹凸部を
形成した後、再度エツチングすることにより、該
凹凸部表面を滑らかな連続模様とし、これにより
全体的に適切なる明るさを有し、しかもフアイン
ダー像を形成したとき、結像状態によるフアイン
ダー像の変化を良好に観察することができる拡散
板を得ることができる。
形成した後、再度エツチングすることにより、該
凹凸部表面を滑らかな連続模様とし、これにより
全体的に適切なる明るさを有し、しかもフアイン
ダー像を形成したとき、結像状態によるフアイン
ダー像の変化を良好に観察することができる拡散
板を得ることができる。
第1図A〜Eは本発明の拡散板の作製方法を説
明する為の概略図、第2図は本発明の拡散板の拡
散特性を示す説明図、第3図は網状に光感層を残
し、エツチングをした状態を示す図、第4図は第
3図の残留層を除去した後更にエツチングして得
られた拡散板を示す図、第5図は島状に光感層を
残し、エツチングした状態を示す図、第6図は第
5図の残留層を除去した後更にエツチングして得
られた拡散板を示す図である。 図中、1は拡散板、2は光束、3は基材、4は
感光膜、7は光束、8はフアイバープレート、9
は保護膜である。
明する為の概略図、第2図は本発明の拡散板の拡
散特性を示す説明図、第3図は網状に光感層を残
し、エツチングをした状態を示す図、第4図は第
3図の残留層を除去した後更にエツチングして得
られた拡散板を示す図、第5図は島状に光感層を
残し、エツチングした状態を示す図、第6図は第
5図の残留層を除去した後更にエツチングして得
られた拡散板を示す図である。 図中、1は拡散板、2は光束、3は基材、4は
感光膜、7は光束、8はフアイバープレート、9
は保護膜である。
Claims (1)
- 1 基板上に感光性樹脂の感光層を形成し、該感
光層を微細構造を有する所定断面形状のフアイバ
ープレートを利用して露光した後、該感光性樹脂
の感光層のうちの感光部分若しくは非感光部分の
うちの一方を除去し、該基板の感光層の除去領域
をエツチングし、次いで該感光性樹脂の感光層の
うちの残りの部分を除去し、その後該基板に形成
された凹凸部表面を再度エツチングすることによ
り、該凹凸部表面形状を滑らかな連続模様となる
ようにして所望の徴細凹凸形状を得るようにした
ことを特徴とする拡散板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15205877A JPS5483846A (en) | 1977-12-16 | 1977-12-16 | Diffusing plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15205877A JPS5483846A (en) | 1977-12-16 | 1977-12-16 | Diffusing plate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5483846A JPS5483846A (en) | 1979-07-04 |
| JPS6321161B2 true JPS6321161B2 (ja) | 1988-05-06 |
Family
ID=15532121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15205877A Granted JPS5483846A (en) | 1977-12-16 | 1977-12-16 | Diffusing plate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5483846A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57148728A (en) * | 1981-03-11 | 1982-09-14 | Canon Inc | Diffusing plate |
| JPS58207032A (ja) * | 1982-05-27 | 1983-12-02 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 焦点板 |
| US5119235A (en) * | 1989-12-21 | 1992-06-02 | Nikon Corporation | Focusing screen and method of manufacturing same |
| EP1218777A4 (en) * | 2000-07-31 | 2005-12-28 | Rochester Photonics Corp | MICROLINE MATRIX WITH HIGH FOCUSING EFFICIENCY |
| US7092165B2 (en) | 2000-07-31 | 2006-08-15 | Corning Incorporated | Microlens arrays having high focusing efficiency |
| EP1305656A4 (en) | 2000-07-31 | 2006-03-08 | Rochester Photonics Corp | STRUCTURED UMBRELLAS FOR REGULATED DIFFUSION OF LIGHT |
| US6835535B2 (en) | 2000-07-31 | 2004-12-28 | Corning Incorporated | Microlens arrays having high focusing efficiency |
| JP4633369B2 (ja) * | 2004-02-03 | 2011-02-16 | オリンパス株式会社 | 拡散板及びこの拡散板を備える光学装置 |
| JP5380832B2 (ja) * | 2006-12-27 | 2014-01-08 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体の製造方法 |
| JP5716507B2 (ja) * | 2011-04-12 | 2015-05-13 | 大日本印刷株式会社 | 面光源装置、及び画像表示装置 |
| JP5850312B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2016-02-03 | 大日本印刷株式会社 | 光学シートおよび画像表示装置 |
-
1977
- 1977-12-16 JP JP15205877A patent/JPS5483846A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5483846A (en) | 1979-07-04 |
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