JPS6321695B2 - - Google Patents
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- JPS6321695B2 JPS6321695B2 JP55168717A JP16871780A JPS6321695B2 JP S6321695 B2 JPS6321695 B2 JP S6321695B2 JP 55168717 A JP55168717 A JP 55168717A JP 16871780 A JP16871780 A JP 16871780A JP S6321695 B2 JPS6321695 B2 JP S6321695B2
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- ethylenically unsaturated
- electron beam
- group
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、基材との接着性に優れた電子線硬化
性組成物に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electron beam curable composition that has excellent adhesion to a substrate.
近年、電子線照射装置の普及とともに、数多く
の電子線硬化性組成物が提案されている。これら
組成物は、一般に基材上に塗布したのち、電子線
照射により硬化させることにより、塗料、接着
剤、インキ等の用途に使用される。なかでもエチ
レン性不飽和結合を有するモノマーを主成分とす
る組成物は、反応性が速く、硬化塗膜の強度が任
意に調整できる点で優れ、また厚い塗膜を効率良
く硬化させるのに有利である。しかしながら、こ
のようなエチレン性不飽和モノマーの連鎖重合に
際しては、顕著な体積収縮が起ることが公知であ
り、その為硬化時に塗膜の基材への接着不良をき
たす欠点がある。また照射時に酸素が微量でも存
在すると著しく重合が阻害されるという欠点もあ
る。 In recent years, with the spread of electron beam irradiation equipment, many electron beam curable compositions have been proposed. These compositions are generally applied to a substrate and then cured by electron beam irradiation to be used in applications such as paints, adhesives, and inks. Among these, compositions whose main component is a monomer having ethylenically unsaturated bonds are excellent in that they have fast reactivity and can adjust the strength of the cured coating film, and are also advantageous in efficiently curing thick coating films. It is. However, chain polymerization of such ethylenically unsaturated monomers is known to cause significant volume shrinkage, which has the drawback of causing poor adhesion of the coating film to the substrate upon curing. Another drawback is that the presence of even a trace amount of oxygen during irradiation significantly inhibits polymerization.
上述した欠点を改良するために種々の組成物が
提案されているが、必ずしも満足なものとは云い
難い。このような組成物の一つとして、チオール
化合物とエチレン性不飽和化合物からなる系が知
られている。この系は、酸素の影響を受けない点
で優れているが基材との接着性は不充分である。 Although various compositions have been proposed to improve the above-mentioned drawbacks, they are not necessarily satisfactory. As one such composition, a system consisting of a thiol compound and an ethylenically unsaturated compound is known. This system is excellent in that it is not affected by oxygen, but its adhesion to the substrate is insufficient.
本発明は、チオール化合物とエチレン性不飽和
化合物の組合せ系の持つ、硬化速度が速く、厚い
塗膜が硬化可能であるという利点を維持しつつ、
その欠点である基材との接着性を改善した電子線
硬化性組成物を提供することを目的とする。 The present invention maintains the advantages of a combination system of a thiol compound and an ethylenically unsaturated compound, such as fast curing speed and the ability to cure thick coatings.
The object of the present invention is to provide an electron beam curable composition that has improved adhesion to a substrate, which is a drawback of the composition.
本発明者らの研究によれば、チオール化合物と
エチレン性不飽和モノマーの組合せ系に、―SH
基またはエチレン性不飽和結合と加水分解性基を
有するオルガノシランを添加することが、上述の
達成に極めて有効であることが見出された。すな
わち、本発明の電子線硬化性組成物は、エチレン
性不飽和モノマーと、―SH基をもつチオール化
合物と、―SH基又はエチレン性不飽和結合を有
するオルガノシランとを含有することを特徴とす
るものである。 According to the research of the present inventors, in the combination system of thiol compound and ethylenically unsaturated monomer, -SH
It has been found that the addition of organosilanes having groups or ethylenically unsaturated bonds and hydrolyzable groups is very effective in achieving the above. That is, the electron beam curable composition of the present invention is characterized by containing an ethylenically unsaturated monomer, a thiol compound having an -SH group, and an organosilane having an -SH group or an ethylenically unsaturated bond. It is something to do.
以下、本発明を更に詳細に説明する。以下の記
載において、「%」および「部」は特に断らない
限り、重量基準とする。 The present invention will be explained in more detail below. In the following description, "%" and "part" are based on weight unless otherwise specified.
本発明のエチレン性不飽和化合物としては、ラ
ジカル重合性を有する任意の化合物が用いられ
る。具体的には、たとえばポリエステルアクリレ
ート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレ
ートなどアクリロイル基を有するアクリレートオ
リゴマやポリブタジエンオリゴマー、シクロペン
タジエンオリゴマーなどのジエン系オリゴマーや
不飽和エステル類などを単独で又は2種以上併用
して使用することができる。 As the ethylenically unsaturated compound of the present invention, any compound having radical polymerizability can be used. Specifically, for example, acrylate oligomers having acryloyl groups such as polyester acrylate, urethane acrylate, and epoxy acrylate, diene oligomers such as polybutadiene oligomers and cyclopentadiene oligomers, unsaturated esters, etc. are used alone or in combination of two or more. can do.
また本発明のチオール化合物としては、ペンタ
エリスリトールテトラキスチオグリコレート、ト
リメチロールエタントリス―β―メルカプトプロ
ピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス―
3―メルカプトプロピルエーテル等の三ないし四
官能体をはじめとする二以上の―SH基を有する
化合物が用いられる。 The thiol compounds of the present invention include pentaerythritol tetrakis thioglycolate, trimethylolethanetris-β-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis-
Compounds having two or more -SH groups, including tri- or tetrafunctional compounds such as 3-mercaptopropyl ether, are used.
これらチオール化合物は、好ましくは、エチレ
ン性不飽和化合物100部に対して、1〜100部の割
合で使用される。 These thiol compounds are preferably used in an amount of 1 to 100 parts per 100 parts of the ethylenically unsaturated compound.
オルガノシランとしては、―SH基又はエチレ
ン性不飽和結合に加えてSi原子と結合したハロゲ
ン、炭素数1〜3のアルコキシ基又はアシロキシ
基などの加水分解性基を1個以上有するものが用
いられる。具体的には、例えば、γ―アクリロイ
ルプロピルトリメトキシシラン、γ―アクリロイ
ルプロピルメチルジメトキシシラン、γ―アクリ
ロイルプロピルハイドロジエンジメトキシシラ
ン、γ―アクリロイルプロピルジメチルメトキシ
シラン、γ―アクリロイルプロピルジハイドロジ
エンメトキシシラン、γ―アクリロイルプロピル
トリクロロシラン、γ―アクリロイルプロピルメ
チルジクロロシラン、γ―アクリロイルプロピル
ハイドロジエンジクロロシラン、γ―アクリロイ
ルプロピルジメチルクロロシラン、γ―アクリロ
イルプロピルジハイドロジエンクロロシラン、γ
―アクリロイルプロピルトリアシロキシシラン、
γ―アクリロイルプロピルメチルジアシロキシシ
ラン、γ―アクリロイルプロピルハイドロジエン
ジアシロキシシラン、γ―アクリロイルプロピル
ジメチルアシロキシシラン、γ―アクリロイルプ
ロピルジハイドロジエンアシロキシシラン等;な
らびに上記オルガノシランのアクリロイル基をメ
タクリロイル基またはメルカプト基で置換したも
のあるいはプロピレン基をブチレン基あるいはエ
チレン基で置換したもの等が用いられる。 As the organosilane, those having one or more hydrolyzable groups such as a halogen bonded to a Si atom, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, or an acyloxy group in addition to an -SH group or an ethylenically unsaturated bond are used. . Specifically, for example, γ-acryloylpropyltrimethoxysilane, γ-acryloylpropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloylpropylhydrodiene dimethoxysilane, γ-acryloylpropyldimethylmethoxysilane, γ-acryloylpropyldihydrodienemethoxysilane, γ-Acryloylpropyltrichlorosilane, γ-Acryloylpropylmethyldichlorosilane, γ-Acryloylpropylhydrodiene dichlorosilane, γ-Acryloylpropyldimethylchlorosilane, γ-Acryloylpropyldihydrodienechlorosilane, γ
-Acryloylpropyltriacyloxysilane,
γ-acryloylpropylmethyl diacyloxysilane, γ-acryloylpropylhydrodiene diacyloxysilane, γ-acryloylpropyldimethylacyloxysilane, γ-acryloylpropyldihydrodiene acyloxysilane, etc.; Alternatively, those substituted with a mercapto group or those in which a propylene group is substituted with a butylene group or an ethylene group are used.
上記オルガノシランは、Si原子に直結した加水
分解性基が、基材表面の水酸基あるいは吸着水分
と反応してシラノール結合を形成し易く、基材と
強固に接着する性質を有する。一方上記オルガノ
シランに含まれるエチレン性不飽和結合または―
SH基は、前述したエチレン性不飽和化合物ある
いはチオール化合物と、電子線照射下に
RS・+CH2=CHCH2R′→RSCH2C〓HCH2R′、
RSCH2C〓HCH2R′+RSH
→RSCH2CH2CH2R′+RS・
の反応で結合するか、あるいは生成したラジカル
による連鎖重合に関与して、オルガノシラン、エ
チレン性不飽和化合物およびチオール化合物間で
一種の共重合体を形成する。このため前述したシ
ラノール結合を媒介として、組成物は硬化後に全
体として強固に基材に結合することになる。 The above-mentioned organosilane has the property that the hydrolyzable group directly bonded to the Si atom easily reacts with the hydroxyl group or adsorbed moisture on the surface of the base material to form a silanol bond, and thus firmly adheres to the base material. On the other hand, the ethylenically unsaturated bonds contained in the organosilane or -
The SH group is formed with the aforementioned ethylenically unsaturated compound or thiol compound under electron beam irradiation by forming RS・+CH 2 =CHCH 2 R′→RSCH 2 C〓HCH 2 R′, RSCH 2 C〓HCH 2 R′+RSH
→RSCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 R'+RS・ Forms a type of copolymer between organosilane, ethylenically unsaturated compound, and thiol compound by bonding through the reaction or by participating in chain polymerization by the generated radicals. do. For this reason, the composition as a whole is firmly bonded to the substrate after curing via the aforementioned silanol bonds.
このようなオルガノシランは、エチレン性不飽
和化合物100部に対して0.1〜10部の割合で添加す
ることが好ましい。0.1部未満では、基材との接
着向上効果は極めて小さくなりまた10部を超えて
添加すると、接着剤層がもろくなり層間剥離が生
じ易くなる。 Such organosilane is preferably added in a proportion of 0.1 to 10 parts per 100 parts of the ethylenically unsaturated compound. If it is less than 0.1 part, the effect of improving adhesion to the base material will be extremely small, and if it is added in excess of 10 parts, the adhesive layer will become brittle and delamination will easily occur.
本発明の組成物は、上述した三種の成分を主成
分とするものであるが、上記エチレン性不飽和化
合物100部に対して、100部までの任意成分を含め
ることができる。 The composition of the present invention has the above-mentioned three components as main components, but can contain up to 100 parts of optional components per 100 parts of the ethylenically unsaturated compound.
このような任意成分としては、たとえば、アマ
ニ油、エノ油、キリ油等の乾性油;フエノール樹
脂、ポリアミド樹脂、天然ゴム誘導体、セルロー
ス誘導体、ビニル系樹脂、ポリオレフイン、石油
樹脂、不飽和アルキド樹脂等の天然又は合成樹
脂;染料又は顔料からなる着色剤;界面活性剤、
可塑剤、無機質充填剤、保存安定性を与えるため
の重合禁止剤などがある。 Such optional components include, for example, drying oils such as linseed oil, eno oil, and tung oil; phenolic resins, polyamide resins, natural rubber derivatives, cellulose derivatives, vinyl resins, polyolefins, petroleum resins, unsaturated alkyd resins, etc. natural or synthetic resins; colorants consisting of dyes or pigments; surfactants,
These include plasticizers, inorganic fillers, and polymerization inhibitors to provide storage stability.
本発明の組成物は、上述した各成物を、3本ロ
ール、アトライター、ボールミル、サンドグライ
ンダー等の混練機を用いて常法に従い混練して、
通常0.01〜1000ポイズ程度の粘度に調製される。 The composition of the present invention is prepared by kneading the above-mentioned compositions in a conventional manner using a kneading machine such as a three-roll mill, attritor, ball mill, or sand grinder.
It is usually adjusted to a viscosity of about 0.01 to 1000 poise.
本発明の組成物は、上述したように、オルガノ
シランの存在のために基材との接着性が優れるこ
とを特徴とする。このため、使用する基材として
は、広範囲のものが使用できるが、なかでも紙、
プラスチツクのフイルムシートないしブロツク、
各種無機材料、木質板などに塗布するのに適して
いる。 As mentioned above, the composition of the present invention is characterized by excellent adhesion to a substrate due to the presence of organosilane. For this reason, a wide range of base materials can be used, including paper,
plastic film sheet or block,
Suitable for coating various inorganic materials, wood boards, etc.
本発明の組成物は、上述したような基材に、グ
ラビアコート法、ロールコート法、フレキソリバ
ース法、カレンダー法、スプレーコート法等の任
意の方法により、所望の塗布厚みで塗布し、必要
なら別基材を重ね(たとえば接着用途の場合)た
のち、電子線を照射して硬化させる。 The composition of the present invention is applied to the above-mentioned base material by any method such as gravure coating method, roll coating method, flexo reverse method, calendar method, spray coating method, etc. to a desired coating thickness, and if necessary, After overlapping another base material (for example, in the case of adhesive use), it is irradiated with an electron beam and cured.
硬化に使用する電子線としては、コツクロフト
ワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶
縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高
周波型等の各種電子線加速機から放出され、50〜
1000KeV、好ましくは100〜300KeVの範囲のエ
ネルギーを持つ電子線が用いられる。電子線を塗
膜に照射するためには、スポツトビームを高速走
査するかあるいはリニアフイラメントから連続し
たカーテン状のビームを照射する方法が採られ
る。通常は被照射物を連続的に移動することによ
り、面照射が行われる。照射線量としてはたとえ
ば、0.1〜100Mradの範囲が用いられる。 The electron beam used for curing is emitted from various electron beam accelerators such as Kotscroft-Walton type, Van de Graaff type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, Dynamitron type, and high frequency type.
An electron beam with an energy in the range of 1000 KeV, preferably 100-300 KeV is used. In order to irradiate a coating film with an electron beam, a method is adopted in which a spot beam is scanned at high speed or a continuous curtain-shaped beam is irradiated from a linear filament. Generally, surface irradiation is performed by continuously moving the object to be irradiated. As the irradiation dose, for example, a range of 0.1 to 100 Mrad is used.
上述したように、本発明によれば、エチレン性
不飽和化合物およびチオールに加えて、―SH基
又は不飽和結合を有するオルガノシランを含むこ
とにより、優れた電子線硬化性と基材に対する接
着性を兼ね備えた電子線硬化性組成物が与えられ
る。またこの組成物は、従来の硬化性組成物と比
べて以下のような特徴も有する。 As described above, according to the present invention, in addition to an ethylenically unsaturated compound and a thiol, an organosilane having a -SH group or an unsaturated bond is included, thereby providing excellent electron beam curability and adhesion to a substrate. An electron beam curable composition having the following properties is provided. This composition also has the following characteristics compared to conventional curable compositions.
イ 電子線硬化であるため、従来の紫外線硬化組
成物にみられる増感剤による着色が起らない。(b) Because it is cured with electron beam, coloration caused by sensitizers that occurs in conventional ultraviolet curable compositions does not occur.
ロ 硬化速度が速く、従来の過酸化物触媒を使用
した組成物のように静置放置が不要である。(b) The curing speed is fast, and there is no need to leave it standing unlike conventional compositions using peroxide catalysts.
ハ 電子線は浸透力が強く、厚い塗膜が硬化可能
であると同時に、顔料等の添加剤の影響も無く
硬化する。この性質は紫外線硬化塗料では得ら
れないものである。C. Electron beams have strong penetrating power and can cure thick coatings, and at the same time, they cure without being affected by additives such as pigments. This property cannot be obtained with UV-curable paints.
以下、本発明を実施例により、より具体的に説
明する。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
実施例 1
マレイン酸120部とn―ブチルグリシジルエー
テル130部との反応部100部と、ペンタエリスリト
ールテトラチオグリコレート5部と、γ―メルカ
プトプロピルトリメトキシシラン0.05部を混合し
た。この接着剤をコロナ処理を行つた厚さ12μの
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイルムに
グラビアロールにより2.5g/m2の割合で塗布し
この上から同様にコロナ処理を行つた厚さ50μの
ポリエチレンフイルムを貼合せた。この貼合せフ
イルムを低エネルギー電子加速器(Energy
Science社製、エレクトロカーテンCB20d50/30)
により10Mradの線量で接着剤を硬化させた。得
られた積層フイルムの接着強度(引張り速度300
mm/min、引張り角度T字型)は800g/15mmで
あつた。Example 1 100 parts of a reaction mixture of 120 parts of maleic acid and 130 parts of n-butyl glycidyl ether, 5 parts of pentaerythritol tetrathioglycolate, and 0.05 part of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane were mixed. This adhesive was applied at a rate of 2.5 g/m 2 using a gravure roll onto a 12 μ thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film that had been corona treated, and then a 50 μ thick polyethylene film that had been similarly corona treated was applied on top of this. Pasted. This laminated film was transferred to a low-energy electron accelerator (Energy).
Manufactured by Science, Electro Curtain CB20d50/30)
The adhesive was cured with a dose of 10 Mrad. Adhesive strength of the obtained laminated film (pulling speed 300
mm/min, tension angle T-shaped) was 800 g/15 mm.
実施例 2
ポリブタジエン(B―1000、日本曹達(株)製)
100部とトリメチロールエタン・トリス・βメル
カプトプロピオネート10部とγ―アクリロイルプ
ロピルトリメトキシシラン0.05とを混合した。こ
の接着剤をコロナ処理を行つた厚さ12μのポリエ
チレンテレフタレートフイルムにワイヤーバーよ
り3.0g/m2の割合で塗布し、この上からコロナ
処理を行つた厚さ30μの延伸ポリプロピレンフイ
ルムを貼合せた。この貼合せフイルムを実施例1
と同様に電子線を照射し、接着強度も同様のもの
を得た。Example 2 Polybutadiene (B-1000, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)
100 parts of trimethylolethane tris β-mercaptopropionate and 0.05 parts of γ-acryloylpropyltrimethoxysilane were mixed. This adhesive was applied to a corona-treated polyethylene terephthalate film with a thickness of 12 μm at a rate of 3.0 g/m 2 using a wire bar, and a corona-treated stretched polypropylene film with a thickness of 30 μm was laminated on top of this. . This laminated film was prepared in Example 1.
Electron beam irradiation was performed in the same manner as above, and the same adhesive strength was obtained.
Claims (1)
SH基をもつチオール化合物と、―SH基又はエチ
レン性不飽和結合と加水分解性基を有するオルガ
ノシランとを含有することを特徴とする、電子線
硬化性組成物。1 Ethylenically unsaturated compound and two or more -
An electron beam curable composition comprising a thiol compound having an SH group, and an organosilane having a --SH group or an ethylenically unsaturated bond and a hydrolyzable group.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16871780A JPS5792024A (en) | 1980-11-29 | 1980-11-29 | Electron radiation curing composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16871780A JPS5792024A (en) | 1980-11-29 | 1980-11-29 | Electron radiation curing composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5792024A JPS5792024A (en) | 1982-06-08 |
| JPS6321695B2 true JPS6321695B2 (en) | 1988-05-09 |
Family
ID=15873132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16871780A Granted JPS5792024A (en) | 1980-11-29 | 1980-11-29 | Electron radiation curing composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5792024A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010103944A1 (en) * | 2009-03-13 | 2010-09-16 | 堺化学工業株式会社 | Resin composition for formation of transparent coating layer, and laminate |
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| JP2001257219A (en) * | 2000-03-13 | 2001-09-21 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Die attach paste and semiconductor device |
| KR100925852B1 (en) | 2007-12-27 | 2009-11-06 | 한국화학연구원 | Organic-Inorganic Hybrid Coating Compositions Containing Bifunctional Acrylate Monomers |
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Family Cites Families (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPS54142299A (en) * | 1978-04-28 | 1979-11-06 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Photo-setting composition |
| JPS5515974A (en) * | 1978-07-21 | 1980-02-04 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Production of optical glass |
-
1980
- 1980-11-29 JP JP16871780A patent/JPS5792024A/en active Granted
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| WO2010103944A1 (en) * | 2009-03-13 | 2010-09-16 | 堺化学工業株式会社 | Resin composition for formation of transparent coating layer, and laminate |
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| JPS5792024A (en) | 1982-06-08 |
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