JPS63222234A - ひずみ・応力測定膜 - Google Patents
ひずみ・応力測定膜Info
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- JPS63222234A JPS63222234A JP5601087A JP5601087A JPS63222234A JP S63222234 A JPS63222234 A JP S63222234A JP 5601087 A JP5601087 A JP 5601087A JP 5601087 A JP5601087 A JP 5601087A JP S63222234 A JPS63222234 A JP S63222234A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strain
- measured
- cracks
- stress
- ceramic membrane
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- Pending
Links
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 7
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- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract 1
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はひずみ・応力測定膜に関する。
皮膜の割れにより被測定物に生ずるひずみ。
応力を測定するものとしては「応力塗膜」と呼ばれる塗
料が知られている。
料が知られている。
この種の応力塗膜は非常に脆いので、このところで、こ
の割れの間隔又は単位長さ当りの本数は被測定物に加え
られたひずみ量に依存しているので、この本数を数える
ことにより、被測定物に生じたひずみを知ることができ
、また被測定物の応力−ひすみ特性が既知の場合には、
被測定物に生じた応力を知ることができるのである。
の割れの間隔又は単位長さ当りの本数は被測定物に加え
られたひずみ量に依存しているので、この本数を数える
ことにより、被測定物に生じたひずみを知ることができ
、また被測定物の応力−ひすみ特性が既知の場合には、
被測定物に生じた応力を知ることができるのである。
しかしながら、この塗料膜は温度０℃〜１００℃の範囲
しか用いることができず、高温となる被測定物例えば、
ボイラー、タービン等の部材には適用できないという欠
点がある。
しか用いることができず、高温となる被測定物例えば、
ボイラー、タービン等の部材には適用できないという欠
点がある。
本ｆｌ Ｂｇはこのような事情に鑑みて提案されたもの
で、温度、湿度の広い範囲にわたって使用することので
きるひずみ・応力測定膜を提供することを目的とする。
で、温度、湿度の広い範囲にわたって使用することので
きるひずみ・応力測定膜を提供することを目的とする。
そのために本￥閉は、被測定物の表面に真空蒸着法によ
り形成され、ひずみによって発生する割れを計測するこ
とにより応力・ひずみを求めることのできるセラミック
ス薄膜よりなることを特徴とする。
り形成され、ひずみによって発生する割れを計測するこ
とにより応力・ひずみを求めることのできるセラミック
ス薄膜よりなることを特徴とする。
このような構成によれば、セラミックス薄膜は非常に脆
（、「応力塗膜」と同様被測定物にひずみが生じた場合
には、そのひずみ量に応じた割れがひずみ方向に垂直に
発生する。
（、「応力塗膜」と同様被測定物にひずみが生じた場合
には、そのひずみ量に応じた割れがひずみ方向に垂直に
発生する。
本発明の一実施例を図面について説明すると、第１囚は
被測定物にセラミックス薄膜をコーティングする要領を
示す平面図、第２図は第１図の要領でコーティングされ
た被測定物が引張力を受けている状態を示す平面図、第
３図は第２図のＩＩＩ部を示す部分拡大図、第４図は第
３図の割れの数とひずみとの関係を示す線図である。
被測定物にセラミックス薄膜をコーティングする要領を
示す平面図、第２図は第１図の要領でコーティングされ
た被測定物が引張力を受けている状態を示す平面図、第
３図は第２図のＩＩＩ部を示す部分拡大図、第４図は第
３図の割れの数とひずみとの関係を示す線図である。
まず、第１図に示すように、被測定物１上にセラミック
ス薄膜（ＴｊＮ、 Ｔｉｃ等）をイオンブレーティング
等の装置７によりコーティングする。
ス薄膜（ＴｊＮ、 Ｔｉｃ等）をイオンブレーティング
等の装置７によりコーティングする。
表面にセラミックス薄膜２がコーティングされた被測定
物１に、第２図に示すように、外力が作用し、ひずみを
生ずると、セラミックス薄膜２の表面性状が変化する。
物１に、第２図に示すように、外力が作用し、ひずみを
生ずると、セラミックス薄膜２の表面性状が変化する。
これを拡大鏡で数十倍〜１００倍程度に拡大して観察す
ると、第３図に示すように、ひずみ方向に垂直に多数の
割れ３が見られる。
ると、第３図に示すように、ひずみ方向に垂直に多数の
割れ３が見られる。
この割れの間隔または単位長さ当りの本数は、第４図に
示すように、被測定物１に生じたひずみと相関を持って
いるので、この割れの間隔又は単位長さ当りの本数を数
えることにより、被測定物１に生じたひずみ量を推定す
ることができる。
示すように、被測定物１に生じたひずみと相関を持って
いるので、この割れの間隔又は単位長さ当りの本数を数
えることにより、被測定物１に生じたひずみ量を推定す
ることができる。
また、割れはひずみ方向に対して垂直な方向Ｊこ生ずる
ので、被測定物１に生じたひずみの方向も推定すること
ができる。
ので、被測定物１に生じたひずみの方向も推定すること
ができる。
セラミックス薄膜は温度、湿度による影響を受は難いの
で、数百度℃までの高温及び又は１００％までの多湿の
雰囲気でも、応力・ひずみを測定することができる。
で、数百度℃までの高温及び又は１００％までの多湿の
雰囲気でも、応力・ひずみを測定することができる。
要するに本発明によれば、被測定物の表面に真空蒸着法
により形成され、ひずみ！こよって発生する割れを計測
することにより応力・ひずみを求めることのできるセラ
ミックス薄膜よりなることにより、温度、湿度の広い範
囲にわたって使用することのできるひずみｌ応力測定膜
を得るから、本発明は産業上極めて有益なものである。
により形成され、ひずみ！こよって発生する割れを計測
することにより応力・ひずみを求めることのできるセラ
ミックス薄膜よりなることにより、温度、湿度の広い範
囲にわたって使用することのできるひずみｌ応力測定膜
を得るから、本発明は産業上極めて有益なものである。
第１図は本発明の一実施例のセラミックスコーティング
の要領を示す平面図、第２図は第１図の要領でコーティ
ングされた被測定物が引張力を受けている状態を示す平
面図、第３図は第２図の■部を示す部分拡大図、第４図
は第３図の割れの数とひずみとの関係を示す線図である
。 第５図は従来の応力塗膜によるわれの発生を示す平面図
である。 １・・被測定物、２・・セラミックス薄膜、３・・割れ
、４・・被測定物に生じたひずみ量、５・・セラミック
ス薄膜に生じた割れの単位長さ当りの本数又は割れ間隔
の逆数、６・・応力塗膜、７・・イオンブレーティング
等のコーティング装置 代理人 弁理士 塚 本 正 文 第１ｖＡ 第２図 第３図 第４図 第５図 ム 手続補正書 昭和６２年ｇ月３日 １ 事件の表示 昭和６２年特許願第５６０１０ 号 ２ 発明の名称 ひずみ・応力測定膜 ３ 補正をする者 事件との関係 出願人 郵便番号 １００ 住所 東京都千代田区丸の内二丁目Ｓ番１号名称
（６２０） 三菱重工業株式会社４ 代理人 郵便番号 １６０ 住所 東京都新宿区南元町５番地３号−５補正命令
の日付 昭和６２年 ５月２６日７ 補正の内
容
の要領を示す平面図、第２図は第１図の要領でコーティ
ングされた被測定物が引張力を受けている状態を示す平
面図、第３図は第２図の■部を示す部分拡大図、第４図
は第３図の割れの数とひずみとの関係を示す線図である
。 第５図は従来の応力塗膜によるわれの発生を示す平面図
である。 １・・被測定物、２・・セラミックス薄膜、３・・割れ
、４・・被測定物に生じたひずみ量、５・・セラミック
ス薄膜に生じた割れの単位長さ当りの本数又は割れ間隔
の逆数、６・・応力塗膜、７・・イオンブレーティング
等のコーティング装置 代理人 弁理士 塚 本 正 文 第１ｖＡ 第２図 第３図 第４図 第５図 ム 手続補正書 昭和６２年ｇ月３日 １ 事件の表示 昭和６２年特許願第５６０１０ 号 ２ 発明の名称 ひずみ・応力測定膜 ３ 補正をする者 事件との関係 出願人 郵便番号 １００ 住所 東京都千代田区丸の内二丁目Ｓ番１号名称
（６２０） 三菱重工業株式会社４ 代理人 郵便番号 １６０ 住所 東京都新宿区南元町５番地３号−５補正命令
の日付 昭和６２年 ５月２６日７ 補正の内
容
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 被測定物の表面に真空蒸着法により形成さ れ、ひずみによって発生する割れを計測することにより
応力・ひずみを求めることのできるセラミックス薄膜よ
りなることを特徴とするひずみ・応力測定膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5601087A JPS63222234A (ja) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | ひずみ・応力測定膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5601087A JPS63222234A (ja) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | ひずみ・応力測定膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63222234A true JPS63222234A (ja) | 1988-09-16 |
Family
ID=13015084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5601087A Pending JPS63222234A (ja) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | ひずみ・応力測定膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63222234A (ja) |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007033050A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Shimizu Corp | 歪センサ |
| JP2012137193A (ja) * | 2012-04-23 | 2012-07-19 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 遊星ローラ式トラクションドライブ |
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| US9459661B2 (en) | 2013-06-19 | 2016-10-04 | Apple Inc. | Camouflaged openings in electronic device housings |
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| US9944554B2 (en) | 2011-09-15 | 2018-04-17 | Apple Inc. | Perforated mother sheet for partial edge chemical strengthening and method therefor |
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| US10189743B2 (en) | 2010-08-18 | 2019-01-29 | Apple Inc. | Enhanced strengthening of glass |
-
1987
- 1987-03-11 JP JP5601087A patent/JPS63222234A/ja active Pending
Cited By (51)
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