JPS63227971A - クライオポンプ装置 - Google Patents
クライオポンプ装置Info
- Publication number
- JPS63227971A JPS63227971A JP6050987A JP6050987A JPS63227971A JP S63227971 A JPS63227971 A JP S63227971A JP 6050987 A JP6050987 A JP 6050987A JP 6050987 A JP6050987 A JP 6050987A JP S63227971 A JPS63227971 A JP S63227971A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- relief valve
- vacuum chamber
- vacuum
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は半導体装置のイオン注入材等に使用する高真
空用のクライオポンプ装置に関するものである。
空用のクライオポンプ装置に関するものである。
第3図は従来のこの種クライオポンプ装置を示す断面図
である。即ち第3図において、1は真空チャンバー、2
はチャンバー1中に窒素を導入する窒素導入管、3は熱
輻射用のシールド板、4は吸気用のバッフル、5は種々
のガスを吸着する活性炭より成るチャコール部、6は極
低温をつくりだすシリンダ一部、7はシリンダ一部6を
駆動させろドライブユニット部、8は排出管、9は0リ
ング、10は排出管蓋である。ここで排出管8.0リン
グ9、排出管蓋10によってレリーフバルブを構成する
。
である。即ち第3図において、1は真空チャンバー、2
はチャンバー1中に窒素を導入する窒素導入管、3は熱
輻射用のシールド板、4は吸気用のバッフル、5は種々
のガスを吸着する活性炭より成るチャコール部、6は極
低温をつくりだすシリンダ一部、7はシリンダ一部6を
駆動させろドライブユニット部、8は排出管、9は0リ
ング、10は排出管蓋である。ここで排出管8.0リン
グ9、排出管蓋10によってレリーフバルブを構成する
。
この従来のクライオポンプ装置は真空チャンバー1内に
シールド板3で囲った極低温面を設置し、シリンダ部6
を作動させてチャンバー内の気体分子をシールド板3内
のバッフル4、チャコール部5に吸着させ、チャンバー
1内を高真空にする。
シールド板3で囲った極低温面を設置し、シリンダ部6
を作動させてチャンバー内の気体分子をシールド板3内
のバッフル4、チャコール部5に吸着させ、チャンバー
1内を高真空にする。
次にこのようにシールド板3、バッフル4、チャコール
部5等の極低温部に吸着され凝縮状態にある各種気体を
定期的に放出させ、再び吸着作用が可能な状態にするい
わゆるクライオ再生動作を行う。この作業は、第1図の
真空チャンバー1内に窒素導入管2から窒素を導入しチ
ャンバー1内を大気圧にして低温を解除する。
部5等の極低温部に吸着され凝縮状態にある各種気体を
定期的に放出させ、再び吸着作用が可能な状態にするい
わゆるクライオ再生動作を行う。この作業は、第1図の
真空チャンバー1内に窒素導入管2から窒素を導入しチ
ャンバー1内を大気圧にして低温を解除する。
このようにしてシールド板3、バッフル4、チャコール
部5に吸着された各種のガスを放出させ、レリーフバル
ブより自動的に排出させる。かくしてシールド板3、バ
ッフル4、チャコール部5が活性化され、極低温にする
ことにより再び吸着可能な状態になる。
部5に吸着された各種のガスを放出させ、レリーフバル
ブより自動的に排出させる。かくしてシールド板3、バ
ッフル4、チャコール部5が活性化され、極低温にする
ことにより再び吸着可能な状態になる。
この従来のクライオポンプ装置のレリーフバルブは、第
3図に示すように、底面に1個しかなく図示のような使
い方をすると、Oリング9にごみその他種々の異物がク
ライオ再生時窒素排出と同時に付着し、次に真空引き作
業を行う時に、付着ごみによるリークが発生し、真空が
引かなくなるという欠点があった。
3図に示すように、底面に1個しかなく図示のような使
い方をすると、Oリング9にごみその他種々の異物がク
ライオ再生時窒素排出と同時に付着し、次に真空引き作
業を行う時に、付着ごみによるリークが発生し、真空が
引かなくなるという欠点があった。
この発明はこの従来のものの欠点を除去するためになさ
れたもので、クライオ再生時のリークを防止すると共に
、レリーフバルブのM1010リング9の掃除頻度を少
なくし、常に安定稼動するクライオポンプ装置を提供し
ようとするものである。
れたもので、クライオ再生時のリークを防止すると共に
、レリーフバルブのM1010リング9の掃除頻度を少
なくし、常に安定稼動するクライオポンプ装置を提供し
ようとするものである。
この発明に係るクライオポンプ装置は、真空チャンバー
の底部から離れた位置に真空チャンバー内のガスを排出
するガス排出部のガス導入口を配設したものである。
の底部から離れた位置に真空チャンバー内のガスを排出
するガス排出部のガス導入口を配設したものである。
この発明におけるクライオポンプ装置のガス排出部のガ
ス導入口は、底部から離れた位置に配設されているので
、ガス排出部にごみ等が付着するのを防ぎ、常に安定し
た真空を保つことができる。
ス導入口は、底部から離れた位置に配設されているので
、ガス排出部にごみ等が付着するのを防ぎ、常に安定し
た真空を保つことができる。
以下第1図にもとづいてこの発明の一実施例を説明する
。即ち第1図において、11(よ真空チャンバー1の上
方部側面に形成された排出管、12は0リング、13は
排出管蓋である。
。即ち第1図において、11(よ真空チャンバー1の上
方部側面に形成された排出管、12は0リング、13は
排出管蓋である。
なおその他の構成は、第3図に示す従来のものと同様で
あるので説明を省略する。
あるので説明を省略する。
このように構成されたものでは、排出IW11、Oリン
グ12、排出管1113からなるレリーフバルブをごみ
の多い真空チャンバー1の底部からごみの少ない上方部
側面に設けなので、レリーフバルブのよごれも少なくな
り、掃除頻度も少なく安定した真空状態が得られる。
グ12、排出管1113からなるレリーフバルブをごみ
の多い真空チャンバー1の底部からごみの少ない上方部
側面に設けなので、レリーフバルブのよごれも少なくな
り、掃除頻度も少なく安定した真空状態が得られる。
第2図はこの発明の他の実施例を示す断面図で、入口部
を下方に曲げたノズル14およびメツシュ15よりなる
防塵ノズルを排出管8の入口部に配設した。このように
したものでは、レリーフバルブにおける防塵効果が良好
になる。
を下方に曲げたノズル14およびメツシュ15よりなる
防塵ノズルを排出管8の入口部に配設した。このように
したものでは、レリーフバルブにおける防塵効果が良好
になる。
上記のようにこの発明によるクライオポンプ装置は、真
空チャンバーの底部から離れた位置にガス排出部のガス
導入口を配設したもので、ガス排出部における防塵効果
が良好になり、常に安定した真空状態が得られる。
空チャンバーの底部から離れた位置にガス排出部のガス
導入口を配設したもので、ガス排出部における防塵効果
が良好になり、常に安定した真空状態が得られる。
第1図はこの発明は一実施例を示す断面図、第2図はこ
の発明の他の実施例を示す断面図、第3図は従来のこの
種クライオポンプ装置を示す断面図である。 図中、1は真空チャンバー、2は窒素導入管、3はシー
ルド板、4ばバッフル、5はチャコール部、6はシリン
ダ一部、7はドライブユニット、11は排出管、12は
0リング、13は排出管蓋である。 尚、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
の発明の他の実施例を示す断面図、第3図は従来のこの
種クライオポンプ装置を示す断面図である。 図中、1は真空チャンバー、2は窒素導入管、3はシー
ルド板、4ばバッフル、5はチャコール部、6はシリン
ダ一部、7はドライブユニット、11は排出管、12は
0リング、13は排出管蓋である。 尚、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (3)
- (1)真空チャンバー、この真空チャンバーに設けられ
真空チャンバー内のガスを排出するガス排出部を備え、
上記ガス排出部のガス導入口を真空チャンバーの底部か
ら離れた位置に配設したことを特徴とするクライオポン
プ装置。 - (2)ガス排出部は真空チャンバーの上部側面に設けら
れている特許請求の範囲第1項記載のクライオポンプ装
置。 - (3)ガス排出部は真空チャンバーの底部から離れた位
置に開口するノズル部を有する特許請求の範囲第1項記
載のクライオポンプ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6050987A JPS63227971A (ja) | 1987-03-16 | 1987-03-16 | クライオポンプ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6050987A JPS63227971A (ja) | 1987-03-16 | 1987-03-16 | クライオポンプ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63227971A true JPS63227971A (ja) | 1988-09-22 |
Family
ID=13144350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6050987A Pending JPS63227971A (ja) | 1987-03-16 | 1987-03-16 | クライオポンプ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63227971A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6111474A (ja) * | 1984-06-27 | 1986-01-18 | Tokuda Seisakusho Ltd | クライオポンプ |
-
1987
- 1987-03-16 JP JP6050987A patent/JPS63227971A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6111474A (ja) * | 1984-06-27 | 1986-01-18 | Tokuda Seisakusho Ltd | クライオポンプ |
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