JPS63235836A - 熱像感知装置およびその製造方法 - Google Patents

熱像感知装置およびその製造方法

Info

Publication number
JPS63235836A
JPS63235836A JP63057393A JP5739388A JPS63235836A JP S63235836 A JPS63235836 A JP S63235836A JP 63057393 A JP63057393 A JP 63057393A JP 5739388 A JP5739388 A JP 5739388A JP S63235836 A JPS63235836 A JP S63235836A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plastic material
thermal image
sensing device
manufacturing
array
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63057393A
Other languages
English (en)
Inventor
アンドリュー・アルフレッド・ターンブル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of JPS63235836A publication Critical patent/JPS63235836A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/10Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using electric radiation detectors
    • G01J5/34Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using electric radiation detectors using capacitors, e.g. pyroelectric capacitors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N15/00Thermoelectric devices without a junction of dissimilar materials; Thermomagnetic devices, e.g. using the Nernst-Ettingshausen effect
    • H10N15/10Thermoelectric devices using thermal change of the dielectric constant, e.g. working above and below the Curie point
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/4913Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は強誘電性または焦電性赤外線検出素子の2次元
アレイを具える熱像感知装置およびその製造方法に関す
るものである。
熱および電気絶縁材料の中間層を介して回路基板に装着
された強誘電性または焦電性赤外線検出素子の2次元ア
レイを具える熱像感知装置を製造する方法はヨーロッパ
特許出願EP−A−0173368号明細書に記載され
ている。このヨーロッパ特許出願明細書に記載された方
法では関連する2次元アレイの孔を絶縁層に形成し、個
別の孔の壁部全体に亘って設けられた金属被膜によって
回路基板の個別の電極に検出素子の各々を電気的に接続
するようにしている。この電気的接続部の断面をこの薄
い金属被膜に対して制限することにより検出素子および
回路基板間の伝熱路を低くするようにしている。前述し
たヨーロッパ特許出願の要旨を本発明の基準材料として
ここに列挙する。
特に、上記ヨーロッパ特許出願の方法では、検出素子ア
レイを形成した後シート状の絶縁層を検出素子アレイの
主表面で単一の電極層に接着し、孔を絶縁シートを経て
前記単一電極層までエツチングにより除去して金属化し
、次いで条溝のパターン(チャネル)を前記絶縁シート
を経て検出素子アレイまでエツチングして各々が個別の
孔を囲むピラーを形成し得るようにする。これら孔およ
び条溝は検出素子アレイに対して整列させる必要がある
。次いで金属化した絶縁ピラー構体および検出素子アレ
イのサブ−アセンブリを回路基板にその関連するはんだ
バンプにより注意深く装着する。
上述した方法によれば中間絶縁層をはんだバンプにより
回路基板の上側表面から離間すると共にその厚さ全体に
亘って個別のピラーに分割する。
かようにして、中程度の絶縁特性のみを有するテルル化
カドミウム、テルノペセレンまたは硫黄のような絶縁層
材料を用いることができる。ここに材料を用いる利点は
フォトレジスト被膜の窓にイオンビームによりミリング
処理を行うことによって前記孔を形成し得ることである
本発明方法は強誘電性または焦電性赤外線検出素子の2
次元アレイを具え、該検出素子を熱および電気絶縁材料
の中間層を介して回路基板に装着し、関連する2次元ア
レイの孔を前記絶縁層に形成し、前記検出素子の各々を
前記孔の壁部に設けられた金属被膜を経て前記回路基板
の各電極に電気的に接続して熱像感知装置を製造するに
当り、(a)前記回路基板の上側表面の少なくとも一部
分にプラスチック材料を被覆してほぼ平坦な上側表面を
有する絶縁層を形成し、(b)前記回路基板の前記電極
から前記プラスチク材料を局部的に除去して前記絶縁層
に孔を形成し、(c)全体に金属を被覆して前記孔内お
よびこれら孔を少なくとも囲む前記プラスチック材料の
上側表面に金属被覆を形成し、(d)前記プラスチック
材料の金属被覆された上側表面に検出素子のアレイを形
成するステップを具えることを特徴とする 特に後述するように、本発明によれば赤外線検出素子の
2次元アレイを簡単に製造し得、しかも著しく頑丈かつ
検出素子および回路基板間の熱的および電気的絶縁が良
好な装置構体を形成し、しかも、検出素子アレイを例え
ば金属被覆プラスチック材料に装着された強誘電または
焦電材料のシートを貫通する条溝をのこ引き処理により
回路基板に形成し、これにより前記条溝を橋絡する頂部
電極接続部を形成することができる。
本発明の他の例では互いに条溝により離間され、関連す
る2次元アレイの孔を有する熱および電気絶縁材料の中
間層を介して回路基板に装着された強誘電性または焦電
性赤外線検出素子の2次元アレイを具え、各検出素子を
個別の孔の壁部全体に亘って設けられた金属被覆により
前記回路基板の個別の電極に接続するようにした熱像感
知装置において、前記絶縁層を前記回路基板の上側表面
の少なくとも一部の被覆を形成するプラスチック材料と
し、前記孔の金属被覆を前記回路基板の個別の電極上ま
で延在させ、少なくとも1つの金属導体を支持するプラ
スチック材料を前記検出素子の一アレイの頂部に装着し
て前記検出素子間の条溝を橋絡する頂部電極接続部を形
成するようにしたことを特徴とする。
図面につき本発明を説明する。
図面は線図的に誇張して示す。従って図面の一部分の相
対的な寸法は便宜上拡大または縮小して示す。また、図
中同一部分には同一符号を付して示す。
本発明により製造した装置は既知の熱像システムに、例
えば英国特許出願GB−A−2030023号明細書お
よび米国特許出願US−A−4072863号明細書に
記載されたシステムに用いることができ、その内容もこ
こに基準材料として記載する。
本発明装置は回路基板1を具え、これを2次元アレイの
赤外線検出素子から信号を読出して処理する電子回路を
具える既知の形状の例えばシリコン集積回路とすること
ができる。既知の回路の特定の例は英国特許出願GB−
A−2030023号明細書に記載されている。これが
ため、回路基板1の内部構成は第1図に示さない。しか
し、回路基板1にはその検出素子と対向する上側表面3
に入力電極2のアレイを設ける。電極2の各々を個別の
赤外線検出素子の信号電極に接続する。図面を簡単とす
るために、第1図には検出素子が回路基板1の回路と対
向する3つの個所A、BおよびCのみを示すが、所望の
アレイ、例えば32×32素子または128X128素
子の方形アレイに相当する極めて多数の個所を装置に設
は得ることは勿論である。図面を簡単とするために、第
4図においても、アレイに少数(6X6)の個所のみを
示す。基板電極2は例えば回路基板1の上側表面3にお
いて絶縁層の窓に既知のように形成したアルミニウム接
点パッドとすることができる。
第1図に示す製造工程では、回路基板1の上側表面3に
プラスチック材料を被覆してほぼ平坦な上側表面13を
有する肉厚の熱的および電気的絶縁層を形成する。この
プラスチック材料は回路基板1上に被覆して上側表面3
への機械的に安定な接着部を形成する。これがため、例
えばヨーロッパ特許出願EP−A−0055819号明
細書に記載されている方法と同様の方法を用いることが
できる。回路基板1および検出素子アレイ間に良好な界
面を形成するためにはプラスチック層10の厚さを5μ
m以上とするのが好適であり、特に10μm以上とする
のが好適である。特に肉厚のプラスチック被覆を用いる
ことによって、上側表面13をほぼ平坦として検出素子
を安定に装着し、これにより丈夫な構体を形成し、検出
素子および回路基板1間の熱絶縁を良好にし、これによ
り検出素子を回路基板1上に例えばのこ引き(第4図)
により形成し、更に装置の作動中回路基板1からの振動
を減衰しうるようにする。プラスチック層10に対し種
々のプラスチック材料を用い得ることは勿論であり、特
にポリイミドを用いる場合には有利な特性を得ることが
できる。
プラスチック被覆層10を形成した後、プラスチック材
料を局部的に除去しこの被覆層の厚さ全体を貫通して基
板電極まで孔11をあける。プラスチック材料を用いる
他の利点はレーザビーム18によるドリル処理によって
孔11を簡単に形成し得る点である。この目的のため、
レーザビーム18を所定位置に当ててプラスチック被覆
基板のレーザビーム照射位置に段状凹部を形成して基板
電極2のアレイに相当する孔11のアレイを形成し得る
ようにする。プラスチック層10にかくして形成した円
形の孔11はその直径を出来るだけ小さく、例えば10
μmとする。かくして形成した構体を第2図に示す。
第2図は1例として孔11の直径が基板電極20幅より
も広く、従って各電極2の全体がプラスチック被覆層1
0の関連する孔11によって露出される場合を示す。し
かし、基板電極2を孔11よりも幅広にして各電極2の
一部分のみを露出し得ることは勿論である。これは10
μm以下の直径の孔11を形成する場合に相当する。孔
11を円形とする必要はなく、他の形状とすることもで
きる。これがため、例えばポリイミド被覆10をまず最
初部分的に硬化し、その後例えば水酸化カリウムまたは
水酸化ナトリウム溶液による写真食刻工程によって、被
膜10を完全に硬化する前にポリイミド材料に孔をエツ
チングによりあけるようにする。写真食刻による他の手
段としては反応性イオンエツチングを用いて孔11を形
成することもできる。
これら孔11内およびこれら孔11を少なくとも囲むプ
ラスチック材料10の上側表面13にも金属を堆積して
金属被膜12を形成する。この金属被膜12は前記孔が
完全に充満されないように十分薄くする。
上記金属としては例えばニクロムシート添加表面に厚さ
が例えば15μmの金を用いることができるが、その他
の金属を用いることもできる。第3図は金属被膜12に
よってプラスチック材料10の上側表面13に連続被膜
を形成するようにした金属化構体を示す。
次いで、プラスチック材料10の金属被膜された上側表
面13に強誘電又は焦電材料30のシートを設ける。こ
のシート30は例えば前述した特許出願明細書IEP−
A−0173368およびGB−A−2030023に
記載されているような赤外線検出素子を形成するに好適
な広範囲な材料の任意のものとすることができる。
特定の例としてはこの材料を、ジルコン酸−チタン酸鉛
(例えばランタンをドープしたジルコン酸−チタン酸鉛
)、チタン酸バリウム、硫酸グリシン(TGS) 、チ
タン酸バリウムストロンチウム、チタン酸鉛、タンクル
ニオブ酸カリウム、二水素燐酸カリウム、およびロッシ
ェル塩とすることができる。前記シート30の上側表面
33および下側表面34には夫々金属層31を被膜する
。これら層31および32は任意の適当な導電材料又は
強誘電または焦電材料30の表面への良好な接着を形成
する材料の組合せとすることができる。下側の層32お
よび上側の層31の双方に対しジルコン酸−チタン酸鉛
と共に用い得る特定の例はニクロム上に設けられた抵抗
値が約150 Ω/口の金の層とすることができる。こ
れら層31および32は検出すべき赤外線放射の主吸収
として作用し、これにより検出素子の強誘電/焦電材料
の温度を間接的に変化し得るようにする。強誘電/焦電
材料30はその厚さを例えば10〜40μmとする。第
3図は回路基数1上に設けられたプラスチック被膜10
の金属被膜された上側表面13の設けられた金属化シー
ト30を示す。
このシート30は例えば金属層12および32間に設け
られた導電性エポキシの薄層によってプラスチック被覆
3Gに固着することができる。上記エポキシの量および
位置はこれを適宜定めてエポキシが前記孔11内まで延
在し得ないようにする。かようにして、検出素子の信号
電極を形成する金属層32に基板電極2を電気的に接続
する。第3図に示すも14体では両金属層31および3
2はシート30の各表面33および34上の連続被覆と
する。
かようにして、回路基板1上に検出素子アレイを形成す
る。このシート30はその厚さ全体を貫通する条溝36
を設けることにより検出素子区域に分割することができ
る。回路基板1の肉厚プラスチック被覆10のクッショ
ン効果のためこれら条溝36は例えば厚さ15μmおよ
び20μmの刃を有するのこにより材料を切削すること
によって形成することができる。第4図の平面図に示す
ように、正方形または矩形アレイを形成するために平行
な条溝36の2つの直交する組(XおよびY方向)を切
削してシート30を各々がプラスチック材料10の金属
化孔11と重なり合う個別の素子38に分割する。特定
の例ではこれら条溝36は約25μmの幅とし、個別の
素子区域38を例えば100μm X100μmとする
ことができる。また、これら条溝36によって金属層3
3および34を検出素子の個別の電極に分割することも
できる。
第5図に示すように、のこによる切削を十分な深さとし
て検出素子38間に形成された条溝36をプラスチック
材料10の上側表面13の連続金属被覆12を経てプラ
スチック材料10内まで延在させ、これにより連続金属
被覆12を検出素子38の下側表面34で個別の電極接
続部に分割し得るようにする。プラスチック材料10の
良好な熱的および電気的特性のため、プラスチック材料
10の厚さ全体に亘る条溝によってプラスチック材料1
0の導通によるクロストークを防止することができる。
これら条溝36は金属被覆12を信頼性をもって分割す
るに十分な深さまで、回路基板の上側表面3から信頼性
のある安全な距離を保ちながら切削するだけである。
プラスチック材料10の絶縁特性は強誘電または焦電材
料30の特性と両立するかまたはこれよりも良好である
。これがため、例えばPLZTの伝熱性は約3X10”
”W  −cm ’ ・K−’  であり、ポリイミド
の伝熱性は約5X10−31’l  −c+++−’ 
4 ’  である。
これがため、強誘電または焦電材料に対してよりもプラ
スチック被覆10に対する絶縁特性が良好であるため、
本発明製造方法による重要な利点は検出素子アレイが検
出素子38間で条溝36により完全に網状となり、従っ
て横方向および縦方向の絶縁を良好とすることができる
のこによる切削の代わりに写真食刻マスクを経て行うイ
オンビームエツチングを用いて1!31.30゜32お
よび2をエツチングして除去することもできろ。しかし
、のこによる切削によって一層垂直な側壁を有する狭い
条溝36を形成し得ることを確かめた。
各々がプラスチック被覆10に剛固に装着されかつ各々
が基(反導体2に電気的に接続された個別の信号電極3
2を有する個別の検出素子38のアレイを形成した後検
出素子38の上側表面31に頂部電極接続部41を設け
る。これら頂部電極接続部41はプラスチックフィルム
40の下側表面に支持される少なくとも1つの金属導体
によって形成することができる。このプラスチックフィ
ルム4oは例えば厚さが約1μmのポリイミドとするこ
とができる。金属導体41は例えば厚さが15nmの金
の層とすることができる。
第5図は検出素子アレイの上側表面33に装着されたプ
ラスチックおよび導体の積層体4oを示す。
検出素子38の頂部電極31の全部を共通に接続する必
要がある場合には単一の大面積金属層41をプラスチッ
クフィルム40により支持することができる。
しかし、各列の検出素子38のみを共通に接続する必要
がある場合にはプラスチックフィルムによって第4図の
X方向に細長く延在する平行な金属細条を支持すること
ができる。アレイ全体に亘りプラスチックフィルム40
を装着することによって金属細条41の各々または単一
層41によって検出素子間の条溝36を橋絡し、しかも
頂部電極31への電気接続をも行う。金属導体41を頂
部電極31に接着すると共にプラスチックフィルム4o
の周縁を回路基板1またはこれを支持するマウントに接
着してアレイ構体をカプセル封じし得るようにする。
かくして形成した装置(第6図)は上側のプラスチック
フィルム40を経て入射する赤外線を検出するのに好適
である。所望に応じ各検出素子38の上側の区域に黒色
化処理を施して検出素子38の赤外線の吸収を改善する
ことができる。検出素子38およびその接続部はプラス
チックフィルム40およびプラスチック被覆10間にカ
プセル封じするのが有利であるが個別の検出素子38上
に位置する個別の孔を有するフィルム40を用いて検出
素子38およびその電極31への赤外線の透過を増大さ
せることができる。
本発明は上述した例に限定されるものではない。
特に検出素子間の条溝を十分深く切削して金属被膜I2
並びに電極層32および33の全部を1回の工程で分割
するのが有利である。しかし、所望に応じ検出素子の材
料を装着する前に、マスク工程により上側表面13を金
属被膜12を局部的に設けるのが有利である。かかる配
置を第7図に示すと共にその製造に第1〜6図の処理を
用いることができる。
これがため、マスク層の窓の箇所で孔11内または孔の
周りに金属被膜12を局部的に堆積するか、或いは連続
金属被膜12を設けた後、その一部分をエツチングによ
り除去して孔11内または孔の周りに金属被膜12の区
域を残存させるようにする。
基板上に完全に網状のアレイを形成する代わりに、条溝
46により互いに分離された検出素子のアレイを、検出
素子38への頂部電極接続部を形成する少なくとも1つ
の金属導体41を有するプラスチックフィルム40上に
支持することもできる。かかる配置を第7図に示す。次
いでプラスチックフィルム40およびプラスチック被覆
10Mに位置し、プラスチック被覆10の上側表面に設
けられた金属被膜12の個別の区域に接続された検出素
子38を有するプラスチックフィルム40を絶縁プラス
チック被覆10の上側表面13上に装着する。
基板1をプラスチック材料10で被覆する代わりに、プ
ラスチック材料(例えばポリイミド)のあらかじめ形成
されたフィルム10を回路基板1の上側表面3上に位置
させ、かつこれに接着することもできる。この場合には
フィルム10を基板1に位置させる前にフィルム10に
孔11をあけ、これを基板1に注意深く位置決めし、関
連する孔11で各基板電極2の少なくとも一部分を露光
し得るようにする。
頂部電極接続部41の支持に頂部プラスチックフィルム
40を用いる代わりに、これら接続部41を検出素子間
の条溝上に自己支持することもできる。
条溝36または46はこれに材料を充填しないで検出素
子38間の熱絶縁を極めて良好に保持し得るようにする
のが好適である。しかし、所望に応じ、条溝36または
46に良好な絶縁材料を充填することもできる。これが
ため強誘電または焦電素子38のサブアセンブリを例え
ば前記特許出願εP−A−0173368の第6a、 
6bおよび60図につき説明したような方法を用いて形
成し、例えば絶縁性エポキシ樹脂を充填した条溝により
検出素子38を分離し得るようにする。このサブアセン
ブリは本発明の第7図に示す方法の変形例に用いること
ができ、この場合には積層フィルム40.41により支
持された検出素子アレイ38の代わりに、この素子のサ
ブアセンブリの上側表面に金属を堆積することにより検
出素子38の頂部電極接続部を簡単に形成することもで
きる。更に、第7図の変形方法では、積層フィルム40
、41により支持された網状検出素子アレイ38の代わ
りに、前記特許出願明細書GB−^−2030023(
第7a〜7cおよび8a〜8c図)およびεP−A−0
173368 (第5図)に記載されているように下側
表面に個別の信号電極32を設け、上側表面に1つ以上
の共通電極33を設けた強誘電または焦電材料の単一ウ
ェファを用いることもできる。
上述した所から明らかなように、本発明によれば特に簡
便な熱像感知装置の製造方法を提供し得、かつ特に有利
な特性を有する熱像感知装置を提供することができる。
これがため本発明は熱的および電気的絶縁プラスチック
材料の中間層10を介して回路基板1に装着された強誘
電または焦電赤外線検出素子38の2次元アレイを具え
る熱像感知装置を提供することができる。検出素子38
の各々は絶縁プラスチック層10に設けられ検出素子3
8と関連する個別の孔11の壁部上の金属被膜によって
回路基板1の個別の電極2に電気的に接続する。検出素
子38は絶縁プラスチック層10まで延在し検出素子3
8の頂部電極接続部41により橋絡された条溝36また
は46によって分離するのが好適である。これら条溝3
6または46には材料を充填しないのが好適である。
本発明は上述した例にのみ限定されるものではなく要旨
を変更しない範囲内で種々の変更を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1. 2. 3. 5および6図は本発明熱像感知装
置の製造方法の種々の工程における回路基板に設ける熱
像感知装置の諸部分を示す断面図、第4図は第3および
5図に示す工程の中間の工程を示す平面図、 第7図は本発明方法の変形例の工程を示す断面図である
。 1・・・回路基板     2・・・人力電極3・・・
上側表面     10・・・プラスチック材料11・
・・孔        12・・・金属被覆13・・・
上側表面     18・・・レーザビーム30・・・
強誘電または焦電材料のシート31、32・・・金属層
    33・・・上側表面34・・・下側表面   
  3G・・・条溝38・・・検出素子     4o
・・・プラスチック被覆41・・・頂部電極接続部  
46・・・条溝特許出願人  エヌ・ベー・フィリップ
ス・フルーイランペンファブリケン !−N (”)                  u)\t Cフ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、強誘電性または焦電性赤外線検出素子の2次元アレ
    イを具え、該検出素子を熱および電気絶縁材料の中間層
    を介して回路基板に装着し、関連する2次元アレイの孔
    を前記絶縁層に形成し、前記検出素子の各々を前記孔の
    壁部に設けられた金属被膜を経て前記回路基板の各電極
    に電気的に接続して熱像感知装置を製造するに当り、(
    a)前記回路基板の上側表面の少なくとも一部分にプラ
    スチック材料を被覆してほぼ平坦な上側表面を有する絶
    縁層を形成し、(b)前記回路基板の前記電極から前記
    プラスチク材料を局部的に除去して前記絶縁層に孔を形
    成し、(c)全体に金属を被覆して前記孔内およびこれ
    ら孔を少なくとも囲む前記プラスチック材料の上側表面
    に金属被覆を形成し、(d)前記プラスチック材料の金
    属被覆された上側表面に検出素子のアレイを形成するス
    テップを具えることを特徴とする熱像感知装置の製造方
    法。 2、検出素子のアレイを形成するに際し、(e)前記プ
    ラスチック材料の金属被覆された上側表面に強誘電性ま
    たは焦電性材料のシートを装着し、(f)前記強誘電性
    または焦電性材料のシートにその厚さを貫通する条溝を
    設けて前記シートを検出素子のアレイに分割し、(g)
    前記検出素子の上側表面に頂部電極接続部を設け、該頂
    部電極接続部によって前記検出素子間の前記条溝を橋絡
    するステップを具えることを特徴とする請求項1に記載
    の熱像感知装置の製造方法。 3、ステップ(c)における孔内およびその周りに堆積
    された金属によってプラスチック材料の上側表面に連続
    金属被覆を形成し、ステップ(f)における検出素子間
    に形成された条溝はプラスチック材料の上側表面の連続
    金属被覆を貫通してプラスチック材料内まで延在させ、
    これにより検出素子の下側表面で前記連続金属被覆を個
    別の電極接続部に分割するようにしたことを特徴とする
    請求項2に記載の熱像感知装置の製造方法。 4、頂部電極接続部はステップ(g)における検出素子
    のアレイ上に設けられたプラスチックフィルムの下側表
    面に支持された少なくとも1つの金属導体により構成す
    るようにしたことを特徴とする請求項2または3に記載
    の熱像感知装置の製造方法。 5、装着ステップ(e)の前に、強誘電性または焦電性
    材料のシートの上側および下側表面に夫々金属層を設け
    、ステップ(f)における検出素子間に形成された前記
    条溝によってこれら金属層を検出素子の個別の電極に分
    割するようにしたことを特徴とする請求項2〜4の何れ
    かの項に記載の熱像感知装置の製造方法。 6、前記条溝はステップ(f)で前記材料をのこ引きに
    より形成するようにしたことを特徴とする請求項2〜5
    の何れかの項に記載の熱像感知装置の製造方法。 7、前記頂部電極接続部を前記検出素子に接続する少な
    くとも1つの金属導体を有するプラスチックフィルムに
    前記検出素子のアレイを支持し、前記プラスチックフィ
    ルムを前記プラスチック材料の絶縁層の上側表面全体に
    亘り設け、前記検出素子を前記プラスチックフィルムお
    よび前記絶縁層間に位置させると共に前記絶縁層の上側
    表面上の前記金属被覆の個別の区域に接続するようにし
    たことを特徴とする請求項1に記載の熱像感知装置の製
    造方法。 8、前記孔をステップ(b)でレーザビームによるドリ
    ル処理によって前記プラスチック材料に形成するように
    したことを特徴とする請求項1〜7の何れかの項に記載
    の熱像感知装置の製造方法。 9、前記プラスチック材料をポリイミドとしたことを特
    徴とする請求項1〜8の何れかの項に記載の熱像感知装
    置の製造方法。 10、前記プラスチック材料の層はその厚さを少なくと
    も10μmとしたことを特徴とする請求項1〜9の何れ
    かの項に記載の熱像感知装置の製造方法。 11、請求項1〜10の何れかの項に記載の熱像感知装
    置の製造方法により製造した熱像感知装置。 12、互いに条溝により離間され、関連する2次元アレ
    イの孔を有する熱および電気絶縁材料の中間層を介して
    回路基板に装着された強誘電性または焦電性赤外線検出
    素子の2次元アレイを具え、各検出素子を個別の孔の壁
    部全体に亘って設けられた金属被覆により前記回路基板
    の個別の電極に接続するようにした熱像感知装置におい
    て、前記絶縁層を前記回路基板の上側表面の少なくとも
    一部の被覆を形成するプラスチック材料とし、前記孔の
    金属被覆を前記回路基板の個別の電極上まで延在させ、
    少なくとも1つの金属導体を支持するプラスチック材料
    を前記検出素子のアレイの頂部に装着して前記検出素子
    間の条溝を橋絡する頂部電極接続部を形成するようにし
    たことを特徴とする熱像感知装置。
JP63057393A 1987-03-13 1988-03-12 熱像感知装置およびその製造方法 Pending JPS63235836A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8705963 1987-03-13
GB08705963A GB2202084A (en) 1987-03-13 1987-03-13 Thermal-image sensing devices and their manufacture

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63235836A true JPS63235836A (ja) 1988-09-30

Family

ID=10613883

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63057393A Pending JPS63235836A (ja) 1987-03-13 1988-03-12 熱像感知装置およびその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4926051A (ja)
EP (1) EP0284131B1 (ja)
JP (1) JPS63235836A (ja)
DE (1) DE3866265D1 (ja)
GB (1) GB2202084A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010249676A (ja) * 2009-04-16 2010-11-04 Hioki Ee Corp 焦電型赤外線撮像素子の製造方法および焦電型赤外線撮像素子

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2233493A (en) * 1989-06-20 1991-01-09 Philips Electronic Associated Thermal-radiation detection device manufacture
US5070026A (en) * 1989-06-26 1991-12-03 Spire Corporation Process of making a ferroelectric electronic component and product
FR2649247B1 (fr) * 1989-06-30 1991-09-13 Thomson Csf Detecteur infrarouge a base de materiau pyroelectrique
US5611140A (en) * 1989-12-18 1997-03-18 Epoxy Technology, Inc. Method of forming electrically conductive polymer interconnects on electrical substrates
US5086558A (en) * 1990-09-13 1992-02-11 International Business Machines Corporation Direct attachment of semiconductor chips to a substrate with a substrate with a thermoplastic interposer
US5075549A (en) * 1990-12-11 1991-12-24 Hughes Aircraft Company Pyroelectric detector using electronic chopping
US5276326A (en) * 1991-09-30 1994-01-04 Rockwell International Corporation Scanning ranging radiometer for weather hazard surveillance
US5236871A (en) * 1992-04-29 1993-08-17 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Method for producing a hybridization of detector array and integrated circuit for readout
KR960007828B1 (ko) * 1992-12-24 1996-06-12 엘지전자 주식회사 인체 감지센서 및 그 제조 방법
GB2274943B (en) * 1993-02-06 1996-08-28 British Aerospace Thermal picture synthesis device
FR2701602B1 (fr) * 1993-02-12 1995-03-31 Thomson Csf Détecteur thermique comprenant un isolant thermique en polymère expansé.
US5409548A (en) * 1993-05-17 1995-04-25 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Ferroelectric detector array utilizing material and fabrication technique
KR0141447B1 (ko) * 1993-09-22 1998-07-01 모리시타 요이찌 초전형 적외선센서
FR2728728B1 (fr) * 1993-09-27 1998-01-09 Commissariat Energie Atomique Dispositif de detection bolometrique et procedes de fabrication de ce dispositif
US5485010A (en) * 1994-01-13 1996-01-16 Texas Instruments Incorporated Thermal isolation structure for hybrid thermal imaging system
US5653892A (en) * 1994-04-04 1997-08-05 Texas Instruments Incorporated Etching of ceramic materials with an elevated thin film
US5679267A (en) * 1994-04-04 1997-10-21 Texas Instruments Incorporated Dual etching of ceramic materials with an elevated thin film
US5644838A (en) * 1995-01-03 1997-07-08 Texas Instruments Incorporated Method of fabricating a focal plane array for hybrid thermal imaging system
US5847390A (en) * 1996-04-09 1998-12-08 Texas Instruments Incorporated Reduced stress electrode for focal plane array of thermal imaging system and method
US5969380A (en) * 1996-06-07 1999-10-19 Micron Technology, Inc. Three dimensional ferroelectric memory
US6570361B1 (en) * 1999-02-22 2003-05-27 Borealis Technical Limited Rotating induction apparatus
US6635514B1 (en) * 1996-12-12 2003-10-21 Tessera, Inc. Compliant package with conductive elastomeric posts
US6083557A (en) * 1997-10-28 2000-07-04 Raytheon Company System and method for making a conductive polymer coating
US6080987A (en) * 1997-10-28 2000-06-27 Raytheon Company Infrared-sensitive conductive-polymer coating
US6495828B1 (en) * 2000-04-17 2002-12-17 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Ferroelectric/pyroelectric infrared detector with a colossal magneto-resistive electrode material and rock salt structure as a removable substrate
FI114825B (fi) * 2002-02-13 2004-12-31 Vti Technologies Oy Menetelmä kapasitiivisen anturin lämpötilariippuvuuden pienentämiseksi sekä kapasitiivinen anturirakenne
WO2010118036A1 (en) * 2009-04-06 2010-10-14 Bridge Semiconductor Corporation Interconnect and system including same
GB2480654B (en) * 2010-05-27 2012-08-15 Infrared Integrated Syst Ltd Monitoring handwashing
CN105352608B (zh) * 2015-11-19 2019-02-15 电子科技大学 宽光谱热释电探测器用吸收层及其制备方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1508299A (en) * 1975-06-20 1978-04-19 Mullard Ltd Pyroelectric detectors
US4072863A (en) * 1976-10-26 1978-02-07 Roundy Carlos B Pyroelectric infrared detection system
GB2030023B (en) * 1977-12-19 1982-08-04 Texas Instruments Inc Ferroelectric imaging system
US4317063A (en) * 1978-10-28 1982-02-23 Plessey Handel Und Investments Ag Pyroelectric detectors
US4365106A (en) * 1979-08-24 1982-12-21 Pulvari Charles F Efficient method and apparatus for converting solar energy to electrical energy
JPS5677730A (en) * 1979-11-28 1981-06-26 Sanyo Electric Co Ltd Pyroelectric infrared-ray detector
US4515828A (en) * 1981-01-02 1985-05-07 International Business Machines Corporation Planarization method
GB2163596B (en) * 1984-08-24 1988-02-03 Philips Electronic Associated A thermal imaging device and a method of manufacturing a thermal imaging device
GB2173038B (en) * 1985-03-29 1988-09-14 Philips Electronic Associated Thermal radiation detector
US4642160A (en) * 1985-08-12 1987-02-10 Interconnect Technology Inc. Multilayer circuit board manufacturing
US4740700A (en) * 1986-09-02 1988-04-26 Hughes Aircraft Company Thermally insulative and electrically conductive interconnect and process for making same
GB9909357D0 (en) * 1999-04-24 1999-06-16 Glaxo Group Ltd Medicament carrier

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010249676A (ja) * 2009-04-16 2010-11-04 Hioki Ee Corp 焦電型赤外線撮像素子の製造方法および焦電型赤外線撮像素子

Also Published As

Publication number Publication date
US4926051A (en) 1990-05-15
GB2202084A (en) 1988-09-14
EP0284131A1 (en) 1988-09-28
DE3866265D1 (de) 1992-01-02
GB8705963D0 (en) 1987-04-15
EP0284131B1 (en) 1991-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63235836A (ja) 熱像感知装置およびその製造方法
JP2660299B2 (ja) 複合ウェーハ型集積回路チップの製造方法
US4794092A (en) Single wafer moated process
US5637536A (en) Method for interconnecting semiconductor chips in three dimensions, and component resulting therefrom
US5231304A (en) Framed chip hybrid stacked layer assembly
US4770640A (en) Electrical interconnection device for integrated circuits
US7251351B2 (en) Sensor unit, especially for fingerprint sensors
US4815199A (en) Method of manufacutring a thermal imaging device with thermally insulated sensor elements
JP3766978B2 (ja) 音響プローブの製造方法
US5216806A (en) Method of forming a chip package and package interconnects
JP3483280B2 (ja) 電子コンポーネントパッケージの3次元相互接続方法及びそれによって形成される3次元コンポーネント
US5013687A (en) Framed chip hybrid stacked layer assembly
US5410789A (en) Method of manufacturing piezoelectric-resonator having vibrating spaces formed therein
JPH022699A (ja) 高密度ハイブリッド集積回路
US5621193A (en) Ceramic edge connect process
JPS59205747A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2866167B2 (ja) 接着された接触を有する多層トランスデューサおよびその接着方法
US4341012A (en) Pyroelectric detector arrays
JPS61113252A (ja) 半導体装置
JPH02200453A (ja) 熱画像形成装置およびその製造方法
JP2847890B2 (ja) 3次元実装用半導体基板の製造方法
JPS63308362A (ja) 高密度オプテイカル・デイテクタ・モザイク・アレイ・アセンブリおよびその製造方法
JP3201893B2 (ja) 半導体レーザ装置
JPH01500866A (ja) 多層構造中に埋設された受動部品のトリミング
JPS586951B2 (ja) 電子回路装置