JPS63236754A - マグネシア磁器の製造方法 - Google Patents
マグネシア磁器の製造方法Info
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- JPS63236754A JPS63236754A JP62069891A JP6989187A JPS63236754A JP S63236754 A JPS63236754 A JP S63236754A JP 62069891 A JP62069891 A JP 62069891A JP 6989187 A JP6989187 A JP 6989187A JP S63236754 A JPS63236754 A JP S63236754A
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- porcelain
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はマグネシア(MgO)系原料の造粒方法及びマ
グネシア系磁器の製造方法に係り、特に電子材料焼成用
又は金属溶解用のルツボ、サヤ、ボード等に使用される
各種マグネシア磁器等の製造に好適なマグネシア系原料
の造粒方法及びマグネシア系磁器の製造方法に関する。
グネシア系磁器の製造方法に係り、特に電子材料焼成用
又は金属溶解用のルツボ、サヤ、ボード等に使用される
各種マグネシア磁器等の製造に好適なマグネシア系原料
の造粒方法及びマグネシア系磁器の製造方法に関する。
[従来の技術]
マグネシア磁器は、電子材料焼成用又は金属溶解用のル
ツボやサヤ、ボード等に広く用いられている。
ツボやサヤ、ボード等に広く用いられている。
従来、マグネシア磁器の製造工程における成形方法とし
て、スリップキャスト法が提案されている。スリップキ
ャスト法により成形を行なうには、電融マグネシア又は
デッドバーンクリンカー状マグネシア粒子原料を粉砕し
て微粒子を得、この微粒子をアルコール系溶液に懸濁し
てスラリー状とし、これをスリップキャスト成形する。
て、スリップキャスト法が提案されている。スリップキ
ャスト法により成形を行なうには、電融マグネシア又は
デッドバーンクリンカー状マグネシア粒子原料を粉砕し
て微粒子を得、この微粒子をアルコール系溶液に懸濁し
てスラリー状とし、これをスリップキャスト成形する。
このような従来の成形方法で成形された成形体は、通常
の場合1400〜1700℃で焼成して磁器が製造され
るが、その際、焼結性を高めるためにB20a、CaO
1Si02のような焼結助剤を添加して焼成するのが一
般的である。
の場合1400〜1700℃で焼成して磁器が製造され
るが、その際、焼結性を高めるためにB20a、CaO
1Si02のような焼結助剤を添加して焼成するのが一
般的である。
C発明が解決しようとする問題点]
このような従来の方法では、スリップキャストのスラリ
ーの調製にあたり、電融マグネシア又はデッドバーンク
リンカー状マグネシア粒子等のマグネシア原料の水和を
防止するために、懸濁溶媒がアルコール系等の非水溶媒
に限定される。このため、スラリー調製に要する費用が
高く、また、アルコール類は環境を汚染するおそれがあ
るために、公害防止設備にも膨大な費用が必要とされ、
製品が高コストとなるという問題がある。
ーの調製にあたり、電融マグネシア又はデッドバーンク
リンカー状マグネシア粒子等のマグネシア原料の水和を
防止するために、懸濁溶媒がアルコール系等の非水溶媒
に限定される。このため、スラリー調製に要する費用が
高く、また、アルコール類は環境を汚染するおそれがあ
るために、公害防止設備にも膨大な費用が必要とされ、
製品が高コストとなるという問題がある。
また、焼結助剤の添加量が多くなると磁器の耐熱性が低
下するようにする。
下するようにする。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、マグネシア系原料を微粉砕する工程において
、水を添加して粒子の表面を部分消化し、得られた粒子
をスラリー状としてスリップキャスト法により成形、焼
成することを特徴とするマグネシア系磁器の製造方法を
要旨とするものである。
、水を添加して粒子の表面を部分消化し、得られた粒子
をスラリー状としてスリップキャスト法により成形、焼
成することを特徴とするマグネシア系磁器の製造方法を
要旨とするものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明においては、まずマグネシア系原料を好ましくは
粒径20μm以下程度に微粉砕して微粒子を得る。
粒径20μm以下程度に微粉砕して微粒子を得る。
本発明で用いられるマグネシア原料としては、電融マグ
ネシア又はデッドバーンクリンカー状マグネシア(死焼
マグネシア)等のマグネシア原料、あるいはマグネシア
以外にSiO2、AlwOz、ZrO2、TiO2、C
aO等の酸化物を含むマグネシア系原料が用いられる。
ネシア又はデッドバーンクリンカー状マグネシア(死焼
マグネシア)等のマグネシア原料、あるいはマグネシア
以外にSiO2、AlwOz、ZrO2、TiO2、C
aO等の酸化物を含むマグネシア系原料が用いられる。
本発明においては、これらのマグネシア系原料を粉砕す
るにあたり、水、好ましくは濃度0.1〜2.0重量%
程度の界面活性剤−を含有する水を添加量る。水の添加
により、マグネシアが消化し、得られる粒子の表面に部
分的に消化層が形成される。この部分消化層の形成によ
り、焼結性の改善が図れるが、部分消化層があまりに大
きいと、逆に焼結性が損なわれることとなる。従って、
水又は界面活性剤含有水の添加量は、得られる粒子表面
の部分消化割合が5〜30重量%、特に5〜15重量%
となるような量とするのが好ましい。この消化割合が5
重量%未溝では、消化層が粒子表面に均一に形成されず
、焼結性の改善効果が低く、30重量%を超えると焼結
時に成形体が割れたり、焼結晶の密度が上がらないなど
の問題点が生じることがある。
るにあたり、水、好ましくは濃度0.1〜2.0重量%
程度の界面活性剤−を含有する水を添加量る。水の添加
により、マグネシアが消化し、得られる粒子の表面に部
分的に消化層が形成される。この部分消化層の形成によ
り、焼結性の改善が図れるが、部分消化層があまりに大
きいと、逆に焼結性が損なわれることとなる。従って、
水又は界面活性剤含有水の添加量は、得られる粒子表面
の部分消化割合が5〜30重量%、特に5〜15重量%
となるような量とするのが好ましい。この消化割合が5
重量%未溝では、消化層が粒子表面に均一に形成されず
、焼結性の改善効果が低く、30重量%を超えると焼結
時に成形体が割れたり、焼結晶の密度が上がらないなど
の問題点が生じることがある。
なお、界面活性剤としては、特に制限はないが、一般に
は、エーテル型、エステル型、その化ノニオン系界面活
性剤等が用いられる。
は、エーテル型、エステル型、その化ノニオン系界面活
性剤等が用いられる。
粉砕により得られた部分消化微粒子は、次いで必要量の
水又は0.1〜2.0重量%濃度の界面活性剤含有水に
懸濁してスラリーとし、このスラリーをスリップキャス
ト法により成形する。
水又は0.1〜2.0重量%濃度の界面活性剤含有水に
懸濁してスラリーとし、このスラリーをスリップキャス
ト法により成形する。
得られた成形体は、乾燥後、必要に応じ仮焼した後14
00〜1700℃程度の温度で焼成される。
00〜1700℃程度の温度で焼成される。
なお、本発明の磁器の製造にあたり、焼結助剤を用いて
も良いが、本発明で成形に用いる部分消化微粒子は極め
て焼結性に優れるため、焼結助剤等は特に必要とされな
い。
も良いが、本発明で成形に用いる部分消化微粒子は極め
て焼結性に優れるため、焼結助剤等は特に必要とされな
い。
[作用]
本発明のマグネシア系磁器の製造方法は、アルコール等
の非水溶媒が不要であるため、低コストで実施でき、し
かも公害防止設備等も不要である。
の非水溶媒が不要であるため、低コストで実施でき、し
かも公害防止設備等も不要である。
しかして、本発明の方法により、マグネシア系原料の微
粒子の表面を部分消化した粒子は、極めて焼結性に優れ
、焼結粒子の粒界もきわめて小さく、焼結助剤を用いな
い場合であっても良く焼結する。この理由の詳細は明ら
かではないが、本発明で得られる部分消化微粒子は、マ
グネシア系微粒子の表面に水酸化マグネシウム層が被覆
された活性な状態にあり、単にマグネシアに水酸化マグ
ネシウムを混合した状態とは全く異なっていることによ
るものと推測される。
粒子の表面を部分消化した粒子は、極めて焼結性に優れ
、焼結粒子の粒界もきわめて小さく、焼結助剤を用いな
い場合であっても良く焼結する。この理由の詳細は明ら
かではないが、本発明で得られる部分消化微粒子は、マ
グネシア系微粒子の表面に水酸化マグネシウム層が被覆
された活性な状態にあり、単にマグネシアに水酸化マグ
ネシウムを混合した状態とは全く異なっていることによ
るものと推測される。
しかして、このように焼結性に優れた粒子を用いる本発
明のマグネシア系磁器の製造方法によれば、容易かつ良
好な成形及び焼結を行なうことができ、しかも得られる
磁器は緻密質で極めて強度の大きな磁器体となる。
明のマグネシア系磁器の製造方法によれば、容易かつ良
好な成形及び焼結を行なうことができ、しかも得られる
磁器は緻密質で極めて強度の大きな磁器体となる。
[実施例]
以下、実施例について説明する。
なお、以下の実施例において「%」は「重量%」を示す
。
。
実施例1
平均粒径0.5mmの電融マグネシア100重量部に0
.5%濃度の界面活性剤(エステル型ノニオン系界面活
性剤)の水溶液を粒子の部分消化量が5%、15%、3
0%となるように添加し、メデア攪拌型粉砕機で粉砕し
て、平均粒径20μm以下の電融マグネシア粒子を製造
した。
.5%濃度の界面活性剤(エステル型ノニオン系界面活
性剤)の水溶液を粒子の部分消化量が5%、15%、3
0%となるように添加し、メデア攪拌型粉砕機で粉砕し
て、平均粒径20μm以下の電融マグネシア粒子を製造
した。
次に、この粒子100重量部にそれぞれ前記界面活性剤
水溶液を45重量部加えてスラリー状とし、スリップキ
ャスト法により成形し、乾燥した後、第1表に示す温度
で焼成してマグネシア磁器を製造した。
水溶液を45重量部加えてスラリー状とし、スリップキ
ャスト法により成形し、乾燥した後、第1表に示す温度
で焼成してマグネシア磁器を製造した。
得られた磁器の密度を第1表に示す。
第1表
比較例1
実施例1において、界面活性剤の水溶液の代りにアルコ
ール(エチルアルコール)を用いたこと以外は同様にし
て成形を行い、乾燥後焼成した。
ール(エチルアルコール)を用いたこと以外は同様にし
て成形を行い、乾燥後焼成した。
得られた磁器の密度の測定結果は第2表に示す通りであ
った。
った。
第2表
第1表及び第2表より、本発明の方法によれば、極めて
高密度な焼結が可能で、緻密で高特性な磁器が得られる
ことが明らかである。
高密度な焼結が可能で、緻密で高特性な磁器が得られる
ことが明らかである。
なお、実施例1の方法において、材料の流動性は著しく
良好で、成形作業が極めて容易であった。
良好で、成形作業が極めて容易であった。
[発明の効果コ
以上詳述した通り、本発明のマグネシア系磁器の製造方
法によれば、非水溶媒を用いることなく低コストで容易
かつ効率的にマグネシア系磁器を製造することができる
。しかして、得られたマグネシア系磁器は、強度等の諸
特性に極めて優れる。
法によれば、非水溶媒を用いることなく低コストで容易
かつ効率的にマグネシア系磁器を製造することができる
。しかして、得られたマグネシア系磁器は、強度等の諸
特性に極めて優れる。
Claims (3)
- (1)マグネシア系原料を微粉砕して得られた粒子をス
リップキャスト法により成形、焼成してマグネシア系磁
器を製造する方法において、原料の粉砕工程で水を添加
して粒子の表面を部分消化し、得られた粒子をスラリー
状としてスリップキャスト法により成形した後焼成する
ことを特徴とするマグネシア系磁器の製造方法。 - (2)マグネシア系原料が、電融マグネシア又はデッド
バーンクリンカー状マグネシアであることを特徴とする
特許請求の範囲第1項に記載の方法。 - (3)粒子表面の部分消化量が5〜30重量%であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項に記載
の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62069891A JPS63236754A (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | マグネシア磁器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62069891A JPS63236754A (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | マグネシア磁器の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63236754A true JPS63236754A (ja) | 1988-10-03 |
| JPH0475865B2 JPH0475865B2 (ja) | 1992-12-02 |
Family
ID=13415798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62069891A Granted JPS63236754A (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | マグネシア磁器の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63236754A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5091609A (ja) * | 1973-12-12 | 1975-07-22 | ||
| JPS5127685A (en) * | 1974-08-30 | 1976-03-08 | Fujitsu Ten Ltd | Teisokusokokikoyo no shasokusetsuteidenatsushutsuryokusochi |
| JPS5729433A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-17 | Seikosha Co Ltd | Manufacture of synthetic resin hand |
-
1987
- 1987-03-24 JP JP62069891A patent/JPS63236754A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5091609A (ja) * | 1973-12-12 | 1975-07-22 | ||
| JPS5127685A (en) * | 1974-08-30 | 1976-03-08 | Fujitsu Ten Ltd | Teisokusokokikoyo no shasokusetsuteidenatsushutsuryokusochi |
| JPS5729433A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-17 | Seikosha Co Ltd | Manufacture of synthetic resin hand |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0475865B2 (ja) | 1992-12-02 |
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