JPS63236784A - メタライズペ−スト組成物 - Google Patents
メタライズペ−スト組成物Info
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- JPS63236784A JPS63236784A JP6989687A JP6989687A JPS63236784A JP S63236784 A JPS63236784 A JP S63236784A JP 6989687 A JP6989687 A JP 6989687A JP 6989687 A JP6989687 A JP 6989687A JP S63236784 A JPS63236784 A JP S63236784A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
Landscapes
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はセラミック配線基板に、電極や配線パターンを
印刷するのに使用するメタライズペースト組成物に関す
る。
印刷するのに使用するメタライズペースト組成物に関す
る。
[従来の技術]
セラミック配線基板用メタライズベース)Iff成物は
、導電性を賦与する金属粒子成分と、基板への固着剤成
分と、ペーストとしての物理的属性を与える有機バイン
ダー成分とから成っている。従来に於て、メタライズペ
ースト中の前記金属粒子成分には、基板を焼成する際の
酸化を防ぐため、銀、銀−パラジウム、金、白金等の貴
金属粒子が用いられている。また、固着剤成分には、ガ
ラス粉末が用いられ、有機バインダーには、樹脂と溶剤
と分散剤等から成るものが用いられている。
、導電性を賦与する金属粒子成分と、基板への固着剤成
分と、ペーストとしての物理的属性を与える有機バイン
ダー成分とから成っている。従来に於て、メタライズペ
ースト中の前記金属粒子成分には、基板を焼成する際の
酸化を防ぐため、銀、銀−パラジウム、金、白金等の貴
金属粒子が用いられている。また、固着剤成分には、ガ
ラス粉末が用いられ、有機バインダーには、樹脂と溶剤
と分散剤等から成るものが用いられている。
金属粉末成分として貴金属粉末を用いた前記従来のメタ
ライズペーストは、配線基板を大気中で焼成できる利点
はあるものの、導電材料に貴金属を使用するため、価格
変動が大きく、且つ高価であるという問題があった。
ライズペーストは、配線基板を大気中で焼成できる利点
はあるものの、導電材料に貴金属を使用するため、価格
変動が大きく、且つ高価であるという問題があった。
そこで、これらの問題を解消するため、導電粒子に銅粉
末を用いたメタライズペースト、いわゆる銅ペーストも
提案されている。銅は貴金属に比べて安価であり、電気
抵抗が銀に次いて低いことと、銀のようにマイグレーシ
ョンが生じ難い点が着目され、配線基板を非酸化雰囲気
中で焼成する手段を採用することにより、セラミッ配線
基板用のメタライズペーストとして使用されている。
末を用いたメタライズペースト、いわゆる銅ペーストも
提案されている。銅は貴金属に比べて安価であり、電気
抵抗が銀に次いて低いことと、銀のようにマイグレーシ
ョンが生じ難い点が着目され、配線基板を非酸化雰囲気
中で焼成する手段を採用することにより、セラミッ配線
基板用のメタライズペーストとして使用されている。
[発明が解決しようとする問題点コ
しかし、このような銅ペーストには次のような二つの問
題点がある。
題点がある。
一つに、銅の素材そのものは、貴金属に比して安価では
あるが、メタライズペースト用材料に適した2〜411
mの球状粒子は、容易に得られず、高価である。これは
、球形銅粉末の一般的な製造法である化学析出法によっ
て得られる銅粉は、微粉末であるが、生産効率が悪く、
多くの時間と労力を費やしても、僅かな生産量しか得ら
れないためである。
あるが、メタライズペースト用材料に適した2〜411
mの球状粒子は、容易に得られず、高価である。これは
、球形銅粉末の一般的な製造法である化学析出法によっ
て得られる銅粉は、微粉末であるが、生産効率が悪く、
多くの時間と労力を費やしても、僅かな生産量しか得ら
れないためである。
他の一つは、メタライズペーストに用いる有機バインダ
ー成分を、非酸化雰囲気中で完全に除去することは困難
で、特に銅の融点以下の温度では熱力学的に分解しない
といわれている。
ー成分を、非酸化雰囲気中で完全に除去することは困難
で、特に銅の融点以下の温度では熱力学的に分解しない
といわれている。
このため、配線基板の焼成工程に於て、非酸化雰囲気中
に若干の酸素を含ませるといった微妙な雰囲気コントロ
ールが必要とされ、焼成条件が極めて難しい。
に若干の酸素を含ませるといった微妙な雰囲気コントロ
ールが必要とされ、焼成条件が極めて難しい。
本発明の目的は、このような問題を解消することのでき
るメタライズペースト組成物を提供することにある。
るメタライズペースト組成物を提供することにある。
[問題を解決するための手段]
即ち、本発明によるメタライズベース)1M成物は、酸
化第一銅(Cu20) 粉末を100重量部と、マン
ガン化合物粉末を一酸化マンガン化合物換算で2〜10
重量部と、ガラス粉末を4〜20重量部と、有機バイン
ダーをペースト化に適する量含有するものである。
化第一銅(Cu20) 粉末を100重量部と、マン
ガン化合物粉末を一酸化マンガン化合物換算で2〜10
重量部と、ガラス粉末を4〜20重量部と、有機バイン
ダーをペースト化に適する量含有するものである。
[実 施 例コ
次ぎに、本発明の実施例とその使用例について、以下具
体的に説明する。
体的に説明する。
(実施例1)
酸化第一銅(Cu20) 粉末(平均粒径2.8u、
m) 100gと、−酸化マンガン(MnO)粉末(
平均粒径3.211m)4gと、ガラス粉末(日本電気
硝子社製GA−12、平均粒径2.ILLm) 10g
と、エタノール200m lと、オレイン酸(分散剤)
0.5gとを計量し、これらをボールミルに16時間か
けて混合した。次いで、該混合物を加熱乾燥してエタノ
ールを蒸発させ、固形分を解砕して混合粉末を得た。
m) 100gと、−酸化マンガン(MnO)粉末(
平均粒径3.211m)4gと、ガラス粉末(日本電気
硝子社製GA−12、平均粒径2.ILLm) 10g
と、エタノール200m lと、オレイン酸(分散剤)
0.5gとを計量し、これらをボールミルに16時間か
けて混合した。次いで、該混合物を加熱乾燥してエタノ
ールを蒸発させ、固形分を解砕して混合粉末を得た。
これとは別に、ブチルカルピトールアセテート100g
中に、エチルセルローズ12gを投入し、これを攪拌し
ながら温度70℃まで加熱して、エチルセルローズを完
溶させ、さらに室温まで自然冷却することにより、有機
バインダーを作った。
中に、エチルセルローズ12gを投入し、これを攪拌し
ながら温度70℃まで加熱して、エチルセルローズを完
溶させ、さらに室温まで自然冷却することにより、有機
バインダーを作った。
前記混合粉末100gと有機バインダー25gとオレイ
ン酸0.5gとを播潰機に入れて混合した後、三本ロー
ルミルで混練し、メタライズペーストを製作した。
ン酸0.5gとを播潰機に入れて混合した後、三本ロー
ルミルで混練し、メタライズペーストを製作した。
次に、該ペーストを使用し、別々のアルミナ基板(縦5
0mm、横120mm、厚さ0.8mm)上に、−辺1
.5mmの正方形パターン、−辺8mmの正方形パター
ン、及び巾0.3mm、長さ100mmの複数の線状パ
ターンをそれぞれスクリーン印刷し、これらを120℃
の温度で10分間乾燥した。乾燥後のメ・タライズペー
ストの塗布厚は、約35μmであった。
0mm、横120mm、厚さ0.8mm)上に、−辺1
.5mmの正方形パターン、−辺8mmの正方形パター
ン、及び巾0.3mm、長さ100mmの複数の線状パ
ターンをそれぞれスクリーン印刷し、これらを120℃
の温度で10分間乾燥した。乾燥後のメ・タライズペー
ストの塗布厚は、約35μmであった。
次いで、該アルミナ基板を、大気中で最高温度680℃
、全所要時間50分のメツシュベルト式トンネル炉を通
過させて、メタライズペーストに含まれる有機バインダ
ー成分を燃焼飛散させた。さらに、N2ガス96%−H
2ガス4%の混合ガスを毎時4m3の流量で供給するこ
とにより、還元性雰囲気に維持されたメツシュベルト式
トンネル炉に前記アルミナ基板を導入し、常温から95
0℃まで30℃/分の温度勾配で昇温し、続いて950
℃の温度をそのまま30分間維持した後、常温まで30
℃/分の温度勾配で降温する温度プロファイルでメタラ
イズペーストを焼成した。
、全所要時間50分のメツシュベルト式トンネル炉を通
過させて、メタライズペーストに含まれる有機バインダ
ー成分を燃焼飛散させた。さらに、N2ガス96%−H
2ガス4%の混合ガスを毎時4m3の流量で供給するこ
とにより、還元性雰囲気に維持されたメツシュベルト式
トンネル炉に前記アルミナ基板を導入し、常温から95
0℃まで30℃/分の温度勾配で昇温し、続いて950
℃の温度をそのまま30分間維持した後、常温まで30
℃/分の温度勾配で降温する温度プロファイルでメタラ
イズペーストを焼成した。
以上の手順に従って銅パターンが形成された基板を用い
、次の方法で半田の密着強度、シート抵抗、耐半田性、
半田濡れ性の試験と測定をそれぞれ実施した。
、次の方法で半田の密着強度、シート抵抗、耐半田性、
半田濡れ性の試験と測定をそれぞれ実施した。
先ず、半田の密着強度については、1.5mm角の銅パ
ターンを形成した基板を用い、これに0.6順φの錫メ
ッキ軟銅線の一端を基板面と平行に半田付けすると共に
、該軟銅線の他端をブッシュブルゲージに固定し、半田
付部が破断するまで基板面に対して垂直方向に引っ張る
ことにより行った。そして、破断した時点の荷重をプッ
シュプルゲージで読み取り、半田付面積1 mm2当り
の荷重に換算した。こうして50個の試料について単位
面積当りの破断加重を測定し、その平均値を密着強度と
して表1に示した。
ターンを形成した基板を用い、これに0.6順φの錫メ
ッキ軟銅線の一端を基板面と平行に半田付けすると共に
、該軟銅線の他端をブッシュブルゲージに固定し、半田
付部が破断するまで基板面に対して垂直方向に引っ張る
ことにより行った。そして、破断した時点の荷重をプッ
シュプルゲージで読み取り、半田付面積1 mm2当り
の荷重に換算した。こうして50個の試料について単位
面積当りの破断加重を測定し、その平均値を密着強度と
して表1に示した。
シート抵抗の測定は、ホイストンブリッジを用い、基板
に形成した幅0.3mm、長さ100mmの線状パター
ンの、長手方向の両端間の電気抵抗値を測定し、これを
単位面積当りの抵抗値に換算することにより行った。こ
うして50個の試料について単位面積当りの抵抗値を測
定し、その平均値をシート抵抗値として表1に示した。
に形成した幅0.3mm、長さ100mmの線状パター
ンの、長手方向の両端間の電気抵抗値を測定し、これを
単位面積当りの抵抗値に換算することにより行った。こ
うして50個の試料について単位面積当りの抵抗値を測
定し、その平均値をシート抵抗値として表1に示した。
耐半田性の評価については、シート抵抗測定後の前記基
板の線状パターンを、260℃±5℃に保温された溶融
半田(63S n −37P b )槽内に10秒間浸
漬してから取り出し、線状パターンを目視することを1
サイクルとし、これをパターンの断線が見られるまで繰
り返すことにより行った。その結果、1〜3回で断線が
見られたものを不可、4〜6回で断線が見られたものを
可、7〜9回で断線が見られたものを良、10回以上で
断線が見られないものを優とし、この結果を表1に示し
た。
板の線状パターンを、260℃±5℃に保温された溶融
半田(63S n −37P b )槽内に10秒間浸
漬してから取り出し、線状パターンを目視することを1
サイクルとし、これをパターンの断線が見られるまで繰
り返すことにより行った。その結果、1〜3回で断線が
見られたものを不可、4〜6回で断線が見られたものを
可、7〜9回で断線が見られたものを良、10回以上で
断線が見られないものを優とし、この結果を表1に示し
た。
半田濡れ性の評価試験については、8mm角の銅パター
ンを形成した基板を用い、該銅パターンを25%ロジン
に浸漬した後、230℃±5℃に保温された溶融半田(
63S n −37P b )槽内に5秒間浸漬し、取
り出し、半田の濡れ程度を見ることにより行った。この
結果、半田濡れ面積が銅面積の80%に満たないものを
不可、80〜95%を可、96〜99%を良、100%
を優とし、これを表1のElの欄に示した。
ンを形成した基板を用い、該銅パターンを25%ロジン
に浸漬した後、230℃±5℃に保温された溶融半田(
63S n −37P b )槽内に5秒間浸漬し、取
り出し、半田の濡れ程度を見ることにより行った。この
結果、半田濡れ面積が銅面積の80%に満たないものを
不可、80〜95%を可、96〜99%を良、100%
を優とし、これを表1のElの欄に示した。
(実施例2〜5)
表1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中の一酸化マンガンの量を4gから各々2g、6g
、8g、10gに変え、それ以外は同実施例1と同じ方
法と条件で実施例2〜5を実施した。これらの結果を表
1のE2〜5の欄に示す。
スト中の一酸化マンガンの量を4gから各々2g、6g
、8g、10gに変え、それ以外は同実施例1と同じ方
法と条件で実施例2〜5を実施した。これらの結果を表
1のE2〜5の欄に示す。
(実施例6〜9)
表1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中のガラス粉末の量を10gから各々4g、7g、
15g、20gに変え、それ以外は実施例1と同じ方法
と条件で実施例6〜9を実施した。これらの結果を表1
のE6〜9の欄に示す。
スト中のガラス粉末の量を10gから各々4g、7g、
15g、20gに変え、それ以外は実施例1と同じ方法
と条件で実施例6〜9を実施した。これらの結果を表1
のE6〜9の欄に示す。
(実施例10〜12)
表1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中のガラス粉末の種類を、日型硝子社製GA−12
から、日型硝子社製GA−4、同Ls−0500、同G
A−13に換え、それ以外は実施例1同じ方法と条件で
実施例10〜12を実施した。
スト中のガラス粉末の種類を、日型硝子社製GA−12
から、日型硝子社製GA−4、同Ls−0500、同G
A−13に換え、それ以外は実施例1同じ方法と条件で
実施例10〜12を実施した。
これらの結果を表10EIO〜12の欄に示す。
(実施例13)
衷1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中の一酸化マンガン4gを四酸化マンガン(M n
30 a) 4.3g (M n O換算で4g)に
換え、それ以外は実施例1同じ方法と条件で実施例13
を実施した。この結果を表10E13の欄に示す。
スト中の一酸化マンガン4gを四酸化マンガン(M n
30 a) 4.3g (M n O換算で4g)に
換え、それ以外は実施例1同じ方法と条件で実施例13
を実施した。この結果を表10E13の欄に示す。
(実施例14)
表1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中の一酸化マンガン4gを三酸化マンガン(M n
203) 4.58 (M n O換算で4g)に換
え、それ以外は実施例1同じ方法と条件で実施例14を
実施した。この結果を表1のEl4の欄に示す。
スト中の一酸化マンガン4gを三酸化マンガン(M n
203) 4.58 (M n O換算で4g)に換
え、それ以外は実施例1同じ方法と条件で実施例14を
実施した。この結果を表1のEl4の欄に示す。
(実施例15)
表1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中の一酸化マンガン4gを二酸化マンガン(Mn
02) 4.9g (Mn O換算で4g)に換え、そ
れ以外は実施例1同じ方法と条件で実施例15を実施し
た。この結果を表10E15の欄に示す。
スト中の一酸化マンガン4gを二酸化マンガン(Mn
02) 4.9g (Mn O換算で4g)に換え、そ
れ以外は実施例1同じ方法と条件で実施例15を実施し
た。この結果を表10E15の欄に示す。
(実施例16)
表1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中の一酸化マンガン4gを炭酸マンガン(Mn C
O3) 6.5g (Mn O換算で4g)に換え、そ
れ以外は実施例1同じ方法と条件で実施例16を実施し
た。この結果を表1のE16の欄に示す。
スト中の一酸化マンガン4gを炭酸マンガン(Mn C
O3) 6.5g (Mn O換算で4g)に換え、そ
れ以外は実施例1同じ方法と条件で実施例16を実施し
た。この結果を表1のE16の欄に示す。
(実施例17)
表1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中の一酸化マンガン4g(MnO)を、−酸化マン
ガン(MnO)2gと四酸化マンガン(Mn30a)2
.15gとに換え(合計MnO換算で4g)、かつ、ガ
ラス粉末を日本電気硝子社製のGA−12から日本琺瑯
釉薬社製の4101番に換え、それ以外は実施例1同じ
方法と条件で実施例17を実施した。この結果を表1の
E17の欄に示す。
スト中の一酸化マンガン4g(MnO)を、−酸化マン
ガン(MnO)2gと四酸化マンガン(Mn30a)2
.15gとに換え(合計MnO換算で4g)、かつ、ガ
ラス粉末を日本電気硝子社製のGA−12から日本琺瑯
釉薬社製の4101番に換え、それ以外は実施例1同じ
方法と条件で実施例17を実施した。この結果を表1の
E17の欄に示す。
(実施例1日)
衷1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中の一酸化マンガン4g(MnO)を、−酸化マン
ガン2gと炭酸マンガン(Mn C03) 3.24g
とに換え(合計MnO換算で4g)、かつ、ガラス粉末
を日本電気硝子社製のGA−12から日本琺瑯釉薬社製
の4121番に換え、それ以外は実施例1同じ方法と条
件で実施例J8を実施した。この結果を表10E1Bの
欄に示す。
スト中の一酸化マンガン4g(MnO)を、−酸化マン
ガン2gと炭酸マンガン(Mn C03) 3.24g
とに換え(合計MnO換算で4g)、かつ、ガラス粉末
を日本電気硝子社製のGA−12から日本琺瑯釉薬社製
の4121番に換え、それ以外は実施例1同じ方法と条
件で実施例J8を実施した。この結果を表10E1Bの
欄に示す。
(実施例19)
表1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中の一酸化マンガン4g(MnO)を、四酸化マン
ガン(Mn30*) 2.15gと三酸化マンガン(M
n203)2.22gと炭酸マンガン(Mn C03)
3.24gとに換え(合計MnO換算で6g)、かつ
、ガラス粉末を日本電気硝子社製のGA−12から日本
琺瑯釉薬社製の4138番に換え、それ以外は実施例1
同じ方法と条件で実施例19を実施した。この結果を表
1のE19の欄に示す。
スト中の一酸化マンガン4g(MnO)を、四酸化マン
ガン(Mn30*) 2.15gと三酸化マンガン(M
n203)2.22gと炭酸マンガン(Mn C03)
3.24gとに換え(合計MnO換算で6g)、かつ
、ガラス粉末を日本電気硝子社製のGA−12から日本
琺瑯釉薬社製の4138番に換え、それ以外は実施例1
同じ方法と条件で実施例19を実施した。この結果を表
1のE19の欄に示す。
(実施例20)
表1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中の一酸化マンガン4g(MnO)を、四酸化マン
ガン(Mn30a)2.15gと三酸化マンガン(Me
2n3)2.22gと二酸化マンガン(Mn 02)
2.45gとに換え(合計MnO換算で6g)、かつ、
ガラス粉末を日本電気硝子社製のGA−12から日本琺
瑯釉薬社製の6310番に換え、それ以外は実施例1同
じ方法と条件で実施例20を実施した。この結果を表1
のE20の欄に示す。
スト中の一酸化マンガン4g(MnO)を、四酸化マン
ガン(Mn30a)2.15gと三酸化マンガン(Me
2n3)2.22gと二酸化マンガン(Mn 02)
2.45gとに換え(合計MnO換算で6g)、かつ、
ガラス粉末を日本電気硝子社製のGA−12から日本琺
瑯釉薬社製の6310番に換え、それ以外は実施例1同
じ方法と条件で実施例20を実施した。この結果を表1
のE20の欄に示す。
(比較例1〜2)
衷1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中の一酸化マンガンの量を4gから各々1gと12
gに変え、それ以外は実施例1と同じ方法と条件で比較
例1と2を実施した。
スト中の一酸化マンガンの量を4gから各々1gと12
gに変え、それ以外は実施例1と同じ方法と条件で比較
例1と2を実施した。
その結果を表1の01、C2の欄に示す。
(比較例3〜4)
表1に示す通り、前記実施例1に於て、メタライズペー
スト中のガラス粉末の量を10gから各々2gと25g
に変え、それ以外は実施例1と同じ方法と条件で比較例
3と4を実施した。その結果を表1のC3,C4の欄に
示す。
スト中のガラス粉末の量を10gから各々2gと25g
に変え、それ以外は実施例1と同じ方法と条件で比較例
3と4を実施した。その結果を表1のC3,C4の欄に
示す。
以上実施例1〜20の結果が示すように、メタライズペ
ースト中のマンガン化合物は、その−酸化マンガンに換
算したときの量が酸化第一銅100重量部に対して2〜
10重量部の範囲にあるときは、メタライズされた銅の
緻密性の向上寄与し、半田付の密着性と耐ハンダ性の向
上に有効である。しかも、十分良好な半田濡れ性が得ら
れる。これに対し、メタライズペースト中の前記マンガ
ン化合物の量が、酸化第一銅100重量部に対して一酸
化マンガンに換算して2重量部未満では、比較例1の結
果が示すように、半田付密着強度がI Kg/mm2以
下となり、耐ハンダ性も悪く、好ましくない。他方、1
0重量部を超えると、比較例2のように、半田濡れ性が
悪くなり、好ましくない。従って本発明では、メタライ
ズペースト中のマンガン化合物の量を、上記範囲に限定
した。
ースト中のマンガン化合物は、その−酸化マンガンに換
算したときの量が酸化第一銅100重量部に対して2〜
10重量部の範囲にあるときは、メタライズされた銅の
緻密性の向上寄与し、半田付の密着性と耐ハンダ性の向
上に有効である。しかも、十分良好な半田濡れ性が得ら
れる。これに対し、メタライズペースト中の前記マンガ
ン化合物の量が、酸化第一銅100重量部に対して一酸
化マンガンに換算して2重量部未満では、比較例1の結
果が示すように、半田付密着強度がI Kg/mm2以
下となり、耐ハンダ性も悪く、好ましくない。他方、1
0重量部を超えると、比較例2のように、半田濡れ性が
悪くなり、好ましくない。従って本発明では、メタライ
ズペースト中のマンガン化合物の量を、上記範囲に限定
した。
メタライズペースト中のガラス粉末は、その量が酸化第
一銅100重量部に対して4〜20重量翻の範囲にある
ときは、メタライズされた銅の半田に対する密着強度の
向上に有効であり、しかも、十分良好な半田濡れ性と十
分低いシート抵抗が得られる。これに対し、メタライズ
ベースト中の前記ガラス粉末の量が、酸化第一銅100
部に対して4重量部未満では、比較例3の結果が示すよ
うに、メタライズされた銅の半田に対する密着強度が弱
く、I Kg/mm2以下となるため、好ましくない。
一銅100重量部に対して4〜20重量翻の範囲にある
ときは、メタライズされた銅の半田に対する密着強度の
向上に有効であり、しかも、十分良好な半田濡れ性と十
分低いシート抵抗が得られる。これに対し、メタライズ
ベースト中の前記ガラス粉末の量が、酸化第一銅100
部に対して4重量部未満では、比較例3の結果が示すよ
うに、メタライズされた銅の半田に対する密着強度が弱
く、I Kg/mm2以下となるため、好ましくない。
一方、これが20重量部を超えると、比較例4の結果が
示すように、半田濡れ性が悪く、シート抵抗が急激に高
くなるため、好ましくない。従って本発明では、メタラ
イズペースト中のガラス粉末の量を、上記の範囲に限定
した。
示すように、半田濡れ性が悪く、シート抵抗が急激に高
くなるため、好ましくない。従って本発明では、メタラ
イズペースト中のガラス粉末の量を、上記の範囲に限定
した。
本発明によるメタライズペーストにおいては、メタライ
ズされた銅に導電性を賦与するための粒子が酸化第−銅
粉末であるが、導電材料として、この酸化第一銅を用い
ることにより、空気中で加熱して有機バインダーを完全
に飛散させた後、H24含むN2ガス中で焼成し、メタ
ライズすることが可能である。そしてこの場合に、焼成
炉内に送り込む前記還元性のガスの量は、従来の173
程度の量で済む。
ズされた銅に導電性を賦与するための粒子が酸化第−銅
粉末であるが、導電材料として、この酸化第一銅を用い
ることにより、空気中で加熱して有機バインダーを完全
に飛散させた後、H24含むN2ガス中で焼成し、メタ
ライズすることが可能である。そしてこの場合に、焼成
炉内に送り込む前記還元性のガスの量は、従来の173
程度の量で済む。
[発明の効果コ
以上説明したように、本発明によれば、メタライズペー
スト中に含ませる導電性を賦与するための粒子として、
酸化第一銅を用いることにより、金属銅粉末を用いる場
合に比べて、導電材料の単価を大幅に低減(現状の素材
価格では約1710以下)することができ、メタライズ
ペーストの価格低減を図ることが出来る。しかも、空気
中で加熱して有機バインダーを完全に飛散させることが
可能なため、有機バインダーの除去及び焼成工程が容易
になり、生産性の向上とメタライズされた銅の性状の安
定化を図ることができる。
スト中に含ませる導電性を賦与するための粒子として、
酸化第一銅を用いることにより、金属銅粉末を用いる場
合に比べて、導電材料の単価を大幅に低減(現状の素材
価格では約1710以下)することができ、メタライズ
ペーストの価格低減を図ることが出来る。しかも、空気
中で加熱して有機バインダーを完全に飛散させることが
可能なため、有機バインダーの除去及び焼成工程が容易
になり、生産性の向上とメタライズされた銅の性状の安
定化を図ることができる。
Claims (1)
- 酸化第一銅粉末を100重量部とマンガン化合物粉末を
一酸化マンガン換算で2〜10重量部と、ガラス粉末を
4〜20重量部と、有機バインダーをペースト化に適し
た量含有するメタライズペースト組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6989687A JPS63236784A (ja) | 1987-03-23 | 1987-03-23 | メタライズペ−スト組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6989687A JPS63236784A (ja) | 1987-03-23 | 1987-03-23 | メタライズペ−スト組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63236784A true JPS63236784A (ja) | 1988-10-03 |
Family
ID=13415925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6989687A Pending JPS63236784A (ja) | 1987-03-23 | 1987-03-23 | メタライズペ−スト組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63236784A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5261950A (en) * | 1991-06-26 | 1993-11-16 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Composition for metalizing ceramics |
| CN109994246A (zh) * | 2017-12-15 | 2019-07-09 | 住友金属矿山株式会社 | 厚膜导体形成用粉末组合物以及厚膜导体形成用浆料 |
-
1987
- 1987-03-23 JP JP6989687A patent/JPS63236784A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5261950A (en) * | 1991-06-26 | 1993-11-16 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Composition for metalizing ceramics |
| CN109994246A (zh) * | 2017-12-15 | 2019-07-09 | 住友金属矿山株式会社 | 厚膜导体形成用粉末组合物以及厚膜导体形成用浆料 |
| CN109994246B (zh) * | 2017-12-15 | 2022-05-10 | 住友金属矿山株式会社 | 厚膜导体形成用粉末组合物以及厚膜导体形成用浆料 |
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