JPS63237312A

JPS63237312A - 音響・画像機器用電線

Info

Publication number: JPS63237312A
Application number: JP7284687A
Authority: JP
Inventors: 由弘中井; 信二稲澤; 澤田　和夫
Original assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date: 1987-03-25
Filing date: 1987-03-25
Publication date: 1988-10-03
Anticipated expiration: 2012-02-19
Also published as: JP2582067B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］この発明は、音響機器および画像ｍ器の配線に使用され
る電線に関し、たとえば、ステレオやＶＴＲなどの配線
に使用される電線に関するものである。

［従来の技術１ステレオやＶＴＲなどの配線に使用される電線としては
、従来から銅線の単線または撚線が使用されている。こ
の銅線の単線または１！線上に有機物による絶縁被覆が
施される。

［発明が解決しようどする問題点］近年、音響機器や画像機器の性能の向上につれて、それ
らによって得られる音や画像の質が機器内および機器外
の配線に使用される電線の質に左右されるようになって
きている。従来では、上述のように、有機物絶縁被覆の
みを施した銅線がステレオやＶ　Ｔ　Ｒ等の音響・画像
機器の配線に用いられている。このような有機物被覆銅
線による配線では、より高性能の音響・画像機器を用い
ても、得られる音質や画質が配線による音響・画像信号
の伝達性に影響され、あまり向上しないという問題点が
あった。

この発明の目的は、有機物絶縁被覆のみを施した電線よ
りも優れた、音響・画像信号の伝達性を示す音響・画像
機器用電線を提供することである。

［問題点を解決するための手段］この発明に従った音響・画像機器用電線は、導体の表面
に、ゾル−ゲル法によりアルコキシドを反応させて形成
された酸化物セラミックスからなる被膜を有するもので
ある。

［発明の作用効果］音響・画像信号を伝達する高周波電流は、表皮効果によ
り導体の表層近傍を流れる。そのため、音響・画像信号
の伝達は、導体表面を被覆している物質の影響を非常に
受けやすいと考えられる。

そこで、導体表面に接する物質の硬度が高ければ高いほ
ど、音響・画像信号の伝達は良好で、得られる音質や画
質が向上することが本願発明者等の実験により認められ
た。この発明は、このような本願発明者等の知見に基づ
くものである。

従来から絶縁物として用いられている有機物被膜では、
導体に有機物を焼付ける温度を高くすることにより、被
膜の硬さを増加させることができる。ところが、酸化物
セラミックスからなる被膜を導体表面に形成した場合、
有機物被膜に比し、非常に硬い被膜が得られる。したが
って、導体の表面に酸化物セラミックスからなる被膜を
形成する。このとき、絶縁効果を得るためには、酸化物
セラミックス膜の上に有機物等の絶縁物で被覆すればよ
い。または比抵抗がｌＸ１０’Ωｃｍ以上の酸化物セラ
ミックス膜を形成すればよい。この酸化物セラミックス
被覆′Ｒ線を音響・画像機器の配線に用いると、有機物
被覆のみの電線を使用した場合に比較して優れた音響・
画像信号の伝達性を示し、良好な音質・画像が１ｑられ
る。さらに、この鹸化物セラミックスは耐熱性を有する
ので、たとえば、高出力のスピーカ用ボイスコイルなど
の部材に好適である。この発明において導体は導電性の
高いものであればよく、Ｃｔｌや／ｌが好ましい。さら
に、その純度が９９．９％以上であれば、より優れた音
響・画像信号の伝達性を示す。また、被膜を形成する酸
化物セラミックスはビッカース硬度で１００ｋｇ／ｒＡ
Ｉｌ１２を超えていればよい。たとエバ、８１０２　、
Ｔｉ　０２　、Ａ１１ｚ　Ｏｓなどの酸化物セラミック
スが好ましい。

なお、本発明による音響・画像機器用電線において酸化
物セラミックス膜を形成する方法は、ゾル−ゲル法と呼
ばれる方法で、具体的には、まず、目的とする酸化物セ
ラミックスに含まれる元素のアルコキシドを溶かしたア
ルコール溶液に水、および触媒として酸を加え、加水分
解、および脱水縮合反応を起こさせた溶液を導体表面に
塗布する。

その後、数百度に加熱焼成することによって酸化物セラ
ミックス膜を１りる。このとき、加熱焼成工程は減圧下
において行なってもよ＜、モのとき加熱湿度の低温化が
図れる。また、溶液を塗布する代わりに、溶液に導体を
浸）口することによって酸化物セラミックス膜を形成し
てもよい。

また、導体の表面に酸化物セラミックス膜を形成する方
法としては、ゾル−ゲル法のほかにｃｖＤ法、プラズマ
ＣｖＤ法、イオンブレーティング法などの気相′ａＦ！
成長法があるが、ゾル−ゲル法によると、気相薄膜成長
法に比し、銅などの導体に対して強い密着力を持つ酸化
物セラミックス膜が得られるという利点がある。さらに
、ゾルーゲル法によって形成された酸化物セラミックス
膜は可撓性を有するので電線を撓んだ状態で使用しても
、はく離することがない。ゾル−ゲル法によって膜を形
成する方法は、気相薄膜成長法に比べて、プラズマ発生
装置や膜材料の加熱装置などの特殊な設備を必要とＶず
、低温度での成膜法で工業的に容易に利用され、材料的
にも設備的にも低コストである。

形成されるｆｆ１Ｊ厚が０．１μｍ未満であれば、導体
表面近傍の硬度増加の効果がほとんどない。一方、３０
μｍを超える膜厚であれば上記効果が飽和し、また被膜
形成に要する時間が長くかかる。

したがって、酸化物セラミックス膜は膜ｆｇ０．１μｍ
以上３０μｍ未満のものが望ましい。

さらに、導体と表層部を構成する酸化物セラミックスと
は、それぞれ単層または亀−材料で構成されるものに限
らない。たとえば、導体と表層部との’！！ｒＭ性を向
上させるために別の導体または酸化物セラミックスから
なる中間層を形成させてもよい。導体表面近傍の硬度、
すｄわち酸化物セラミックスの硬度に中間層の硬度を加
えた見かけの硬度が高くなればよい。セラミックス膜を
複数層重ねて形成させてもよい。

この発明で使用される導体は、たとえば単線で単線表面
に酸化物セラミックス膜を形成したものである。しかし
、導体が複数本の導体素線を集合して撚線にしたもので
、酸化物セラミックス膜が各導体素線表面に形成された
ものであってもよい。

［実施例］以下に示すように、本発明に従った酸化物セラミックス
膜を導体表面に形成した電線（本発明例）と、従来の有
機物被覆のみを有する電線（比較例）を作製した。

なお、酸化物セラミックス（８１０２、Δ立。

Ｏｓ　、Ｔｉ　Ｏ□）からなる膜を形成するためのアル
コキシドを含むコーティング溶液としては、それぞれ次
のような混合溶液を用いた。

コーティング溶液１（ＳＩＯＩ／テトラｎ−ブチルオルトシリケート（（ｎ　−Ｃ４Ｈｓ
　Ｏ）　４８１　）を９６１１０１含むブタノール（ｎ
　　Ｃ＝８９０８）溶液と、水を１５０ａ＋ｍｏｌおよ
び硝酸を１．０ｍｍｏｌ含むブタノール溶液とを攪拌混
合し、２時間還流させたもの。

コーディング溶液２　＜Ａｌ１０．膜。

アルミニウムイソプロポキシド（（ｉ　−Ｃ，Ｈ２Ｏ）
、△之）を５Ｑｍｍｏｌ含むインプロピルアルコール（
ｉｃａｌゴ、０ｌ−１）溶液と、水を５０ｍ１Ｏ１およ
び硝酸を１，０１１１１１１０１含むイソプロピルアル
コール溶液とを攪拌混合し、２時間還流させたもの。

コーティング溶液３　（ＴＩ　Ｏ？牧形　Ｉチタンイソ
プロポキシド（（ｉ　　Ｃ＝　Ｈｔ　Ｏ）４丁１）を５
０ｍｍｏｌ含むイソプロピルアルコール（ｉ　−Ｃ．　
Ｉ−Ｉ，　ＯＨ）溶液と、水を５０ｍｍｏｌｃｆ５よび
硝酸を１，０１１１１１０１含むイソプロピルアルコー
ル溶液とを攪拌混合し、２時間還流さぼたもの。

”ｔ　　　　（１１列純度９９．９９％の銅からなる、直径３．ＯｆｆｌＩｌ
ｌφの銅線を温度５０℃に保持したコーティング溶液１
に浸漬し、１０ＣＩＩ／１ｎの速度で引き上げた。

その後、温度１５０℃で１０分間大気中においてこの銅
線を加熱することによって乾燥し、さらに温度５００℃
で１０時間加熱焼成して、その銅線の表面に膜厚１８μ
ｍの８１０２膜を形成したもの。

電線２（本純度９９．９９％の銅からなる、直径３．０ｍｉφの銅
線を温度５０℃に保持したコーティング溶液２に浸漬し
、１０ｃｍ／ｍｉｎの速度で引き上げた。

その後、温度１５０℃で１０分間大気中においてこの銅
線を加熱することによって乾燥し、さらに温度５００℃
で１０時間加熱焼成して、その銅線の表面に膜厚１８μ
層のΔ見２０ａ膜を形成したもの。

電１３（本発明１Ｊ厚度９９．９９％の銅からなる、直径３．０ｍ市φ
の銅線を温度５０℃に保持したコーティング溶液３に浸
漬し、ＩＯＣＩＩＩ／ｆｌｌｉｎの速度で引き上げた。

その後、温度１５０℃で１０分間大気中においてこの銅
線を加熱することによって乾燥し、さらに１ｆｌ！５０
０℃で１０時間加熱焼成して、そのｒ１４線の表面にＦ
ｔ厚１８μｍのＴｌＯ２１１Ｑを形成したもの。

電線４（本純度９９．９９％の銅からなる、直径０．２５＋１１１
φの銅線を温度５０℃に保持したコーティング溶液１に
浸漬し、１０ｃｍ＋／ｗｉｎの速度で引き上げた。その
後、温度１５０℃で１０分間大気中においてこのｔｉ４
１！ｆｌを加熱することによって乾燥し、さらに温度５
００℃で１０時間加熱焼成して、その表面に膜厚１８μ
請のＳ＋　Ｏ２膜を形成した銅線を１４４本撚り合わせ
た。もの。

電線５（本発明例純度９９．９９％のアルミニウムからなる、直径３．Ｏ
ｓｖ＋φのアルミニウム線をＩＩＩＪ！５０℃に保持し
たコーディング溶液１に浸漬し、ｉｏｃｍ／＋ｍｔｎの
速度で引き上げた。その後、温度１５０℃で１０分間大
気中においてこのアルミニウム線を加熱することによっ
て乾燥し、さらに温度５００℃で１０時間加熱焼成して
、そのアルミニウム線の表面に膜厚１８μｍの３ｉ０ｚ
ｌＢ３を形成したもの。

６（発明例純１１１ｔ９９．９９％の銅からなる、直径３．Ｏｎｍ
の銅線に厚さ３μｍのニッケルめっきしたものを、温度
５０℃に保持したコーティング溶液１に浸漬し、１０Ｃ
Ｉｌ／１ａｉｎの速度で引き上げた。その後、温度１５
０℃で１０分間大気中において、このニッケルめっき銅
線を加熱することによって乾燥し、さらに温度５００℃
で１０時間加熱焼成して、そのニッケルめっき銅線の表
面に膜厚１８μｍの５ｉ０２１１ｓＩを形成したもの。

ただし、電線１．２，３．４．５．６において、各導体
をそれぞれコーティング溶液に浸漬する前には、次に示
すような前処理を行なった。

各導体を１．ＯＮの水酸化ナトリウム溶液に浸漬するこ
とによって脱脂した後、脱イオン水で洗浄した。さらに
、この導体に２．ＯＮの硝酸水溶液で酸洗処理を施した
。その襖、脱イオン水で洗浄した。

電線７（比較　）直径が３．Ｏａａ＋φの無酸素銅線をポリビニルホルマ
ールと有機溶剤を含む溶液中に浸漬し、取出後温度３２
０℃に保たれた加熱炉に通すことにより、その表面に膜
厚１８μｍのポリビニルホルマール膜を形成したもの。

電線８（比較直径が３，０１１＋１φの無酸素導線をポリビニルホル
マールと有機溶剤を含む溶液中に浸漬し、取出Ｗ！湯温
度１０℃に保たれた加熱炉に通すことにより、その表面
にＦ１７１８μｍのポリビニルホルマール膜を形成した
もの。

１！ｔられた８種類の電線１〜８をステレオ・ビデオの
配線材として使用して音質を比較評価した。

音質の評価は、１００名の試聴者に対して試み、以下の
４項目に関してすべて優れていると回答した人数で示し
た。

（１）　音のバランス（２）　透明感（３）　鮮明度（４）　豊かさ評価結果は以下のとおりである。

評価（人）電線１〈本発明例）９３２（本発明例）９４３（本発明例）９５４〈本発明例）９２５（本発明例）９４６（本発明例）９３７（比較例）３つ８（比較例）３６以上の結果から明らかｔｌように、８１０２膜、Ａｌ１
２０．牧、Ｔｉ　Ｑ、膜を導体表面に形成した電線１．
２．３．４．５．６はポリビニルホルマール膜を形成し
た電線７．８に比し、音質は優れていることがわかった
。

（ばか２名）

Claims

【特許請求の範囲】

（１）導体の表面に、ゾル−ゲル法によりアルコキシド
を反応させて形成された酸化物セラミックスからなる被
膜を有する音響・画像機器用電線。
（２）前記導体が、ＣｕまたはＡｌである、特許請求の
範囲第１項記載の音響・画像機器用電線。
（３）前記導体が、純度９９．９％以上のＣｕまたはＡ
ｌである、特許請求の範囲第１項記載の音響・画像機器
用電線。
（４）前記酸化物セラミックスが、ＳｉＯ＿２、ＴｉＯ
＿２、Ａｌ＿２Ｏ＿３からなる群から選ばれた少なくと
も１つの化合物を含む酸化物セラミックスである、特許
請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の音響
・画像機器用電線。
（５）前記酸化物セラミックスのビッカース硬度が、１
００ｋｇ／ｍｍ＾２以上である、特許請求の範囲第１項
ないし第４項のいずれかに記載の音響・画像機器用電線
。
（６）前記被膜が、０．１μｍ以上３０μｍ未満の膜厚
である、特許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれか
に記載の音響・画像機器用電線。
（７）前記導体は、複数本の導体素線を集合して撚線に
したものであり、前記酸化物セラミックス被膜は、前記
各導体素線表面に形成されている、特許請求の範囲第１
項ないし第６項のいずれかに記載の音響・画像機器用電
線。
（８）前記被膜の上に有機物被覆を有してなる、特許請
求の範囲第１項ないし第７項のいずれかに記載の音響・
画像機器用電線。