JPS63239960A - 銅細線及びその製造方法 - Google Patents

銅細線及びその製造方法

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JPS63239960A
JPS63239960A JP62073742A JP7374287A JPS63239960A JP S63239960 A JPS63239960 A JP S63239960A JP 62073742 A JP62073742 A JP 62073742A JP 7374287 A JP7374287 A JP 7374287A JP S63239960 A JPS63239960 A JP S63239960A
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ppm
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copper wire
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JP62073742A
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Masaaki Kurihara
正明 栗原
Toru Tanigawa
徹 谷川
Shoji Shiga
志賀 章二
Toshiaki Inaba
稲葉 年昭
Ichiro Kaga
加賀 一郎
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FURUKAWA TOKUSHU KINZOKU KOGYO KK
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
FURUKAWA TOKUSHU KINZOKU KOGYO KK
Furukawa Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子機器用途に用いられる銅細線に関し、特に
半導体製造に使用するボンディングワイヤーを安価に提
供するものである。
(従来の技術) ICやトランジスタ等の半導体の製造には3iチツプ上
に組まれた回路素子と外部の電源との接続や外部との情
報の交換を行なうために回路素子に接続したパッドと半
導体のリード間に線径15〜100μmの金、アルミニ
ウムあるいはアルミニウム合金等の細線が用いられてい
る。
(発明が解決しようとする問題点〕 上記細線のうちアルミニウムやアルミニウム合金は外部
電源もアルミニウム又はアルミニウム合金であるのでこ
れらの接続は同種金属同士で行なえるという利点を有し
、かつ安価ではあるがボールボンドが困難であるため、
生産性に劣る超音波を用いるウェッジボンドが行なわれ
ており、ざらに耐食性に劣るため樹脂封止型半導体では
透湿水によりワイヤの腐食が生じるので専ら一部の気密
封止型半導体に使用されているだけである。
一方金は耐食性に優れ、生産性の高いボールボンディン
グを利用できる等の利点を有しており、樹脂封止型の半
導体を中心に広く利用されている。しかし、素材でおる
金が著しく高価であり、また電極パッドのアルミニウム
やアルミニウム合金と脆弱なAu−Afの金属間化合物
を形成したり、あるいは透湿水の存在下でアルミニウム
と電食対を形成してアルミニウムを腐食せしめる等によ
り、電気回路の断線を生じることが知られている。特に
半導体の高密度集積化によって発生する熱による温度上
昇やチップ面積の増大により透湿水経路の短縮とともに
多ピン化のための信頼性の大幅な低下が懸念されている
。
このため最近鋼のワイヤが種々提案されているが、銅の
ワイヤはその変形能が金に対して劣り、パッド下にクラ
ックを生じたり、外部電極のアルミニウムとの接合が不
十分であるという問題点を生じている。特に高集積IC
では電極パッド下に5iOz等の脆い絶縁層が存在する
例が多く、問題となっていた。
(問題点を解決するための手段〕 本発明はこれに鑑み種々検討の結果、長期信頼性の面で
は脆弱な界面相の形成がAuの数分の1以下でおり、ポ
ールボンディングにおいては電極パッドのA1との接合
性が良いのでボール浮き率が小さく、さらには低荷重、
低超音波出力を要求される高集積ICにおいても良好な
ボンディング特性が得られる銅細線及びその製造方法を
開発したものである。これにより、Auに比べはるかに
安価で変形能に優れ、ワイヤ強度が高く、常温軟化によ
るループのダレを生じないワイヤの供給が可能となった
。
即ち、本発明銅細線はZn0.1〜91)pm。
3e0.1〜9ppmの1種又は2種とCr0.1〜9
1)I)mを合計で0.2〜9.5ppm含み、残部C
uからなることを特徴とするものである。また本発明製
造方法はZn0.1〜9ppm 、 13e0.1〜9
ppmの1種又は2種とCr0.1〜gppmを合計で
0.2〜9.51)t)m含み、残部Cuからなる合金
を真空又は非酸化性雰囲気下で鋳造し、得られた鋳塊を
伸線加工と焼鈍処理を繰り返す銅細線の製造において少
なくとも最終加工率を70〜99、99%とし、かつ最
終焼鈍により伸びを2〜20%とすることを特徴とする
ものである。
〔作 用〕
一般に半導体素子とインナーリード間を結ぶにはポール
ボンディングされる例が多い。これはボンディングワイ
ヤの先端を水素炎又は放電により溶融してワイヤ金属を
ボール状に形成したワイヤを適当なループ状に曲げて外
部電極とステッチ側に接合するものである。
このような加工を受けるボンディングワイヤに要求され
る特性は、溶融したボールが真珠に近く偏芯していない
こと、ボールが電(かでおるアルミニウムパッドに容易
に接合すること、ワイヤのループが適当な高さを保つこ
と及びステッチ側との接合が十分であることが必要であ
る。
上記ワイA7材質として銅は純度の向上により電気伝導
性、変形能が優れたものとはなるが、常温軟化し易くル
ープ状に曲げて接合した時にループのダレを生じ易いこ
と、製造ロットによる特性のバラツキが生じ易いこと、
さらにボールボンディング時に電極パッドのアルミニウ
ムと接合しない、いわゆるボール浮き現象を生じ易いこ
となどの欠点を有している。
本発明はこれらの欠点を解消するためCuにZ no、
1〜9pDm 、 B eo、1〜9ppmの1種又は
2種とCro、1〜9ppmを合計で0.2〜9、5p
pmを添加したものである。
上記本発明銅細線によればチップの機械的損傷を防止す
るため低荷重、低超音波出力条件を要求される高集積I
Cのボールボンディングにおいても金に匹敵する以上の
ボンディング特性が得られる。
しかして合金組成を上記の範囲に限定したのは、組成範
囲の下限未満のものは添加の効果がなく、上限を超える
ものはボール変形能が劣るからである。なおこの作用は
高純度の銅でより有効に発現できるので、その不純物は
少ないほど良く、銅純度は99.999wt%以上、望
ましくは99.9999 wt%以上が良好である。
また銅細線については以上のボール及びステッチ側ボン
ディング性と共にループ形状やワイヤ強度が実用上重要
である。これらの特性にはワイヤの機械的特性が関与す
るけれども半導体の種類、ボンディング方式及び装置条
件によって要求される特性は異なる。しかしながら伸び
が著しく小さいとループ高さが大きくなりワイヤ間でシ
ョートを引き起こす原因となるばかりでなく、ワイヤ変
形能が小さくなりステッチボンディングを行なう際に高
荷重、高超音波出力を必要とするなどボンディング性低
下の原因となる。一方伸びが著しく大きいとループ高さ
が低くなりチップとの接触を招く危険があるばかりでな
く、ステッチボンディングでのワイヤの潰れが大きくな
りネック部が脆弱となり易く、さらにボンディング後の
ワイヤ変形能が不均一となりボール形成が行なえない事
態となってしまう。従って上記ワイヤ強度等を実用的に
安定して有利に発現する必要があり、このためには製造
工程、特に最終伸線工程での加工率が重要である。
しかして本発明銅細線の製造方法は、真空又は非酸化性
雰囲気下で前記組成の合金&5塊ビレットを鋳造した後
、必要に応じて熱間加工を行ない、その俊伸線加工と焼
鈍とを繰返して少なくとも最終焼鈍前の最終加工率を7
0〜99.99%、より好ましくは90〜99.95%
とした後、150〜400 ’Cの温度で所定時間最終
焼鈍を施して伸びを2〜20%、より好ましくは6〜1
6%に調整することにより優れた特性とするものである
。なお最終焼鈍により銅細線の特性を発現する代わりに
最終焼鈍を過剰に行なった後、1〜5%の加工率で伸線
加工を行なって同様の伸びを得ることもよい。
〔実施例〕
本発明を実施例に基づき詳しく説明する。
実施例■ 真空溶解炉を用いて純度99.9996%の純銅に添加
元素を加えて第1表に示す組成の合金を溶解し、25%
角x1407gの鋳塊ビレットを鋳造した。該ビレット
を面前後直径20MX長ざioo。
とした後、熱間圧延により直径約10.とし、しかる後
直径8#どなるまで皮剥きを入れて伸線を行なった。
ざらに92%の加工率で伸線加工と350℃で真空焼鈍
を繰り返して直径25μmのワイヤを得た。
最後にアルゴン雰囲気中250〜400 ’Cの温度に
保持した走間焼鈍炉で焼鈍を行ない、伸びを約15%前
後としたワイヤを製造した。各合金ワイヤの機械的特性
として破断強度(Blと略記)及び伸び(Elと略記)
の測定値を第1表に併記した。なおワイヤ中の酸素量は
いずれの合金においても5 Di)m以下であった。
このように作製したワイヤを10%t−1z −N 2
雰囲気中にて、荷重359、超音波出力0.02w、時
間30m5ec 、ステージ温度275°Cのボンディ
ング条件でマニュアル型のワイヤボンダーにてボールボ
ンドを行なった後、次の項目について比較試験を実施し
、その結果を第2表に示した。
(1)ボールの形状(真球度、偏芯度)(2)ボールの
歪(ボールアップ直後のボールの径と押し演した後のボ
ール径との比較)(3)ボール浮き(Siウェハ上に蒸
着した1μm厚のA1にボールボンドした時の接合不成
功率) (4)チップ割れ (5)接合ワイヤ破断率(ボンディング後ワイヤプル試
験を行なった時の破断の部位が接合部かワイヤ切れかを
表わし、ワイヤ切れの割合で示す) (6)ループ形状(ボンディング後のループの形状) なお上記(5)及び(6)の項目については基材として
0.25.厚さでメッキレスのCu −0,15%Cr
−0,1%3n合金条を用いた。
第2表に示すように本発明による細線はすべてのボンデ
ィング特性が優れ、金のみからなる従来材(Nα12〉
と比べても遜色がない。これに対しCr含有量が0.l
ppm未満の比較材(Nα6)はループ形状、ボール形
状以外の特性で劣っており、過剰の添加元素を含む比較
材(No、 7〜Nα10)はいずれもボール変形能が
小さく、ボール浮き率が大きく、ループ形状は適当でな
く、ざらに接合強度が小さい。
実施例■ 実施例工の合金Nα2と同一の合金組成の鋳塊ビレット
を用いて実施例工と同一の工程で最終伸線加工率を80
.99.95 、99.99%としたワイヤを’+l、
最終焼鈍温度を変化させて種々の伸びのものを製造した
。これらのワイヤについて0.25m厚さでメッキレス
のCu−0,15%Cr0.1%3n合金条を基材にボ
ールボンディング後、ワイヤプル試験を実施して接合ワ
イヤ破断率を求め、その結果を第1図に示した。
第1図に示すように高加工率であってもワイヤの伸びが
2〜20%の範囲で良好な接合強度、即ちボンディング
特性が得られることがわかる。
(発明の効果) このように本発明によれば、安価な材料から成るボンデ
ィングワイヤで良好なボンディング特性と高い信頼性が
得られる等工業上顕著な効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はCLJ−0,15%Cr−0,1%sn合金条
にボールボンドしたワイヤの破断率をワイヤの最終伸線
前〒率と伸びについて測定した実測図を示す。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Zn0.1〜9ppm、Be0.1〜9ppmの
    1種又は2種とCr0.1〜9ppmを合計で0.2〜
    9.5ppm含み、残部Cuからなることを特徴とする
    銅細線。
  2. (2)残部のCuの純度が99.999wt%以上であ
    る特許請求の範囲第1項記載の銅細線。
  3. (3)Zn0.1〜9ppm、Be0.1〜9ppmの
    1種又は2種とCr0.1〜9ppmを合計で0.2〜
    9.5ppm含み、残部Cuからなる合金を真空又は非
    酸化性雰囲気下で鋳造し、得られた鋳塊を伸線加工と焼
    鈍処理を繰り返す銅細線の製造において、少なくとも最
    終加工率を70〜99.99%とし、かつ最終焼鈍によ
    り伸びを2〜20%とすることを特徴とする銅細線の製
    造方法。
  4. (4)残部のCuの純度が99.999wt%以上であ
    る特許請求の範囲第3項記載の銅細線の製造方法。
  5. (5)最終焼鈍後に加工率1〜5%の加工を施すことに
    より伸びを2〜20%とする特許請求の範囲第3項又は
    第4項記載の銅細線の製造方法。
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