JPS63250146A - 位置決め装置 - Google Patents
位置決め装置Info
- Publication number
- JPS63250146A JPS63250146A JP62085065A JP8506587A JPS63250146A JP S63250146 A JPS63250146 A JP S63250146A JP 62085065 A JP62085065 A JP 62085065A JP 8506587 A JP8506587 A JP 8506587A JP S63250146 A JPS63250146 A JP S63250146A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- circuit
- pattern
- frequency
- executed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体ウェーハ、マスク、レチクル等の上のパ
ターン位置・寸法測定装置及び露光装置に関するもので
、特にパターン°寸法測定機、ノくターン位置測定機、
ウエーノ・及びマスク露光装置に関する。
ターン位置・寸法測定装置及び露光装置に関するもので
、特にパターン°寸法測定機、ノくターン位置測定機、
ウエーノ・及びマスク露光装置に関する。
従来、この種の装置は第２図に示すように資料（ウェー
ハ、レチクル、マスク等）の上からレーザ光等を照射し
、資料又はレーザ光を横方向に定速で動かし、パターン
のエツジ部から散乱（又は回折）した光をディテクタで
検出することによりパターンの位置や寸法を決定してい
た。
ハ、レチクル、マスク等）の上からレーザ光等を照射し
、資料又はレーザ光を横方向に定速で動かし、パターン
のエツジ部から散乱（又は回折）した光をディテクタで
検出することによりパターンの位置や寸法を決定してい
た。
前述した従来の位置決定方法では、第３図に示す球に、
半導体製造時のレジスト塗布、ＣＶＤ法やスパッタ法等
による膜付等の工程を通ることによって生じるパターン
の非対称があると、第４図の１６と１７に示した様に左
側のエツジ部と右側のエツジ部での散乱（又は回折）光
の強度が異なる。このため、特に２つのエツジの散乱（
又は回折）光の中心−をパターン中心として検出する場
合は、１６と１７の合成した波形が１８のように左右非
対称になることから第４図のようにスレシヨルドを決め
た場合からＣの位置からＣＩの位置へ△Ｘだけずれてし
まうといったような欠点があった。
半導体製造時のレジスト塗布、ＣＶＤ法やスパッタ法等
による膜付等の工程を通ることによって生じるパターン
の非対称があると、第４図の１６と１７に示した様に左
側のエツジ部と右側のエツジ部での散乱（又は回折）光
の強度が異なる。このため、特に２つのエツジの散乱（
又は回折）光の中心−をパターン中心として検出する場
合は、１６と１７の合成した波形が１８のように左右非
対称になることから第４図のようにスレシヨルドを決め
た場合からＣの位置からＣＩの位置へ△Ｘだけずれてし
まうといったような欠点があった。
本発明の偶数次高調波除去型高精度位置決め装置はディ
テクタにより検出されたパターン信号から偶数次高調波
を除去するために、電気的偶数次高調波除去回路又は数
学的偶数次高調波除去演算プログラムのいずれか又は両
方を有している。
テクタにより検出されたパターン信号から偶数次高調波
を除去するために、電気的偶数次高調波除去回路又は数
学的偶数次高調波除去演算プログラムのいずれか又は両
方を有している。
次例、本発明について図面を参照して説明する。
第１図は電気的フィルターを使って第２高調波を除去す
る場合のブロックダイヤグラム例である。
る場合のブロックダイヤグラム例である。
この場合パターンエツジからの散乱（又は回折）光はレ
ーザが同じところを何度もスキャンすることにより繰り
返し何回も得られることを前提としている。ディテクタ
５に入った散乱（又は回折）光は６のＡＧＣ付プリアン
プで一定レベルまで増幅される。増幅された信号から、
８０基本波げ）抽出回路で、通常一番振幅の大きな基本
波（ｆ）を取り出し、９のデジタル化回路で基本波（ｆ
）をデジタル化する。これを１０の２倍周波数発生回路
を通して２倍の周波数（２ｆ）を発生させ、１１のＦ／
Ｖコンバータで周波数に対応した直流電圧に変換する。
ーザが同じところを何度もスキャンすることにより繰り
返し何回も得られることを前提としている。ディテクタ
５に入った散乱（又は回折）光は６のＡＧＣ付プリアン
プで一定レベルまで増幅される。増幅された信号から、
８０基本波げ）抽出回路で、通常一番振幅の大きな基本
波（ｆ）を取り出し、９のデジタル化回路で基本波（ｆ
）をデジタル化する。これを１０の２倍周波数発生回路
を通して２倍の周波数（２ｆ）を発生させ、１１のＦ／
Ｖコンバータで周波数に対応した直流電圧に変換する。
すると７０Ｂ、Ｅ、Ｆは２倍の周波数だけα汀する動作
となり、１２の同期検波回路で検出した出力が１３のコ
ンパレータで設定した以下の電圧になると１４のアナグ
ロＳＷがＯＮＬ、１５の信号処理回路に第２高調波のな
い信号が送りこまれる訳である。
となり、１２の同期検波回路で検出した出力が１３のコ
ンパレータで設定した以下の電圧になると１４のアナグ
ロＳＷがＯＮＬ、１５の信号処理回路に第２高調波のな
い信号が送りこまれる訳である。
次になぜ第２高調波が除去されると波形が左右対称にな
るかを図を使って説明する。まず１９の基本波力４Ｖｐ
−ｐ １２０ （Ｄｍ ２ 高調波力２Ｖ ｐ−ｐ２１
の第３高調波がＩＶｐ−ｐ混在し第５図の様になってい
たとする。この場合の横軸は時間（座標）であるが、オ
ッシロスコープ等で波形を見るとこれらを合成した形と
なり、第６図の２２の様に見える。これは去りもなおさ
ず第４図の８で示した合成波形の右山がさらに下がった
状態に相当する。
るかを図を使って説明する。まず１９の基本波力４Ｖｐ
−ｐ １２０ （Ｄｍ ２ 高調波力２Ｖ ｐ−ｐ２１
の第３高調波がＩＶｐ−ｐ混在し第５図の様になってい
たとする。この場合の横軸は時間（座標）であるが、オ
ッシロスコープ等で波形を見るとこれらを合成した形と
なり、第６図の２２の様に見える。これは去りもなおさ
ず第４図の８で示した合成波形の右山がさらに下がった
状態に相当する。
そこでこの信号をスペクトラムアナライザ等で周波数ド
メインに７−リエ変換して得られる結果を示したのが第
７図である。第７図から第２高調波を第８図の特性を持
つＢ、 Ｅ、 Ｆ （バンド・エリミネーション・フィ
ルタ）でカットすると、第９図に示すように基本波の他
には第３高調波のみ存在することになる。これを第５図
の様に示すと第１０図とな抄、オッシロスコープ等で波
形を見れば第１１図２３の太実線のようになり、左右対
称になっていることが確認できる。
メインに７−リエ変換して得られる結果を示したのが第
７図である。第７図から第２高調波を第８図の特性を持
つＢ、 Ｅ、 Ｆ （バンド・エリミネーション・フィ
ルタ）でカットすると、第９図に示すように基本波の他
には第３高調波のみ存在することになる。これを第５図
の様に示すと第１０図とな抄、オッシロスコープ等で波
形を見れば第１１図２３の太実線のようになり、左右対
称になっていることが確認できる。
信号波形が左右対称になれば第４図で示した△Ｘのシフ
トがなくなり、位置決め等が正確にできる様になる訳で
ある。
トがなくなり、位置決め等が正確にできる様になる訳で
ある。
又、第１図は第２高調波の周波数がパターンの幅が変っ
てもある程度追従するようになっているが、単純な位置
決めで第２高調波の周波数が一定している場合は、一点
鎖線の範囲を省略することもできる。
てもある程度追従するようになっているが、単純な位置
決めで第２高調波の周波数が一定している場合は、一点
鎖線の範囲を省略することもできる。
〔実施例２〕
本発明を実施する第２の方法は数学的に偶数次高調波を
除去する方法である。コンピュータやシグナルプロセッ
サを使えば三角関数の周期性を利用して高速フーリエ変
換（ＦＦＴ）が可能であるが、これを使えば一度入力波
形を短かいサンプリング時間で取り込んで高速フーリエ
変換し、偶数次の信号をカットした後、再度逆変換して
波形を合成すれば、第１１図に示した様な波形を得るこ
とができる。この実施例では、このため信号のデジタル
サンプリング回路をコンビエータやシングルプロセッサ
に付加するだけでよく、ハードウェアが簡単というメリ
ットがある。
除去する方法である。コンピュータやシグナルプロセッ
サを使えば三角関数の周期性を利用して高速フーリエ変
換（ＦＦＴ）が可能であるが、これを使えば一度入力波
形を短かいサンプリング時間で取り込んで高速フーリエ
変換し、偶数次の信号をカットした後、再度逆変換して
波形を合成すれば、第１１図に示した様な波形を得るこ
とができる。この実施例では、このため信号のデジタル
サンプリング回路をコンビエータやシングルプロセッサ
に付加するだけでよく、ハードウェアが簡単というメリ
ットがある。
以上説明したように本発明は検出信号から偶数次高調波
を除去することにより、検出信号波形を対称にしている
ため第１２図に示すように、どのようなスライスレベル
（スレショルドレベル）で処理しても検出位置が変らず
、第４図で示した△Ｘも発生しないという効果がある。
を除去することにより、検出信号波形を対称にしている
ため第１２図に示すように、どのようなスライスレベル
（スレショルドレベル）で処理しても検出位置が変らず
、第４図で示した△Ｘも発生しないという効果がある。
又、第１２図に示した様π高スライスレベルでも検出位
置がずれないため中スライスレベル程度のノイズ分が存
在してもよく、耐ノイズ性があるという効果もあわせて
持っている。
置がずれないため中スライスレベル程度のノイズ分が存
在してもよく、耐ノイズ性があるという効果もあわせて
持っている。
第１図は本発明の実施回路のブロックダイア、第２図は
第１図のレーザ照射及び検出部、第３図は第２図の２の
パターンエツジ部拡大図（非対称）、第４図は第４図の
パターンをスキャンして得られる信号波形、第５図は基
本波及び第２．第３高調波混在図、第６図は第５図の合
成波形と基本波、第７図は第５図（第６図）の信号波形
のスペクトル分解図、第８図は第２（偶数次）高調波除
去フィルターの周波数特性、第９図は第２高調波除去後
のスペクトル図、第１０図は第９図のスペクトル図の波
の混在図、第１１図は第１０図の合成波形と基本波、第
１２図は第１１図の合成波形に対するスライスレベルの
影響を表わしたものである。 １・・・・・・レーザービーム、Ｉ＋・・・・・・散乱
又は回折光、２・・・・・・被測定パターン又は位置め
パターン、３・・・・・・資料、４・・・・・−スキャ
ン式レーザービーム発生器、５・・・・・・散乱又は回
折光検出用ディテクタ、６・・・・・・ＡＧＣ（Ａｕｔ
ｏ Ｇａ１ｎ Ｃｏｎｔｒｏｌ）付プリアンプ、７・・
・・・・電圧同調型Ｂ、 Ｂ、 Ｆ （Ｂａｎｄ 、ｇ
ｌｉｍｉｎａｔｉｏｎ、Ｆｉｌｔｅｒ）、８・・・・・
・基本波抽出回路、９・・・・・・波形整形（ディジタ
ル化）回路、１０・・・・・−第２高調波発生回路、１
１・・・・・・周波数、／電圧（Ｆ／Ｖ ）変換器、１
２・・・・・・同期検波器、１３・・・・・・コンパレ
ータ、１４・・・・・・アナログスイッチ、１５・・・
・・・従来からあった信号処理回路、１６・・・・・・
左側エツジからの散乱（又は回折）光の信号出力、１７
・・・・・・右側エツジからの散乱（又は回折）光の信
号出力、１８・・・・・・２つの散乱（又は回折）光の
合成信号波形、１９・・・・・・基本波、（４ＶＰ−Ｐ
）、２０・・・・・・第２高調波（２ＶＰ−Ｐ）、２１
− ＝［Ｅ ３ 高調波（Ｉ Ｖ ｐ−ｐ ）、２２・
・・−・・第５図の３つの波の合成波形、２３・・・・
・・第１０図の２つの波の合成波形。 く め 第２図 第３図 男４図 〒７図 第８図 第７図 来１０図 ＋’＋ 第１１図 電 圧 （Ｖ Ｃ′ 第１２図 手続補正書（自発）
第１図のレーザ照射及び検出部、第３図は第２図の２の
パターンエツジ部拡大図（非対称）、第４図は第４図の
パターンをスキャンして得られる信号波形、第５図は基
本波及び第２．第３高調波混在図、第６図は第５図の合
成波形と基本波、第７図は第５図（第６図）の信号波形
のスペクトル分解図、第８図は第２（偶数次）高調波除
去フィルターの周波数特性、第９図は第２高調波除去後
のスペクトル図、第１０図は第９図のスペクトル図の波
の混在図、第１１図は第１０図の合成波形と基本波、第
１２図は第１１図の合成波形に対するスライスレベルの
影響を表わしたものである。 １・・・・・・レーザービーム、Ｉ＋・・・・・・散乱
又は回折光、２・・・・・・被測定パターン又は位置め
パターン、３・・・・・・資料、４・・・・・−スキャ
ン式レーザービーム発生器、５・・・・・・散乱又は回
折光検出用ディテクタ、６・・・・・・ＡＧＣ（Ａｕｔ
ｏ Ｇａ１ｎ Ｃｏｎｔｒｏｌ）付プリアンプ、７・・
・・・・電圧同調型Ｂ、 Ｂ、 Ｆ （Ｂａｎｄ 、ｇ
ｌｉｍｉｎａｔｉｏｎ、Ｆｉｌｔｅｒ）、８・・・・・
・基本波抽出回路、９・・・・・・波形整形（ディジタ
ル化）回路、１０・・・・・−第２高調波発生回路、１
１・・・・・・周波数、／電圧（Ｆ／Ｖ ）変換器、１
２・・・・・・同期検波器、１３・・・・・・コンパレ
ータ、１４・・・・・・アナログスイッチ、１５・・・
・・・従来からあった信号処理回路、１６・・・・・・
左側エツジからの散乱（又は回折）光の信号出力、１７
・・・・・・右側エツジからの散乱（又は回折）光の信
号出力、１８・・・・・・２つの散乱（又は回折）光の
合成信号波形、１９・・・・・・基本波、（４ＶＰ−Ｐ
）、２０・・・・・・第２高調波（２ＶＰ−Ｐ）、２１
− ＝［Ｅ ３ 高調波（Ｉ Ｖ ｐ−ｐ ）、２２・
・・−・・第５図の３つの波の合成波形、２３・・・・
・・第１０図の２つの波の合成波形。 く め 第２図 第３図 男４図 〒７図 第８図 第７図 来１０図 ＋’＋ 第１１図 電 圧 （Ｖ Ｃ′ 第１２図 手続補正書（自発）
Claims (1)
- 半導体製造用ウェーハ、マスク、レチクル等の上に刻ま
れたパターンの位置・寸法測定及び位置決めにおいて、
検出信号の高周波を取りのぞくことにより信号波を線対
称化して測定及び位置決めすることを特徴とする位置決
め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62085065A JPH07120697B2 (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | 位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62085065A JPH07120697B2 (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | 位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63250146A true JPS63250146A (ja) | 1988-10-18 |
| JPH07120697B2 JPH07120697B2 (ja) | 1995-12-20 |
Family
ID=13848227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62085065A Expired - Fee Related JPH07120697B2 (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | 位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07120697B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02302056A (ja) * | 1989-05-17 | 1990-12-14 | Hitachi Ltd | 薄膜パターンのアライメント方法 |
| JP2012049171A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-03-08 | Canon Inc | マーク位置の計測方法及び算出方法 |
-
1987
- 1987-04-06 JP JP62085065A patent/JPH07120697B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02302056A (ja) * | 1989-05-17 | 1990-12-14 | Hitachi Ltd | 薄膜パターンのアライメント方法 |
| JP2012049171A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-03-08 | Canon Inc | マーク位置の計測方法及び算出方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07120697B2 (ja) | 1995-12-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1038948A (en) | Photomask inspection by real time diffraction pattern analysis | |
| CA2066624A1 (en) | Method and apparatus for adaptive audio resonant frequency filtering | |
| Rodopoulos et al. | A parametric approach for the estimation of the instantaneous speed of rotating machinery | |
| CN111257872B (zh) | 基于Radon变换与拉普拉斯算子的微多普勒抑制方法 | |
| FR2365793A1 (fr) | Ellipsometre a birefringent tournant en son application a la photo-elasticimetrie | |
| Xue et al. | Optimal interpolating windowed discrete Fourier transform algorithms for harmonic analysis in power systems | |
| CN106706122A (zh) | 基于相关系数和emd滤波特性的碰摩声发射信号降噪方法 | |
| CN106019102A (zh) | 信号去噪方法和装置 | |
| JPS63250146A (ja) | 位置決め装置 | |
| Kaiser et al. | Estimation of power systems amplitudes, frequencies, and phase characteristics using energy operators | |
| Yi et al. | A novel technique for fundamental and harmonic parameter estimation using nonergodic $ S $-transform | |
| CN119148810B (zh) | 一种宽频正弦波数字信号生成方法及系统 | |
| CN118311385B (zh) | 直流拉弧的检测方法、装置及光伏逆变器 | |
| Budkina et al. | Comparison of Frequency Measurement Methods Under Transient Conditions in Electrical Power Networks | |
| CN108090270A (zh) | 一种基于形态学滤波和盲源分离的暂态振荡参数识别方法 | |
| KR102582116B1 (ko) | 부분 방전 측정 장치 및 방법 | |
| JPS5972134A (ja) | パタ−ン検出装置 | |
| JP3486332B2 (ja) | 分割スペクトル処理方法 | |
| CN116539156B (zh) | 一种光谱分辨增强滤波方法 | |
| Buunen et al. | Subjective phase effects and combination tones | |
| JPS62291562A (ja) | クロマトグラフのデ−タ処理方法 | |
| Visheratin | Analytical method for suppressing Gibbs lobes in spectral analysis | |
| Reddy et al. | Analysis of Multi-Component Non-Stationary Signals Using Fourier-Bessel Series and Wigner-Hough Transform | |
| Milivojević et al. | ESTIMATION OF FUNDAMENTAL FREQUENCY OF COMPLEX SINE SIGNAL USING q-SE AND PCC INTERPOLATION WITH 1P KEYS KERNEL ALGORITHMS-COMPARATIVE ANALYSIS | |
| Bansal et al. | Adaptive frequency estimation using iterative DESA with RDFT-based filter |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |