JPS63252530A - アンモニア還元脱硝装置および脱硝方法 - Google Patents
アンモニア還元脱硝装置および脱硝方法Info
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- JPS63252530A JPS63252530A JP62087625A JP8762587A JPS63252530A JP S63252530 A JPS63252530 A JP S63252530A JP 62087625 A JP62087625 A JP 62087625A JP 8762587 A JP8762587 A JP 8762587A JP S63252530 A JPS63252530 A JP S63252530A
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- F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
- F01N3/10—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust
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- F01N3/28—Construction of catalytic reactors
- F01N3/2892—Exhaust flow directors or the like, e.g. upstream of catalytic device
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- F01N3/18—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by methods of operation; Control
- F01N3/20—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by methods of operation; Control specially adapted for catalytic conversion
- F01N3/206—Adding periodically or continuously substances to exhaust gases for promoting purification, e.g. catalytic material in liquid form, NOx reducing agents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
を産業上の利用分野〕
本発明はアンモニア還元脱硝装置および脱硝方法に係り
、特にボイラ等の燃焼装置から排出される燃焼排ガス中
の窒素酸化物（ＮＯｘ）を除去する装置に関する。
、特にボイラ等の燃焼装置から排出される燃焼排ガス中
の窒素酸化物（ＮＯｘ）を除去する装置に関する。
近年、ＮＯＸ排出濃度の規制強化に伴い、従来の燃焼方
法の改善に加えて、アンモニア（以下、ＮＨ３という）
を還元剤として触媒の存在下で脱硝反応を行なう乾式接
触還元方式の脱硝装置を設置するプラントが増加してい
る。この方式において、脱硝装置からの排出ＮＨ３濃度
は、後流機器への影響を考慮してできるだけ低濃度にな
るように注入モル比（Ｎ Ｏｘ ／ Ｎ Ｈ３の比）を
制限した運用になっている。しかし、このような運用は
、反面触媒の有効活用を防げるため、本発明者らは、以
前にリークＮＨ３を制限する運用においても、触媒を有
効に利用し、脱硝性能の向上を図り、触媒量を低減する
方法を提案した（特願昭６１−２６９５０号）。この方
法は、脱硝反応器を処理ガスの流れ方向に沿って１次と
２次に分割して設け、前流側の１次脱硝反応器に対して
バイパス流路を設け、１次脱硝反応器を高モル比、低Ｓ
Ｖ（低ガス舒）条件下で運転することにより、１次脱硝
反応器内の触媒の活性を高め、１次、２次反応器を合わ
せた全体の脱硝性能を高めようとするものである。
法の改善に加えて、アンモニア（以下、ＮＨ３という）
を還元剤として触媒の存在下で脱硝反応を行なう乾式接
触還元方式の脱硝装置を設置するプラントが増加してい
る。この方式において、脱硝装置からの排出ＮＨ３濃度
は、後流機器への影響を考慮してできるだけ低濃度にな
るように注入モル比（Ｎ Ｏｘ ／ Ｎ Ｈ３の比）を
制限した運用になっている。しかし、このような運用は
、反面触媒の有効活用を防げるため、本発明者らは、以
前にリークＮＨ３を制限する運用においても、触媒を有
効に利用し、脱硝性能の向上を図り、触媒量を低減する
方法を提案した（特願昭６１−２６９５０号）。この方
法は、脱硝反応器を処理ガスの流れ方向に沿って１次と
２次に分割して設け、前流側の１次脱硝反応器に対して
バイパス流路を設け、１次脱硝反応器を高モル比、低Ｓ
Ｖ（低ガス舒）条件下で運転することにより、１次脱硝
反応器内の触媒の活性を高め、１次、２次反応器を合わ
せた全体の脱硝性能を高めようとするものである。
以下、第６図を用いて従来の反応器構造を説明する。こ
の装置は、ケーシング７と、該ケーシング７を仕切板２
によって分割して形成した複数の排ガス流路と、該複数
の排ガス流路列のうち隔列ごとに設けられたアンモニア
注入ノズルＩＡおよび１次脱硝反応器４と、前記隔列以
外の排ガス流路に設けられたダジパ９と、前記１次脱硝
反応器の後流に設けられた混合室６および２次脱硝反応
器８とから構成される。なお、１はアンモニア流入装置
のパイプである。
の装置は、ケーシング７と、該ケーシング７を仕切板２
によって分割して形成した複数の排ガス流路と、該複数
の排ガス流路列のうち隔列ごとに設けられたアンモニア
注入ノズルＩＡおよび１次脱硝反応器４と、前記隔列以
外の排ガス流路に設けられたダジパ９と、前記１次脱硝
反応器の後流に設けられた混合室６および２次脱硝反応
器８とから構成される。なお、１はアンモニア流入装置
のパイプである。
このように構成された脱硝装置において、排ガスがケー
シング７内に導入されると、１次脱硝反応器４を通過す
る処理ガスとバイパス煙道３を通過する未処理ガスとに
分かれる。未処理ガスのバイパス量は、ダンパ９によっ
て最適値になるように調整される。１次脱硝反応器４側
に導入された排ガスはＮＨ３と混合され、１次脱硝反応
器４において脱硝反応が行なわれる。１次脱硝反応器４
を通過した排ガス中に含まれている未反応のＮ Ｈ３と
バイパス煙道３を通過した未反応の排ガスとが前記混合
室６で混合され、次に２次脱硝反応器８に導入されて脱
硝反応が行なわれガス中のＮＯｘが除去されて、ケーシ
ング７の出口へと導かれる。
シング７内に導入されると、１次脱硝反応器４を通過す
る処理ガスとバイパス煙道３を通過する未処理ガスとに
分かれる。未処理ガスのバイパス量は、ダンパ９によっ
て最適値になるように調整される。１次脱硝反応器４側
に導入された排ガスはＮＨ３と混合され、１次脱硝反応
器４において脱硝反応が行なわれる。１次脱硝反応器４
を通過した排ガス中に含まれている未反応のＮ Ｈ３と
バイパス煙道３を通過した未反応の排ガスとが前記混合
室６で混合され、次に２次脱硝反応器８に導入されて脱
硝反応が行なわれガス中のＮＯｘが除去されて、ケーシ
ング７の出口へと導かれる。
上記従来技術は、ダンパ９の開閉度を変えることにより
、バイパス量を制御し、最適バイパス量を調整できるよ
うになっているものの、ダンパの制御に用いるガス量の
検出器、ダンパおよびその開閉装置、制御機器、動力源
等の設備が必要で、高価となるばかりでなく、制御その
ものも複雑になる。
、バイパス量を制御し、最適バイパス量を調整できるよ
うになっているものの、ダンパの制御に用いるガス量の
検出器、ダンパおよびその開閉装置、制御機器、動力源
等の設備が必要で、高価となるばかりでなく、制御その
ものも複雑になる。
また、従来技術の反応器において、１次反応器と２次反
応器の中間に設けられている混合室での脱硝処理ガスと
未処理ガスとの混合効果も充分でなく、部分的に高濃度
のり−クＮＨ３が２次反応器より排出され、脱硝性能が
低下するという問題点があった。
応器の中間に設けられている混合室での脱硝処理ガスと
未処理ガスとの混合効果も充分でなく、部分的に高濃度
のり−クＮＨ３が２次反応器より排出され、脱硝性能が
低下するという問題点があった。
本発明の目的は、１次脱硝反応器のバイパス流路に設け
られているダンパを省略し、これらに関連する制御機器
を不要にすることができるアンモニア還元脱硝装置およ
び脱硝方法を提供することにある。
られているダンパを省略し、これらに関連する制御機器
を不要にすることができるアンモニア還元脱硝装置およ
び脱硝方法を提供することにある。
本発明の脱硝装置は、仕切板によって分割された複数の
排ガス流路と、該複数の排ガス流路のうちの所定流路に
設けられたアンモニア注入ノズルおよび１次脱硝反応器
と、前記所定の流路以外のバイパス流路に必要に応じて
設けられた抵抗体およびその出口に配設されたガス分散
手段と、前記１次脱硝反応器の後流に設けられた２次脱
硝反応器とを有することを特徴とする。
排ガス流路と、該複数の排ガス流路のうちの所定流路に
設けられたアンモニア注入ノズルおよび１次脱硝反応器
と、前記所定の流路以外のバイパス流路に必要に応じて
設けられた抵抗体およびその出口に配設されたガス分散
手段と、前記１次脱硝反応器の後流に設けられた２次脱
硝反応器とを有することを特徴とする。
具体的には、本発明装置は、脱硝反応器ケーシング内の
入口側に未処理ガスの流れ方向に沿って仕切部材を設け
、その仕切部材によって区画形成された少なくとも１つ
のガス流通空間に触媒を配置して１次反応器を構成し、
少なくとも他の１つのガス流通空間部をバイパス流路と
し、前記仕切部材の内側で前記１次反応器の前流側にア
ンモニア注入手段を設け、前記バイパス流路出口側にバ
イパスガスの分散板を設け、その分散板の後流側に２次
脱硝反応器を配置したものである。
入口側に未処理ガスの流れ方向に沿って仕切部材を設け
、その仕切部材によって区画形成された少なくとも１つ
のガス流通空間に触媒を配置して１次反応器を構成し、
少なくとも他の１つのガス流通空間部をバイパス流路と
し、前記仕切部材の内側で前記１次反応器の前流側にア
ンモニア注入手段を設け、前記バイパス流路出口側にバ
イパスガスの分散板を設け、その分散板の後流側に２次
脱硝反応器を配置したものである。
また本発明の脱硝方法は、上記バイパス流路内をバイパ
スガスが通過するときの圧力損失と、１次脱硝反応器内
をあらかじめ設定した速度で排ガスが通過するときに生
じる圧力損失とが等しくなるように、バイパス流路の圧
力損失を設定することを特徴とする。さらに具体的には
、前記バイパス流路に所定量の排ガスをバイパスさせた
ときの１次脱硝反応器のガス速度が２次反応器のガス速
度と同一になるように各反応器の圧力損失を調整し、次
いで上記ガス速度でガスが前記１次脱硝反応器を通過す
るときの圧力損失がバイパス流路の圧力損失と等しくな
るようにバイパス流路の圧力損失を設定することを特徴
とする。
スガスが通過するときの圧力損失と、１次脱硝反応器内
をあらかじめ設定した速度で排ガスが通過するときに生
じる圧力損失とが等しくなるように、バイパス流路の圧
力損失を設定することを特徴とする。さらに具体的には
、前記バイパス流路に所定量の排ガスをバイパスさせた
ときの１次脱硝反応器のガス速度が２次反応器のガス速
度と同一になるように各反応器の圧力損失を調整し、次
いで上記ガス速度でガスが前記１次脱硝反応器を通過す
るときの圧力損失がバイパス流路の圧力損失と等しくな
るようにバイパス流路の圧力損失を設定することを特徴
とする。
本発明は、従来ダンパの開閉によって設定されていたバ
イパス量を、バイパス流路を通過する排ガスの圧力損失
と１次反応器触媒層の圧力損失が等しくなるように抵抗
体を設けて設定したので、従来のダンパが不必要になり
、またバイパスガスは、バイパス流路後流側に設けられ
たガス分散板によって分散され、１次反応器の脱硝処理
ガスと充分に混合するので、脱硝装置の性能を高めるこ
とができる。
イパス量を、バイパス流路を通過する排ガスの圧力損失
と１次反応器触媒層の圧力損失が等しくなるように抵抗
体を設けて設定したので、従来のダンパが不必要になり
、またバイパスガスは、バイパス流路後流側に設けられ
たガス分散板によって分散され、１次反応器の脱硝処理
ガスと充分に混合するので、脱硝装置の性能を高めるこ
とができる。
第１図は、本発明の一実施例を示す説明図である。この
装置は、仕切板２によって分割された複数の排ガス流路
と、該複数の排ガス流路のうちの所定流路２Ａに設けら
れたアンモニア注入ノズルＩＡおよび１次脱硝反応器４
と、前記所定流路以外の排ガス流路２Ｂ（バイパス流路
またはバイパス煙道とも称する）に設けられた抵抗体９
およびその出口に配設されたガス分散板５と、前記１次
脱硝反応器４の後流に設けられた混合室６および２次脱
硝反応器８とから構成される。第６図の従来技術と異な
る点は、バイパス流路２Ｂ内のダンパ９を省略し、その
代わりに抵抗体９を設けたこと、また従来よりもバイパ
ス流路の断面積を縮小したこと、およびバイパス流路後
流部にＶ形のガス分散板５を設けたことである。
装置は、仕切板２によって分割された複数の排ガス流路
と、該複数の排ガス流路のうちの所定流路２Ａに設けら
れたアンモニア注入ノズルＩＡおよび１次脱硝反応器４
と、前記所定流路以外の排ガス流路２Ｂ（バイパス流路
またはバイパス煙道とも称する）に設けられた抵抗体９
およびその出口に配設されたガス分散板５と、前記１次
脱硝反応器４の後流に設けられた混合室６および２次脱
硝反応器８とから構成される。第６図の従来技術と異な
る点は、バイパス流路２Ｂ内のダンパ９を省略し、その
代わりに抵抗体９を設けたこと、また従来よりもバイパ
ス流路の断面積を縮小したこと、およびバイパス流路後
流部にＶ形のガス分散板５を設けたことである。
ダンパの代わりに設けた抵抗体の圧力損失は以下のよう
に設定される。
に設定される。
（１）脱硝装置（１次および２次反応器４．８）を最も
長く使用する負荷条件における最適バイパス量を決定す
る。
長く使用する負荷条件における最適バイパス量を決定す
る。
（２）上記のバイパス量をバイパスさせたとき１次反応
器４の触媒層を通過するガス速度が、２次反応器８の触
媒層を通過するガス速度と同一になるように１次反応器
４の触媒層の断面積または長さを選定する。
器４の触媒層を通過するガス速度が、２次反応器８の触
媒層を通過するガス速度と同一になるように１次反応器
４の触媒層の断面積または長さを選定する。
（３）１次反応器４の触媒層内を上記速度でガスが通過
するときの圧力損失がバイパス煙道の圧力損失と等しく
なるようにバイパス煙道２Ｂの圧力損失を設定する。
するときの圧力損失がバイパス煙道の圧力損失と等しく
なるようにバイパス煙道２Ｂの圧力損失を設定する。
（４）バイパス出口ガス流速を適度（ダストを含むガス
の場合１５ｍ／Ｓ程度）に設定し、この速度で（３）で
設定した圧力損失をもつ抵抗体を選定する。このとき抵
抗体の長さは触媒層長さに合わせたほうが望ましい。
の場合１５ｍ／Ｓ程度）に設定し、この速度で（３）で
設定した圧力損失をもつ抵抗体を選定する。このとき抵
抗体の長さは触媒層長さに合わせたほうが望ましい。
使用する抵抗体としては、板状構造体、ハニカム構造体
等の形状を有し、摩耗強度が強い材料が好適である。
等の形状を有し、摩耗強度が強い材料が好適である。
ガス分散板５としては、バイパス煙道２Ｂ出口から高速
で噴出するバイパスガスを分散させる働きをもつもので
、バイパス煙道２Ｂに両接する触媒層へ均等に配分され
るよう、バイパス煙道２Ｂの出口部で、その中心線上に
設置される。形状としては、ガス後流側に向かって広が
り部を有する部材（例えば第１図に示すように断面７字
形状のもの）が好ましく、また摩耗強度の強い材料のも
のを選定することが望ましい。バイパス煙道２Ｂからの
未処理ガスと１次反応器の触媒を通過したガスの混合効
果は、両者の流速比、バイパス煙道の幅等によって影響
されるため、それぞれの脱硝反応器に応じて最も混合効
果の大きいガス分散板を選ぶことが望ましい。
で噴出するバイパスガスを分散させる働きをもつもので
、バイパス煙道２Ｂに両接する触媒層へ均等に配分され
るよう、バイパス煙道２Ｂの出口部で、その中心線上に
設置される。形状としては、ガス後流側に向かって広が
り部を有する部材（例えば第１図に示すように断面７字
形状のもの）が好ましく、また摩耗強度の強い材料のも
のを選定することが望ましい。バイパス煙道２Ｂからの
未処理ガスと１次反応器の触媒を通過したガスの混合効
果は、両者の流速比、バイパス煙道の幅等によって影響
されるため、それぞれの脱硝反応器に応じて最も混合効
果の大きいガス分散板を選ぶことが望ましい。
また、図示してはいないが、２次反応器８に導入される
排ガスを整流する整流部材を混合室６に設けることも可
能である。これは、１次反応器４と２次反応器８との距
離が充分とれず、混合室６で混合した排ガスが自然整流
されない場合に好都合である。
排ガスを整流する整流部材を混合室６に設けることも可
能である。これは、１次反応器４と２次反応器８との距
離が充分とれず、混合室６で混合した排ガスが自然整流
されない場合に好都合である。
前述のように１次反応器４と２次反応器８のガス流速は
同一になるように設定されるが、この速度は計画負荷時
に最も効率のよい流速になるように選定され、この負荷
時には１次、２次反応器ともに、脱硝反応が効率よく行
なわれることになる。
同一になるように設定されるが、この速度は計画負荷時
に最も効率のよい流速になるように選定され、この負荷
時には１次、２次反応器ともに、脱硝反応が効率よく行
なわれることになる。
一方、負荷が変化しガス量、温度等の排ガス条件が異な
ってきたとき、本発明の装置、すなわちバイパス量が一
定に固定されダンパを省略した装置で脱硝性能が維持で
きるかどうかについて述べる。
ってきたとき、本発明の装置、すなわちバイパス量が一
定に固定されダンパを省略した装置で脱硝性能が維持で
きるかどうかについて述べる。
第３図は、負荷変化に対する１次反応器の最適バイパス
比の変化を示したものである。ここでいうバイパス比と
は、１次反応器４を通過する全ガス量に対する、バイパ
ス煙道３を通過するガス量の比を表わしている。この図
でわかるように、低負荷帯を除いて最適バイパス比はほ
ぼ一定となる。
比の変化を示したものである。ここでいうバイパス比と
は、１次反応器４を通過する全ガス量に対する、バイパ
ス煙道３を通過するガス量の比を表わしている。この図
でわかるように、低負荷帯を除いて最適バイパス比はほ
ぼ一定となる。
第４図は、負荷変化に対する２つのバイパス制御法を、
２次反応器の出口ＮＯｘ濃度を用いて比較したものであ
る。最適バイパス比制御とは、第３図の最適バイパス比
になるようにバイパス量を制御する方法で、ダンパを用
いた従来技術に相当し、またバイパス比固定制御とは１
００％負荷で最適バイパス比を設定し、負荷が変化して
もこのバイパス比を一定に保つ制御法で、本発明方法に
相当する。図よりこの再制御法による２次反応器出口Ｎ
Ｏｘ値はほぼ一致している。低負荷帯においても、第３
図に示した両制御値のズレにもかかわらず、第４図の低
負荷帯でほぼ同等の性能が得られるのは、低負荷におい
てはガス量が低下しているため、バイパス比が変化して
もバイパス量の変化が小さいためである。したがって、
負荷が変化した場合でも、本発明に使用するバイパス比
固定制御によれば、最適バイパス比と同等の性能が得ら
れることがわかる。一方、同じく第４図において、負荷
が変化した場合でも出口ＮＯｘ９度はほとんど一定で、
脱硝性能はほぼ一定であるとみなせるが、これは負荷が
下がったとき、排ガス温度の低下が触媒性能に与えるマ
イナス効果と排ガス量の低下により生じるプラス効果等
が相殺されているためで、一般の脱硝性能の挙動と同じ
である。
２次反応器の出口ＮＯｘ濃度を用いて比較したものであ
る。最適バイパス比制御とは、第３図の最適バイパス比
になるようにバイパス量を制御する方法で、ダンパを用
いた従来技術に相当し、またバイパス比固定制御とは１
００％負荷で最適バイパス比を設定し、負荷が変化して
もこのバイパス比を一定に保つ制御法で、本発明方法に
相当する。図よりこの再制御法による２次反応器出口Ｎ
Ｏｘ値はほぼ一致している。低負荷帯においても、第３
図に示した両制御値のズレにもかかわらず、第４図の低
負荷帯でほぼ同等の性能が得られるのは、低負荷におい
てはガス量が低下しているため、バイパス比が変化して
もバイパス量の変化が小さいためである。したがって、
負荷が変化した場合でも、本発明に使用するバイパス比
固定制御によれば、最適バイパス比と同等の性能が得ら
れることがわかる。一方、同じく第４図において、負荷
が変化した場合でも出口ＮＯｘ９度はほとんど一定で、
脱硝性能はほぼ一定であるとみなせるが、これは負荷が
下がったとき、排ガス温度の低下が触媒性能に与えるマ
イナス効果と排ガス量の低下により生じるプラス効果等
が相殺されているためで、一般の脱硝性能の挙動と同じ
である。
次に、第５図（Ａ）、（Ｂ）は、バイパス煙道２Ｂ出口
のガス分散板５の効果について説明したものである。１
次反応器４の触媒層内のガス流速は、排ガス中のダスト
濃度によって決定されるが、一般には４〜８ ｍ ／
Ｓ程度の範囲である。一方、バイパスガス流速は前述し
たように約１５ｍ／Ｓである。この分子＆Ｆｉ５がない
場合は、（Ｂ）に示すように高速でしかも狭い断面積の
ダクトから噴出されたバイパスガスは後流方向へ突出し
、触媒層からの処理ガスと混合するのに長い距離を要す
る。一方、分散板５を設けた場合（Ｂ）は、バイパスガ
スは、斜め下方へ噴出、拡散されるため短い距離でガス
の混合することができ、混合室６の容量も小さくて済む
。
のガス分散板５の効果について説明したものである。１
次反応器４の触媒層内のガス流速は、排ガス中のダスト
濃度によって決定されるが、一般には４〜８ ｍ ／
Ｓ程度の範囲である。一方、バイパスガス流速は前述し
たように約１５ｍ／Ｓである。この分子＆Ｆｉ５がない
場合は、（Ｂ）に示すように高速でしかも狭い断面積の
ダクトから噴出されたバイパスガスは後流方向へ突出し
、触媒層からの処理ガスと混合するのに長い距離を要す
る。一方、分散板５を設けた場合（Ｂ）は、バイパスガ
スは、斜め下方へ噴出、拡散されるため短い距離でガス
の混合することができ、混合室６の容量も小さくて済む
。
次に第２図は、本発明の他の実施例を示すものであるが
、バイパス煙道３の断面積を極端に縮小してガスの圧力
損失を高め、第１図で用いた抵抗体９を省略するように
したものである。この実施例によれば、バイパス煙道３
の幅は例えば数十能と狭くなり、バイパスガス流速は約
４０〜５０ｍ／Ｓに及ぶため、ダストを含まないクリー
ンな排ガスに好ましく通用される。この実施例によれば
、抵抗体を省略できる分だけ反応器断面積が狭（なり、
また構造も単純、化することができる。
、バイパス煙道３の断面積を極端に縮小してガスの圧力
損失を高め、第１図で用いた抵抗体９を省略するように
したものである。この実施例によれば、バイパス煙道３
の幅は例えば数十能と狭くなり、バイパスガス流速は約
４０〜５０ｍ／Ｓに及ぶため、ダストを含まないクリー
ンな排ガスに好ましく通用される。この実施例によれば
、抵抗体を省略できる分だけ反応器断面積が狭（なり、
また構造も単純、化することができる。
本発明によれば、従来、１次反応器のバイパス煙道内に
設けられていたダンパを省略することができ、これに不
随するダンパ制御用ガス量検出器を初めとする機器を省
略することができる。
設けられていたダンパを省略することができ、これに不
随するダンパ制御用ガス量検出器を初めとする機器を省
略することができる。
また、簡単なガス分散板を設けることにより、排ガス自
体でガスを混合することができ、好適な混合効果が得ら
れるため、混合距離が短くなり、装置をコンパクトにで
きる。さらに、均一なＮＨ３分散により装置全体の脱硝
性能も高めることができる。以上述べたように、本発明
を用いることにより低価格で高性能の脱硝装置を提供す
ることができる。
体でガスを混合することができ、好適な混合効果が得ら
れるため、混合距離が短くなり、装置をコンパクトにで
きる。さらに、均一なＮＨ３分散により装置全体の脱硝
性能も高めることができる。以上述べたように、本発明
を用いることにより低価格で高性能の脱硝装置を提供す
ることができる。
第１図は、本発明の実施例を示す脱硝装置の断面図、第
２図は、本発明の他の実施例を示す脱硝装置の断面図、
第３図は、負荷変化に対する１次反応器の最適バイパス
比を説明する説明図、第４図は、負荷変化に対して、２
次反応器出口ＮＯｘ濃度を用いて、２つのバイパス比制
御方法を比較した説明図、第５図（Ａ）、（Ｂ）は、ガ
ス分散坂の効果を説明した図、第６図は、従来技術によ
る脱硝装置の断面図である。 １・・・Ｎ Ｈ３注入装置、２・・・仕切板、２Ａ・・
・排ガス流路、２Ｂ・・・バイパス流路、３・・・バイ
パス煙道、４・・・１次反応器、５・・・バイパスガス
分散板、６・・−混合室、７・・・ケーシング、８・・
・２次反応器、９・・・抵抗体。 代理人 弁理士 川 北 武 長 第１図 第２図 第３図 第４図 負荷（’／、）
２図は、本発明の他の実施例を示す脱硝装置の断面図、
第３図は、負荷変化に対する１次反応器の最適バイパス
比を説明する説明図、第４図は、負荷変化に対して、２
次反応器出口ＮＯｘ濃度を用いて、２つのバイパス比制
御方法を比較した説明図、第５図（Ａ）、（Ｂ）は、ガ
ス分散坂の効果を説明した図、第６図は、従来技術によ
る脱硝装置の断面図である。 １・・・Ｎ Ｈ３注入装置、２・・・仕切板、２Ａ・・
・排ガス流路、２Ｂ・・・バイパス流路、３・・・バイ
パス煙道、４・・・１次反応器、５・・・バイパスガス
分散板、６・・−混合室、７・・・ケーシング、８・・
・２次反応器、９・・・抵抗体。 代理人 弁理士 川 北 武 長 第１図 第２図 第３図 第４図 負荷（’／、）
Claims (2)
- （１）仕切板によって分割された複数の排ガス流路と、
該複数の排ガス流路のうちの所定流路に設けられたアン
モニア注入ノズルおよび１次脱硝反応器と、前記所定の
流路以外のバイパス流路に必要に応じて設けられた抵抗
体およびその出口に配設されたガス分散手段と、前記１
次脱硝反応器の後流に設けられた２次脱硝反応器とを有
することを特徴とするアンモニア還元脱硝装置。 - （２）複数の排ガス流路と、該複数の排ガス流路のうち
の所定流路に設けられたアンモニア注入ノズルおよび１
次脱硝反応器と、前記所定の流路以外のバイパス流路に
必要に応じて設けられた抵抗体およびその出口に配設さ
れたガス分散手段と、前記１次脱硝反応器の後流に設け
られた２次脱硝反応器とを有する脱硝装置を運転するに
当たり、上記バイパス流路内を排ガスが通過するときの
圧力損失と、１次脱硝反応器内にあらかじめ設定した速
度で排ガスが通過するときの圧力損失とが等しくなるよ
うに、バイパス流路の圧力損失を設定することを特徴と
する脱硝方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62087625A JPS63252530A (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | アンモニア還元脱硝装置および脱硝方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62087625A JPS63252530A (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | アンモニア還元脱硝装置および脱硝方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63252530A true JPS63252530A (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=13920157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62087625A Pending JPS63252530A (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | アンモニア還元脱硝装置および脱硝方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63252530A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006097131A1 (de) * | 2005-03-16 | 2006-09-21 | Emitec Gesellschaft Für Emissionstechnologie Mbh | Wabenkörper mit mitteln zur reaktandenzufuhr und entsprechendes verfahren und abgassystem |
| US8961915B1 (en) * | 2013-09-25 | 2015-02-24 | Ohio State Innovation Foundation | Wet scrubber for ammonia capture |
| US10239016B2 (en) | 2016-12-07 | 2019-03-26 | Nuorganics LLC | Systems and methods for nitrogen recovery from a gas stream |
| US10513466B2 (en) | 2017-01-16 | 2019-12-24 | Nuorganics LLC | System and method for recovering nitrogenous compounds from a gas stream |
-
1987
- 1987-04-09 JP JP62087625A patent/JPS63252530A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006097131A1 (de) * | 2005-03-16 | 2006-09-21 | Emitec Gesellschaft Für Emissionstechnologie Mbh | Wabenkörper mit mitteln zur reaktandenzufuhr und entsprechendes verfahren und abgassystem |
| US8961915B1 (en) * | 2013-09-25 | 2015-02-24 | Ohio State Innovation Foundation | Wet scrubber for ammonia capture |
| US9364787B2 (en) | 2013-09-25 | 2016-06-14 | Ohio State Innovation Foundation | Wet scrubber apparatus for ammonia capture |
| US9808758B2 (en) | 2013-09-25 | 2017-11-07 | Ohio State Innovation Foundation | Wet scrubber apparatus for ammonia capture |
| US10239016B2 (en) | 2016-12-07 | 2019-03-26 | Nuorganics LLC | Systems and methods for nitrogen recovery from a gas stream |
| US10513466B2 (en) | 2017-01-16 | 2019-12-24 | Nuorganics LLC | System and method for recovering nitrogenous compounds from a gas stream |
| US10934223B2 (en) | 2017-01-16 | 2021-03-02 | Nuorganics LLC | System and method for recovering nitrogenous compounds from a gas stream |
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