JPS63252540A - 三相流動反応装置 - Google Patents

三相流動反応装置

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JPS63252540A
JPS63252540A JP8569087A JP8569087A JPS63252540A JP S63252540 A JPS63252540 A JP S63252540A JP 8569087 A JP8569087 A JP 8569087A JP 8569087 A JP8569087 A JP 8569087A JP S63252540 A JPS63252540 A JP S63252540A
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gas
float
dispersion
pedestal
liquid
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JP8569087A
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Masahito Kaneko
雅人 金子
Kazuto Kobayashi
一登 小林
Haruyoshi Fujita
藤田 晴義
Setsuo Omoto
大本 節夫
Masahiro Hayashi
雅博 林
Fumihiro Kono
河野 文広
Toshihiko Masuda
増田 敏彦
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Research Association for Petroleum Alternatives Development
Original Assignee
Research Association for Petroleum Alternatives Development
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/20Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles with liquid as a fluidising medium
    • B01J8/22Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles with liquid as a fluidising medium gas being introduced into the liquid
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    • B01J8/1818Feeding of the fluidising gas

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は気体、液体、固体の三相流動反応装置に関する
ものであシ、さらに詳しくは、固体層を一定しベpに膨
張するように!!c体、液体を上方に流通させ得る気体
、液体の分散機構をその下部に備えた流動反応装置に関
するものである。
〔従来の技術〕
気体、液体、固体の三相流動反応装置は、三相の接触効
率が良好であり、かつ反応器内部の混合が良好であるこ
とから度広装置、特に触媒を用い多量の反応熱を発生す
る発熱反応系に対し有効であることが知られている。
その例としては、原油から分留された重、中質留分を触
媒の存在下で、水素ガスを供給しながら脱硫又は分解を
行う水素化脱硫反応装置又は水素化分解反応装置である
また、−酸化炭素と水素を主成分とする混合ガスを溶媒
と触媒の混合物の中に供給し、メチルアルコ−〜を合成
させるための合成反応装置である。
三相反応流動装置の一般的流動状態は田中栄−著「化学
工学」第34巻、第12号1265頁(1970年)等
に詳しく述べられている通りであシ、竪形円筒状容器内
の1/2〜2/3程度に充填された触媒等の固体粒子を
流動化させるに充分であシ、かつ固体粒子が同伴上昇し
ない速度で液体および気体を容器の下部から上方に流通
させることにより安定した固体粒子の流動層を形成させ
るものである。
この流動状態を実現させるためには、膨張した触媒層の
上部から液を抜き出し、ポンプを用いて円筒状容器下部
に供給する液の循環が不可欠となる。これは、触媒の流
動化に必要な液流速を循環により維持するために行なう
また、この三相流動反応器を用いた具体例をより詳細に
説明すれば、石油系型、中質留分の水素化脱硫を行なう
場合は100〜150に9/c!n”G、 350〜4
00℃の条件下で、15〜2−φの円柱状もしくは球状
のニッケルーモリブデン系、コバルト−モリブデン系又
はタングステン−モリブデン系の触媒と供給油とガス状
水素を接触させることにより水素化反応が達成される。
第4図は従来の典型的な三相流動反応装置の構造を示す
ものである。反応器本体1内部に触媒が充填されておシ
、この触V&層17の上面2は液、ガスの上昇流により
流動化し、膨張触媒層17上面3まで膨張する。触媒層
17の下部には分散板4が設けられており、下部から供
給されるガス、液の分散を良好にすると共に触媒が容器
下部に堆積しないようになっている。供給ガス5は循環
液7と別々に反応器本体1の下部より供給され、分散板
4を通過し、触媒層17を通過する間に反応する。触媒
層17を通過した後、ガス及び液は触媒を分離するため
の清澄層8を通シ、反応ガス及び反応液の一部である反
応生成液は反応器本体1の上部の抜出し管9から抜き出
される。反応液の大部分6は吸引部10及び吸引管11
を経て抜出され、供液管16から循環液7として図示省
略のポンプを介して反応器本体1に循環される。
〔発明が解決しようとする問題点〕
前記のような反応装置において、供給されたガスの分散
が充分でないと、ガス−液の接触効率が悪くなり、反応
に必要な量のガスを液中に溶解させるためには極度に過
剰なガスを供給し、ガス−液の接触界面積を確保するこ
とが必要となる。そうなれば、高圧の反応系に供給する
ためのガスの圧縮機の動力は大きくなり、またガス供給
系の機器も大型化することとなる。
また、ガス分散が不均一であると、反応の生起する個所
が不均一となシ、反応温度分布の不均一化や異常反応と
いった問題が発生する虞れがあり、ガス及び液の分散を
できる限シ均一とすることが不可欠である。
このような点から、従来、種々の分散手段が提案されて
いる。
第5図はその一例で、第4図の三相流動反応装置に用い
られている分散装置である。
第5図において、循環液7は給液管16を経て衝突板1
2に衝突後、反応器本体1下部のデVナムチャンパ27
内を上昇し、分散器20の下部に1乃至複数個設けられ
たスリット14より供給ガス5と一緒に供給され、触媒
層17に流入し、触媒層17を一定高さに膨張させる。
上記の分散器20は液の分散及び供給ガスの分散を助け
るためのもので、例えば蒸留塔に多用されるパブμキャ
ップと類似の形状を有し、分散器20上部側面に噴出ノ
ズ/%/(開口部)21を複数個備え、分散板4に設け
られている。
しかし、この形状の分散器20は、供給ガス及び液の流
通時の流動圧力損失が小さいため、プVナムチャンパ2
7内に形成される気液界面15の微少な変動が個々の分
散器20への供給ガスの供給量に大きく影響する。すな
わち、第5図の一部分を拡大する第6図に示すように、
気液界面15が分散器20aのスリット14aの付近で
下方に変動すると供給ガス5はスリット14aより流入
するが、他方14t)ではまったく流入していないこと
となり、気液界面15の変動が供給ガスの分散に大きく
影響を与えることとなる。
更に、触[一層17の触媒がプレナムチャンバ27内に
落下することを防止するために設けられた触媒落下防止
キャップ18が分散器20に設けられているとは言うも
のの、本反応器の停止時に触媒の落下を完全に防止でき
るとは言い難い。この触媒粒子がプレナムチャンバ27
を経て、図示省略のポンプに入るとポンプ故障の原因と
なり、本三相流動層の運転に多大な支障をきたす。
また、このバブルキャップ類似の分散器20の欠点であ
る低圧損及び触媒の落下防止を改良するものとして、第
7図(4)CB)に示す分散装置が提案されている。こ
の装置では気液混相流体25が分散キャップ18のかわ
りに取付けられた分散プレート19を押しのけながら噴
出ノズル21より触媒層へ分散される。
噴出ノズ71/21は、分散プレート19部分の平面図
である@7図03)に示すように、分散器20の周囲例
えばへ方向に同形状で貫通しており、外面端部はシーμ
を目的とする弁座構造を呈している。また分散プレート
19は柔軟な一体構造で、上記噴出ノズ/I/21のへ
面をそれぞれ塞ぎ外部よりの逆流を防止する弁構造であ
る。分散プレート19は分散器20の上部に固定ポルト
22により固定されている。
気液混相流体23の流入により、この分散プレート19
は押しのけられ、噴出ノズ/I/21より流動層内へ分
散する。分散プレート19は、一種のバネ構造を有して
おシ、流体の流入停止により再び噴出ノズfi/21の
弁座部と密着し、流動層内の主として触媒粒子の分散器
20内への侵入を防止する役目を果す。
分散状態は、いわゆる流体噴出時に分散プレート19が
振動状頗を呈することにより小きざみにふるえガス−液
を細かく切ることになり、特にガスは細胞化され、良好
な分散状態を現出するとされている。
従って、分散プレート19の強度の均一性が非常に厳し
く要求され、分散器が1個の場合はもとより、複数個、
実際の商業機では数百側にも及ぶ場合があり、この分散
デV−ト19の品質管理が実際上不可能に近く、かつこ
の分散プレート19が高温下で振動する丸めに疲労破壊
の問題も指摘される。
万一、この分散プレート19が疲労破壊すると、この疲
労破壊した個所からガスが多量に触媒層に流れ込み、ガ
スの流入部での異常反応が生起し、非常に危険な状部と
なるため、この疲労破壊の防止は必須である。疲労破壊
を防止する丸めには、この分散プレート15’の耐久信
頼性をいかにコントロールし、向上させ得るかにかかつ
ておシ、定期点検時の点検はもちろんのこと、不測の事
態に備えて分散プレート19を全数交換する等の必要が
生じ、工事施工等の観点より実際的でない。
本発明は、以上のような従来の分散手段にみられる問題
点を悉く解消し、供給ガスの分散を良好にして気−液接
触効率を上げ、供給ガス量を低減して経済性を上げるこ
とのできる分散機構を備えた三相流動反応装置を提案す
るものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、上記問題点を、パブμキャップタイプの分散
器内に、フロート台座と、該台座にフロートを内挿する
ことにより解決するものである。
すなわち本発明は、三相流動反応装置本体の下部に多数
の分散筒を植設した分散筒取付は板を設け、該取付は板
の下層の気液混合層から上層の固体粒子層に前記分散筒
を介して気液混相流体を誘導して該固体粒子層を流動化
する三相流動層反応装置において、前記分散筒の内部に
フロート台座を設け、該フロート台座軸芯と軸芯を等し
くするフロートを当該フロート台座上に設置し、該分散
筒上部に単数もしくは複数個の開口部を設け、該分散筒
の頂部に該分散筒と軸芯を同じにしてかつ分散筒外径よ
り大きい内径を有する上端を封じた触媒遮蔽用円筒を前
記分散器取付は板との間に隙間をもたせて設置したこと
を特徴とする三相流動反応装置に関する。
〔実施例及び作用〕
第1図は本発明装置に係る分散機構の一例を示す図であ
る。
第1図中、第4〜7図と同一符号は第4〜7図と同様の
ものを示す。
第1図において、パブμキャップタイプの分散器(分散
筒)20内に、フロート台座25と、該台座25内にフ
ロート24が内部挿入されている。
フロート24は円錐型の金属で製作されており、その中
心軸がフロート台座25の中心軸の軸心上に設置され、
分散器20を流れる気液混相流体23により上方に持上
げられ、気液混相流体23はフロート24とフロート台
座25間の狭い隙間を通過後、分散器20上部側面に複
数個設けられた噴出ノズ/I/(開口部)21より槓方
向に噴出し、触媒防止キャップ(触媒遮蔽用円筒)18
によりその流れを下方に曲げられた後、再度触媒防止キ
ャップ18と分散板(分散筒取付は板)4の狭い隙間よ
り横方向に噴出される。この隙間は三相流動層で使用さ
れる触媒粒子径より僅かに小さい方が、触媒粒子のプレ
ナムチャンバ27内への逆流防止を図る上で好ましい。
また、本発明におけるフロート24は、その自重により
気液混相流体23の流入時に圧力損失が発生するため、
気体の分散を均一化させることができると共に、万一の
運転停止時にはこのフロート24がフロート台座25に
セットされるため、流体の逆流に伴なって触媒粒子がプ
レナムチャンバ27に入ることを防止することができる
更に、本発明における分散機構は、通常の蒸留塔で使用
されるパブμキャップに類似し、かつフロート24やフ
ロート台座25は容易に機械加工できるし、これらの取
換えも簡単である。
また、フロート24の形状も第1図に示す円錐状のみな
らず、球状あるいは円柱状等に目的に応じて変更できる
。なか、円柱状フロートの場合は、第2国内とそのA−
A線断面矢視図である第2図CB)に示すように、下部
にテーパを設けると共に、フロート台座25の軸芯と円
柱状フロート24の軸心とが同一芯上にのるようにフロ
ートガイド26を設ける。
上記のような本発明の分散機構により、気液の分散性は
著しく同上すると共に、固体粒子のプレナムチャンバ2
7への落下防止ができる。
次に、本発明による具体例と従来のものによる比較例を
あげて、本発明による効果を具体的に示す。
比較例1 第4図と第5図に示す形状のプラスチック製コールドフ
ローモデルを用い、従来方式の性能を確認した。反応器
本体1の内径は500■であシ、高さは3000msで
ある。
分散装置は、分散器20径が50+m、噴出ノズ/I/
21は13X29−の長円形のものを周囲に4ケ所設け
、キャップ1B径は75mであり、キャップ18と、分
散板4との隙間は2mである。このような分散器20を
4個取り付けた。
供給液はJI8規定の白灯油を用い、ガスは窒素を、触
媒は見掛は比重1.55で、直径t5■、長さ約5−の
押出し成型品を用いた。操作温度は常温、操作圧力は常
圧である。ガスは空塔速度が4 cs / secとな
るように供給した。また、液は空塔速度1〜10 ty
m / seeの範囲で供給した。
このような条件下で試験し、ガスの滞留量(ガスホーμ
ドアツブ)を測定したところ12〜15 vol %で
ibb、直径数lを越える大きな気泡が多数認められた
また、触媒の分散器20内への浸入も見られ、特に液、
ガスを止めた時など、多数の触媒が侵入し、再流通時に
偏流を生じた。
比較例2 比較例1に記載した試験装置の分散器を第7国内(ロ)
に示す分散器に変更し、比較例1と同様の試験を実施し
た。
分散プレート19は厚さCL2■及びα4■のステンレ
ス板を用いた。
この条件下において、ガスの滞留量は、分散プレート1
9の厚さくL2■、Q、4■いずれの場合も25 vo
l %に達し、直径数−を越える気泡は殆んどなくなり
、全体的に微細気泡で占められ、明らかに分散効果が良
くなり、気−液接触効率の向上が認められた。
また、触媒の逆流、侵入も完全に防止されたが、厚さユ
2■のステンレス板の分散プレート19の場合の実験で
は2000時間運転し、運転終了後、分散プV−)19
の1枚の固定ボルト22周辺にクラックが発見されたの
で、その他の全ての分散プレート19について検査した
ところ、cL2■厚さのものでは5枚に、14箇厚さの
ものでは2枚にヘアークツツクが発見され、その耐久性
に問題があることが判つ泥。
本発明例 比較例1.2に示した分散器を第1図に示す本発明に係
る分散機構に変更し、比較例1.2と同様の試験を実施
した。主要部材の寸法は第3図囚CB)に示す通りであ
夛、第5国内は全体の、第3図但)はフロート台座25
の寸法(単位はm)であり、フロート24の材質として
は 5VS504を使用した。
この条件下におけるガスの滞留量は25 volチであ
υ、気泡の直径も非常に微細であった。
また、ガスの分散も非常に均一化した。2000時間、
5000時間運転し、運転終了後の開放点検結果でも何
ら異常は認められず、本発明の優秀性が確認された。
〔発明の効果〕
本発明装置によれば、=相流動層反応器本体の下部に設
けられた分散機構のフロートとフロート台座が適度の圧
力損失を発生し、ガスの分散を均一にし、少ないガス量
で高い気−液接触効率を得ることができる。
また、この分散機構の部材の疲労破壊といった問題もな
くなり、品質管理上の煩雑さも、また異常反応による危
険も解消される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る分散機構の一例を示す図、第2国
内03)は本発明に係る分散機構の他の例を示す図で、
第2図の)は第2図へ)のA−A線断面矢視図、第3国
内の)は本発明の具体例に用いた分散機構の主要部材の
寸法を示す図、第4図は一般の三相流動層反応装置を示
す図、t45図は従来の分散装置を示す図、第6図は第
5図の一部拡大図、第7図囚ノ)は従来の他の分散装置
を示す図で、第7図CB)は第7図(ト)の一部分の平
面図である。 1:反応器本体 2:静止時の触媒層高 3:沸騰時の触媒層高 4:分散板 5:供給ガス 6:反応液 7:循環液 8:清澄層 9:反応ガス及び反応液坂出管 10:吸引部 11:吸引管 12:衝突板 14ニスリツト 15:気液界面 16:供給管 17:触媒層 18:触媒落下防止キャップ 19:分散プレート 20:分散器 21:噴出ノズμ 22:固定ボルト 25:気液混相流体 24:フロート 25:フロート台座 26:フロートガイド 27:プVナムチャンパ 第2図 (A) 第3図(A) 第4図 第7図 L乙

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 三相流動反応装置本体の下部に多数の分散筒を植設した
    分散筒取付け板を設け、該取付け板の下層の気液混合層
    から上層の固体粒子層に前記分散筒を介して気液混相流
    体を誘導して該固体粒子層を流動化する三相流動層反応
    装置において、前記分散筒の内部にフロート台座を設け
    、該フロート台座軸芯と軸芯を等しくするフロートを当
    該フロート台座上に設置し、該分散筒上部に単数もしく
    は複数個の開口部を設け、該分散筒の頂部に該分散筒と
    軸芯を同じにしてかつ分散筒外径より大きい内径を有す
    る上端を封じた触媒遮蔽用円筒を前記分散器取付け板と
    の間に隙間をもたせて設置したことを特徴とする三相流
    動反応装置
JP8569087A 1987-04-09 1987-04-09 三相流動反応装置 Pending JPS63252540A (ja)

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