JPS6325318B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は輝尽性蛍光体を用いた放射線像変換パ
ネルに関する。さらに詳しくは本発明は線状ポリ
エステル樹脂あるいは架橋剤によつて架橋された
線状ポリエステル樹脂とニトロセルロースとから
なる結合剤中に輝尽性蛍光体を分散してなる蛍光
体層を有する物理的性質の優れ振放射線像変換パ
ネルに関する。 最近新たな放射線像変換方法として、米国特許
第3859527号、同第4236078部、同第4258264号各
明細書等に記載されている方法が注目されてい
る。この放射線像変換方法は輝尽性蛍光体（放射
線を照射した後、可視光線および赤外線から選ば
れる電磁波で励起すると発光を示す螢光体。ここ
で放射線とはＸ線、α線、β線、γ線、高エネル
ギー中性子線、電子線、真空紫外線、紫外線等の
電磁波あるいは粒子線をいう。）からなる放射線
像変換パネルを利用するもので、被写体を透過し
た放射線を該パネルの輝尽性螢光体に吸収せし
め、しかる後該パネルを可視光線および赤外線か
ら選ばれる電磁波（以下「励起光」と称する）で
走査し、輝尽性螢光体中に蓄積された放射線像を
輝尽発光として時系列化して取り出し、これを電
気的に処理して画像化するものである。 上述の放射線像変換方法に用いられる放射線像
変換パネルは基本的には支持体と、この支持体の
片面上に設けられた螢光体層とからなるものであ
る。螢光体層は輝尽性螢光体を結合剤中に分散し
たもので、一般にこの螢光体層の表面（支持体側
とは反対の面）には螢光体層を物理的にあるいは
化学的に保護するための保護膜が設けられてい
る。また螢光体層と支持体とを密接に接着させる
目的で螢光体層と支持体との間に下塗り層が設け
られる場合もある。 上述のような構造を有する放射線像変換パネル
は一般に以下に述べるような製造方法によつて製
造される。まず結合剤と輝尽性螢光体とを適当な
溶剤を用いて適当量混合し、結合剤溶液中に輝尽
性螢光体が分散した塗布液を調製する。次に得ら
れた塗布液をドクターブレード、ロールコータ
ー、ナイフコーター等によつて支持体上に塗布
し、乾燥して螢光体層を形成する。なお支持体と
螢光体層との間に下塗り層を有する構造のパネル
の場合には、あらかじめ支持体上に下塗り層を設
け、その上に塗布液を塗布して螢光体層を形成す
る。螢光体層形成後一般に螢光体層上に螢光体層
を保護するための保護膜が設けられる。なお、本
明細書において「支持体」と言う場合には、特に
断りがない限り、上記下塗り層や後に説明する光
反射層等のパネルにおいて支持体と螢光体層との
中間に位置する層（中間層）があらかじめ支持体
上に設けられたものも含めて意味するものとす
る。 放射線像変換パネルは放射線像記録過程におい
て撮影装置に組込まれて使用され、また放射線像
再生過程において読取装置に組込まれて使用され
る。このために実用上放射線像変換パネルには耐
屈曲性が高いことが要求され、また螢光体層の支
持体に対する接着力が高いことが要求される。す
なわち、放射線像変換パネルは曲げによつて螢光
体層に亀裂が生じないものであることが必要であ
り、また螢光体層が支持体から剥離しないもので
あることが必要である。 また、放射線像変換パネルは放射線像再生過程
において励起光の照射を受ける。更にその後残存
蓄積エネルギーを除去するために光（消去光）を
照射されることがある（特開昭56−11392号参
照）。放射線像変換パネルは繰返し使用されるの
で、該パネルは長期間に亘つて励起光又は消去光
の照射を繰返し受けることになる。このために実
用上放射線像変換パネルには励起光又は消去光に
対する耐光性が高いことが要求される。すなわ
ち、放射線像変換パネルは励起光又は消去光の照
射を長時間受けた場合に感度が低下したり、ある
いは耐屈曲性が低下したりしないものであること
が必要である。このような点から、放射線像変換
パネルの螢光体層に用いられる結合剤は励起光又
は消去光の照射によつて黄ばみを生じ、これによ
つて励起光あるいは輝尽螢光体の発光あるいはそ
の両方を吸収してパネルの感度を低下させたり、
あるいは励起光又は消去光によつてさらに硬化し
てパネルの耐屈曲性を低下させたりしないもので
あることが必要である。 先に説明した放射線像変換パネルの構造は、放
射線用螢光体の代わりに輝尽性螢光体が用いられ
ることを除いては放射線増感紙の構造とほぼ同じ
である。従来放射線増感紙においては螢光体層の
結合剤としてニトロセルロース、酢酸セルロー
ス、等のセルロース誘導体が広く実用されている
が、放射線像変換パネルにおいてもこれらセルロ
ース誘導体を螢光体層の結合剤として使用するこ
とが考えられている。 セルロース誘導体を用いて調製した螢光体層形
成用塗布液は輝尽性螢光体の分散性が良い。しか
しながら、その塗布液を用いて製造したセルロー
ス誘導体を螢光体層の結合剤とする放射線像変換
パネルは耐屈曲性および螢光体層の支持体に対す
る接着力が低く、従つてパネルは曲げによつて螢
光体層に亀裂が生じ易く、また螢光体層が支持体
から剥離し易い。またセルロース誘導体を螢光体
層の結合剤とする放射線像変換パネルは励起光又
は消去光に対する耐光性が低い。すなわち、セル
ロース誘導体は励起光又は消去光によつて黄ばみ
を生じ易く、このためにパネルは励起光又は消去
光の照射を長時間受けた場合に感度の低下が著し
い。またセルロース誘導体は励起光又は消去光に
よつてさらに硬化し、このためにパネルは励起光
又は消去光の照射によつて耐屈曲性が低下する。 上述のようにセルロース誘導体を螢光体層の結
合剤とする放射線像変換パネルは耐屈曲性、螢光
体層の支持体に対する接着力および励起光又は消
去光に対する耐光性が低いものである。従つて、
このセルロース誘導体を螢光体層の結合剤とする
放射線像変換パネルよりも耐屈曲性、螢光体層の
支持体に対する接着力および励起光又は消去光に
対する耐光性の高い放射線像変換パネルが望まれ
ている。 本発明は上述のように状況の下でなされたもの
であり、上記セルロース誘導体を螢光体層の結合
剤とする放射線像変換パネルよりも耐屈曲性、螢
光体層の支持体に対する接着力並びに励起光及び
消去光に対する耐光性の高い放射線像変換パネル
を提供することを目的とするものである。 本発明者等は上記目的を達成するために放射線
像変換パネルの螢光体層に使用する結合剤の探索
研究を行なつてきた。その結果、線状ポリエステ
ル樹脂あるいは架橋剤によつて架橋された線状ポ
リエステル樹脂とニトロセルロースとの混合物を
螢光体層の結合剤として使用した場合には、放射
線像変換パネル製造過程において輝尽性螢光体の
分散性の良い螢光体層形成用塗布液が得られ、ま
たかかる結合剤を用いた放射線像変換パネルはセ
ルロース誘導体を蛍光体層の結合剤とする放射線
像変換パネルに比較して耐屈曲性、螢光体層の支
持体に対する接着力並びに励起光及び消去光に対
する耐光性がより高く、螢光体層側面の機械的強
度も高いことが見出された。 本発明の第１の放射線像変換パネルは支持体
と、この支持体上に設けられた輝尽性螢光体を結
合剤中に分散してなる螢光体層とからなる放射線
像変換パネルにおいて、上記結合剤が線状ポリエ
ステル樹脂とニトロセルロースとの混合物からな
ることを特徴とする。 本発明の第２の放射線像変換パネルは支持体
と、この支持体上に設けられた輝尽性螢光体を結
合剤中に分散してなる螢光体層とからなる放射線
像変換パネルにおいて、上記結合剤が架橋剤によ
つて架橋された線状ポリエステル樹脂とニトロセ
ルロースとの混合物からなることを特徴とする。 以下本発明を詳細に説明する。 本発明の放射線像変換パネルにおいて螢光体層
の結合剤の一成分として用いられる線状ポリエス
テル樹脂は、ジオキシ化合物と二塩基酸との重縮
合反応あるいはオキシ酸の重縮合反応により得ら
れる樹脂として周知の樹脂である。上記ジオキシ
化合物の具体例としてエチレングリコール、１，
３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオー
ル、１，４−シクロヘキサンジメタノール等が挙
げられ、上記二塩基酸の具体例としてコハク酸、
グルタル酸、アジピン酸、テレフタル酸、イソフ
タル酸等が挙げられる。また上記オキシ酸の具体
例としてグリコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石
酸、クエン酸、サリチル酸、安息香酸、没食子
酸、マンデル酸、トロパ酸等が挙げられる。線状
ポリエステル樹脂は種々のものが市販されている
が、本発明においてはそれら市販品を使用するの
が便利である。市販の線状ポリエステル樹脂の具
体例としてバイロン300、バイロン500、バイロン
30p、バイロン250、バイロン90、バイロン200、
バイロン103（以上いずれも東洋紡績製）等が挙げ
られる。 上記線状ポリエステル樹脂は架橋剤によつて架
橋されたものであつてもよい。一般に架橋剤によ
つて架橋された線状ポリエステル樹脂を用いた放
射線像変換パネルは架橋剤によつて架橋されてい
ない線状ポリエステル樹脂を用いた放射線像変換
パネルよりも耐屈曲性、螢光体層の支持体に対す
る接着力並びに励起光および消去光に対する耐光
性が高い。 線状ポリエステル樹脂の架橋剤はジイソシアネ
ート、アジリジン化合物等線状ポリエステル樹脂
の末端水酸基を架橋しうる化合物であればいかな
るものであつてもよいが、特にジイソシアネート
を架橋剤として使用するのが好ましい。線状ポリ
エステル樹脂の架橋剤として使用されるジイソシ
アネートの具体例としてエチレンジイソシアネー
ト、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート等のポリメチレンジイソシアネート、ｐ
−フエニレンジイソシアネート、トリレンジイソ
シアネート、ｐ，p′−ジフエニルメタンジイソシ
アネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート
等の芳香族ジイソシアネート、ｍ−キシリレンジ
イソシアネート等が挙げられる。架橋剤の使用量
には特別な限定はないが、一般に線状ポリエステ
ル樹脂100重量部に対して6.1〜10重量部、好まし
くは１〜４重量部の範囲である。 上記線状ポリエステル樹脂あるいは架橋剤によ
つて架橋された線状ポリエステル樹脂と併用され
るニトロセルロースは硝化度が10.7〜12.2％のも
の好ましく、より好ましくは11.5〜12.2％のもの
である。また線状ポリエステル樹脂あるいは架橋
剤によつて架橋された線状ポリエステル樹脂とニ
トロセルロースとの混合比は一般に60：40乃至
95：５の重量比範囲から選ばれ、好ましくは80：
20乃至95：５の重量比範囲から選ばれる。 本発明の放射線像変換パネルは以下のようにし
て製造される。まず結合剤と輝尽性螢光体とを適
当な溶剤を用いて混合し、結合剤溶液中に輝尽性
螢光体が塗布液を調製する。ここで結合剤成分と
して架橋剤で架橋された線状ポリエステル樹脂が
用いられる場合には、線状ポリエステル樹脂、架
橋剤およびニトロセルロースと輝尽性螢光体とが
混合される。 溶剤としては例えばメタノール、エタノール、
ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール等のアルコー
ル、メチレンクロライド、エチレンクロライド等
の塩素系炭化水素、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル、ジ
オキサンおよびエチレングリコールのモノエチル
エーテルおよびモノメチルエーテル等のエーテル
およびそれらの混合物が用いられる。また輝尽性
螢光体としては、例えば上記米国特許第3859527
号に記載されているSrS：Ce、Sm、SrS：Eu、
Sm、La₂O₂S：Eu、Smおよび（Zn、Cd）Ｓ：
Mn、Ｘ（但しＸはハロゲンである）、米国特許第
4236078号明細書に記載されているZnS：Cu、
Pb、BaO・xAl₂O₃・Eu（但しｘは0.8≦ｘ≦10で
ある）およびM〓Ｏ・xSiO₂：Ａ（但しM〓はMg、
Ca、Sr、Zn、CdまたはBaであり、ＡはCe、
Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、BiまたはMnであり、
ｘは0.5≦ｘ≦2.5である）、LnOX：xA（但しLn
はLa、Ｙ、GdおよびLuのうちの少なくとも１
つ、ＸはClおよびBrのうちの少なくとも１つ、
ｘは０＜ｘ≦0.1である）、米国特許第4239968号
明細書に記載されている（Ba_1-x、M〓ｘ）FX：
yA（但しM〓はMg、Ca、Sr、ZnおよびCdのうち
の少なくとも１つ、ＸはCl、BrおよびＩのうち
の少なくとも１つ、ＡはEu、Tb、Ce、Tm、
Dy、Pr、Ho、Nd、YbおよびErのうちの少なく
とも１つ、ｘは０≦ｘ≦0.6、ｙは０＜ｙ≦0.1で
ある）、特開昭55−12143号公報に記載されている
（Ba_1-x-y、Mgx、Cay）FX：aEu²⁺（但しＸは
Cl、BrおよびＩのうちの少なくとも１つ、ｘお
よびｙは０＜ｘ＋ｙ≦0.6からxy≠０であり、ａ
は10^-6≦ａ≦５×10^-2である）、米国特許第
4261854号明細書に記載されているBaFX：xCe、
yA（但しＸはCl、BrおよびＩのうちの少なくと
も１つ、ＡはIn、Ta、Gd、SmおよびZrのうち
の少なくとも１つ、ｘは０＜ｘ≦２×10^-1、ｙは
０＜ｙ≦５×10^-2である）、特開昭56−2386号公
報に記載されたBaF₂・aBaX₂・bMe〓Ｆ・cMe〓
F₂・dMe〓F₃・eLn（但しＸはCl、BrおよびＩの
うちの少なくとも１つ、Me〓はLiおよびNaのう
ちの少なくとも１つ、Me〓はBe、CaおよびSrの
うちの少なくとも１つ、Me〓はAl、Ga、Ｙおよ
びLaのうちの少なくとも１つ、LnはEu、Ceおよ
びTbのうちの少なくとも１つ、ａは0.90≦ａ≦
1.05、ｂは０≦ｂ≦0.9、ｃは０≦ｃ≦1.2、ｄは
０≦ｄ≦0.03、ｅは10^-6≦ｅ≦0.03であり、かつ
ｂ、ｃ、ｄは同時に０ではない）、特開昭56−238
号公報に記載されている特開昭56−2386号公報の
螢光体にMgF₂を添加した螢光体、特開昭56−
74175号公報に記載されているBaFX・aLiX′・
bBeX₂″・cM〓X₃：dA（但し、Ｘ、X′、X″およ
びＸはCl、BrおよびＩのうちの少なくとも１
つ、M〓はAlおよびGaのうちの少なくとも１つ、
ＡはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、
Yb、Er、Gd、Lu、SmおよびＹのうちの少なく
とも１つ、ａは０≦ａ≦0.1、ｂは０≦ｂ≦0.1、
ｃは０≦ｃ≦0.1、ｄは10^-6≦ｄ≦0.2であり、か
つ０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦0.1である）等の輝尽性螢光
体等が用いられる。しかしながら、本発明の放射
線像変換パネルに用いられる輝尽性螢光体は上述
の螢光体に限られるものではなく、放射線を照射
した後励起光を照射した場合に輝尽発光を示す螢
光体であればいかなる螢光体であつてもよい。実
用的な面から、輝尽性螢光体は450乃至1100nｍ、
特に450乃至750nｍの波長領域の励起光によつて
300乃至600nｍの波長領域に輝尽発光を示す螢光
体であるのが好ましい。 塗布液における結合剤と輝尽性螢光体との混合
比は輝尽性螢光体の種類等によつて異なるが、一
般に結合剤と輝尽性螢光体との混合比は１：200
乃至１：10の重量比範囲から選ばれ、好ましくは
１：100乃至１：20の重量比範囲から選ばれる。 塗布液には該塗布液中での輝尽性螢光体粒子の
分散性を向上させるための分散剤、得られる放射
線像変換パネルの螢光体層における結合剤と輝尽
性螢光体粒子相互の結合力を向上させるための可
塑剤等の添加剤が添加されていてもよい。上記分
散剤としてはフタル酸、ステアリン酸、カプロン
酸、新油性界面活性剤等が用いられる。また上記
可塑剤としては燐酸トリフエニル、燐酸トリクレ
ジル、燐酸ジフエニル等の燐酸エステル、フタル
酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチル等のフタ
ル酸エステル、グリコール酸エチルフタリルエチ
ル、グリコール酸ブチルフタリルブチル等のグリ
コール酸エステル等が用いられる。お特開昭55−
146447号に開示されているように、放射線像変換
パネルの螢光体層中に白色粉末を分散させること
によつてそのパネルの鮮鋭度を向上させることが
できる。また特開昭55−163500号に開示されてい
るように、放射線像変換パネルの螢光体層中に着
色剤を分散させて螢光体層を着色することによつ
てもパネルの鮮鋭度を向上させることができる。
本発明においても、上記塗布液にさらに白色粉末
あるいは着色剤を添加して分散させ、これを用い
て以下に説明するようにして白色粉末あるいは着
色剤が輝尽性螢光体と共に分散した螢光体層を形
成することによつて得られる放射線像変換パネル
の鮮鋭度を向上させることができる。なお着色螢
光体層用の塗布液を調製するに際しては、輝尽性
螢光体粒子表面にあらかじめ着色剤を付着（接着
あるいは吸着）せしめ、これを用いて上述のよう
に塗布液を調製してもよい。 次に上記塗布液を支持体上にドクターブレー
ド、ロールコーター、ナイフコーター等を用いて
均一に塗布し塗膜を形成する。支持体としてはバ
ライタ紙、レジンコート紙、二酸化チタン等の顔
料を含有するピグメント紙、ポリビニルアルコー
ル等をサイジングした紙等の加工紙、一般の紙、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテ
レフタレート等のポリエステルあるいはその他の
高分子材料からなるシート、アルミニウム箔、ア
ルミニウム合金箔等の金属シート等が用いられ
る。 支持体の塗布液が塗布される面は予めゼラチン
等が塗布されていてもよい。なお使用される支持
体が励起光を透過するものである場合には、得ら
れる放射線像変換パネルは支持体の螢光体層側の
面とは反対側の面から励起光を照射することが可
能である。また上記特開昭55−163500号に開示さ
れているように、着色剤によつて着色された支持
体を使用することによつて得られる放射線像変換
パネルの鮮鋭度を向上させることができる。 本発明の放射線像変換パネルは螢光体層と支持
体との間に両者をより密接に接着させるための下
塗り層、特開昭56−12600号あるいは特開昭56−
11393号に開示されている鮮鋭度を向上させるた
めの光反射層等の中間層が設けられていてもよ
い。このような中間層を有する放射線像変換パネ
ルを製造する場合には、上記のような支持体上に
予め下塗り層、光反射層等の中間層を設けたもの
を支持体として使用する。この場合塗布液は中間
層上に塗布されることは言うまでもない。下塗り
層は通常の接着剤を支持体上に塗布することによ
つて設けられる。上記特開昭55−163500号に開示
されているように、着色剤によつて着色された下
塗り層を設けることによつて得られる放射線像変
換パネルの鮮鋭度を向上させることができる。光
反射層はアルミニウム等の金属の蒸着、アルミニ
ウム箔等の金属箔のラミネート、あるいは二酸化
チタン、酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の白
色粉末を適当な結合剤（螢光体層に用いられる結
合剤と同じ結合剤であつてもよい）中に分散して
なる塗布液の塗布等によつて支持体上に設けられ
る。 塗膜形成後、塗膜を加熱し乾燥して支持体上に
螢光体層を形成する。なお結合剤が架橋剤によつ
て架橋された線状ポリエステル樹脂からなる場
合、塗膜中に含まれる線状ポリエステル樹脂およ
び架橋剤はこの加熱乾燥によつて反応し、架橋剤
によつて架橋された線状ポリエステル樹脂が生成
される。螢光体層の厚さは輝尽性螢光体の種類、
結合剤と輝尽性螢光体との混合比等によつて異な
るが、一般には20μｍ乃至１mmであり、好ましく
は100乃至500μｍである。 本発明の放射線像変換パネルにおいては、一般
に螢光体層表面（支持体側とは反対の面）に螢光
体層を物理的にあるいは化学的に保護するための
保護膜が設けられる。保護膜は酢酸セルロース、
ニトロセルロース等のセルロース誘導体、ポリメ
チルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルホルマール、ポリカーボネート、酢酸ビ
ニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等を適当
な溶剤に溶解して螢光体層表面に塗布し乾燥する
か、あるいはポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレン、塩化ビニリデン、ナイロン等の薄膜を
螢光体層表面に適当な接着剤で接着することによ
つて設けられる。保護膜の厚さは３乃至20μｍ程
度が望ましい。この保護膜は螢光体層中に含まれ
る輝尽性螢光体の発光を透過するものでなければ
ならず、また保護膜側から励起光が照射される場
合には（一般に励起光の照射は保護膜側から行な
われる）、保護膜は励起光を透過するものでなけ
ればならない。なお上記特開昭55−163500号に開
示されているように、着色剤によつて着色された
保護膜を設けることによつて得られる放射線像変
換パネルの鮮鋭度を向上させることができる。 以下に述べる実施例で例示されるように、本発
明の放射線像変換パネルはセルロース誘導体を螢
光体層の結合剤とする放射線像変換パネルよりも
耐屈曲性、螢光体層の支持体に対する接着力並び
に励起光および消去光に対する耐光性がより高
く、螢光体層側面の機械的強度も高い。また放射
線像変換パネル製造過程で調製される螢光体層形
成用塗布液における輝尽性螢光体の分散性が高
い。 以上説明したように、本発明は耐屈曲性、螢光
体層の支持体に対する接着力、励起光および消去
光に対する耐光性等の物理的性質の優れた放射線
像変換パネルを提供するものであり、その工業的
利用価置は非常に大きなものである。 次に実施例によつて本発明を説明する。 実施例 １ 15μｍ以上の粒子を分級によつ除去した２価の
ユーロピウム付活弗化臭化バリウム螢光体
（BaFBr：Eu²⁺）500重量部に線状ポリエステル
樹脂（東洋紡績製のバイロン500とバイロン200と
を17：３の重量比で混合したもの）89.9重量部
（樹脂分28.1重量部）を添加し、得られた螢光体
懸濁物にメチルエチルケトン55重量部を添加して
螢光体懸濁物を湿潤させた。この湿潤螢光体懸濁
物にトリイレンジイソシアネート1.3重量部およ
び硝化度11.5％のニトロセルロース41.3重量部
（樹脂分3.1重量部）を添加し、手で粗撹拌した後
さらに燐酸トリクレジル0.5重量部、ｎ−ブタノ
ール5.7重量部およびメチルエチルケトン20重量
部を添加してプロペラミキサーを用いて充分混合
し、粘度が25〜35PS（25℃）の螢光体が均一に分
散した塗布液（塗布液No.１）を調製した。上記か
ら明らかなように、得られた塗布液の組成は以下
の通りであつた。 BaFBr：Eu²⁺螢光体 500重量部 線状ポリエステル樹脂 28.1 〃 トレイレンイソシアネート 1.3 〃 ニトロセルロース 3.1 〃 燐酸トリクレジル 0.5 〃 ｎ−ブタノール 5.7 〃 メチルエチルケトン 75 〃 次に上記塗布液を水平に保たれたガラス板上に
置かれた250μｍ厚のカーボン練込みポリエチレ
ンテレフタレート（支持体）上にドクターブレー
ドを用いて乾燥膜厚が200μｍとなるように均一
に塗布した。塗布後、塗膜を無風状態下で室温で
30分間乾燥し、さらに風速0.2ｍ／秒の状態下で
90℃の温度で10分間加熱乾燥した。このようにし
て支持体上に200μｍ厚の螢光体層を形成し、放
射線像変換パネル（パネルNo.１）を得た。 また上述と同様にして下記第１表に示されるよ
うな組成を有する塗布液No.２および３を調製し、
これら塗布液を用いて上述と同様にして上記放射
線像変換パネルNo.１とほぼ同じ厚さの螢光体層を
有する放射線像変換パネルNo.２および３をそれぞ
れ製造した。なお放射線像変換パネルNo.３は比較
のために製造されたものである。第１表におい
て、表中の数値は各成分の重量部数を表わす。

【表】 次に放射線像変換パネルNo.１〜３について耐屈
曲性、螢光体層の支持体に対する接着力、励起光
および消去光に対する耐光性および螢光体層側面
の機械的強度の評価を行なつた。また塗布液No.１
〜５について輝尽性螢光体（BaFBr：Eu²⁺螢光
体）の分散性の評価を行なつた。その結果を下記
第２表に示す。なお、各物理的性質の評価は以下
に述べるような試験によつて行なつた。 (1) 耐屈曲性試験……幅30mm、長さ50mmのパネル
試験片を螢光体層が上になるように置き、該試
験片を上からステンレス固定板で長手方向の半
分だけ固定し、固定されていない部分を徐々に
屈曲させ、螢光体層に亀裂が生じた時の固定板
と屈曲したパネルとの角度Θを分度器で測定し
た。Θが大きい程パネルは耐屈曲性が高いこと
を意味する。耐屈曲性は×、△および〇の３段
階で評価されたが、×、△および〇はそれぞれ
Θが下記の範囲内にあることを意味する。 ×…0゜＜Θ≦50゜ △…50゜＜Θ≦90゜ 〇…90゜＜Θ≦180゜ (2) 螢光体層の支持体に対する接着力試験…幅10
mm、長さ60mmのパネル試験片の螢光体層上にポ
リエステル粘着テープを貼付けてバツクアツプ
とし、次いで螢光体層と支持体の界面に10mmの
長さの剥離部分をパネルの長手方向につくつ
た。このように細工をしたパネルの支持体とポ
リエリテル粘着テープでバツクアツプした螢光
体層とをテンシロン（東洋ボールドウイン製
UTM−11−20）を用いて引張り速度20mm／分
で互に逆の方向に引張り、螢光体層が10mm剥離
した時の力Ｆ（ｇ）を測定した。Ｆが大きい程
螢光体層の支持体に対する接着力が高いことを
意味する。接着力は×、△および〇の３段階で
評価されたが、×、△および〇はそれぞれＦが
下記の範囲内にあることを意味する。 ×…０ｇ＜Ｆ≦50ｇ △…50ｇ＜Ｆ≦100ｇ 〇…100ｇ＜Ｆ (3) 励起光および消去光に対する耐光性試験…パ
ネルから10cm離れたところに20Wの白色螢光灯
（励起光波長成分および消去光波長成分を含む）
を設置し、照度約15000ルツクスでパネルに光
を照射した。パネルに光を照射する前とパネル
に光を100時間照射した後にパネルの輝尽発光
光量を測定し、照射前の発光光量に対する照射
後の発光光量の比τ（％）を求めた。この比が
小さい程励起光によつて結合剤に黄ばみが生じ
易く、結合剤は励起光および消去光に対する耐
光性が低いことを意味する。なお、輝尽発光光
量の測定はパネルに80KVpのＸ線を照射した
後パネルをHe−Neレーザー光（633nｍ）で励
起し、生じた輝尽発光の輝度を測定することに
よつて行なつた。発光光量は×、△および〇の
３段階で評価されたが、×、△および〇はそれ
ぞれτが下記の範囲内にあることを意味する。 ×…０％＜τ≦76％ △…76％＜τ≦86％ 〇…86％＜τ≦100％ また、光を100時間照射した後のパネルにつ
いて上記(1)の耐屈曲性試験を行なつた。この試
験の結果と上記(1)の試験の結果を比較した場
合、Θの減少の割合が大きい程励起光による結
合剤の硬化の程度が大きいことを意味し、結合
剤は励起光および消去光に対する耐光性が低い
ことを意味する。なお光照射後の耐屈曲性試験
の結果は上記(1)の耐屈曲性試験の結果と同様に
×、△および〇の３段階で評価された。 (4) 螢光体層測面の機械的強度試験…螢光体層が
除去され支持体が露出している部分を有する
150mm×150mmのパネル試験片を準備した。この
パネルの螢光体層の露出断面に支持体露出部分
の方向からステンレス板（先端の厚み0.5mm、
幅15mm）を15mm幅に対して750ｇの力が加わる
ように衝突速度60mm／分で衝突させ、螢光体層
に生じた針の進行方向と同じ方向の偏の長さｔ
（mm）のノギスで測定した。ｔが大きい程螢光
体層側面の機械的強度が低いことを意味する。
螢光体層側面の機械的強度は×、△および○の
３段階で評価されたが、×、△および〇はそれ
ぞれｔが下記の範囲内にあることを意味する。 ×…10mm＜ｔ △…２mm＜ｔ≦10mm 〇…０mm＜ｔ≦２mm (5) 塗布液における輝尽性螢光体の分散性試験…
塗布液をグラインドゲージに２〜３ml塗布し、
ステンレスブレードを用いてグラインドゲージ
値ｌ（μ）を測定した。ｌが大きい程輝尽性螢
光体の分散性が低いことを意味する。分散性は
×、△および〇の３段階で評価されたが、×、
△および〇はそれぞれｌが下記の範囲内にある
ことを意味する。 ×…30μ＜ｌ △…15μ＜ｌ≦30μ 〇…0μ＜ｌ≦15μ なお下記第２表において括弧内の数値は測定
値を示す。

【表】 上記第１表および第２表から明らかなように、
本発明の放射線像変換パネル（No.１および２）は
ニトロセルロースを螢光体層の結合剤とする放射
線像変換パネル（No.３）よりも耐屈曲性、螢光体
層の支持体に対する接着力並びに励起光および消
去光に対する耐光性が高い。本発明の放射線像変
換パネルのうちでも架橋剤によつて架橋された線
状ポリエステル樹脂を用いた放射線像変換パネル
（No.１）は架橋剤によつて架橋されていない線状
ポリエステル樹脂を用いた放射線像変換パネル
（No.２）よりも耐屈曲性、蛍光体層の支持体に対
する接着力並びに励起光および消去光にたいする
耐光性が高く、特に前者は後者よりも耐屈曲性お
よび蛍光体層の支持体に対する接着力が著しく高
い。また本発明の放射線像変換パネル（No.１およ
び２）の蛍光体層側面の機械的強度は良好であ
り、特に架橋剤によつて架橋された線状ポリエス
テル樹脂を用いた放射線像変換パネル（No.１）の
蛍光体層側面の機械的強度はニトロセルロースを
結合剤とする放射線像変換パネル（No.３）の蛍光
体層側面の機械的強度よりも高い。さらに、本発
明の放射線像変換パネルの蛍光体層形成用塗布液
（No.１および２）における輝尽性蛍光体の分散性
は高く、ニトロセルロースを用いて調製した蛍光
体層形成用塗布液（No.３）における輝尽性蛍光体
の分散性と同じレベルにある。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 支持体と、この支持体上に設けられた輝尽性
   蛍光体を結合剤中に分散してなる蛍光体層とから
   なる放射線像変換パネルにおいて、上記結合剤が
   線状ポリエステル樹脂とニトロセルロースとの混
   合物からなることを特徴とする放射線像変換パネ
   ル。 ２ 支持体と、この支持体上に設けられた輝尽性
   蛍光体を結合剤中に分散してなる蛍光体層とから
   なる放射線像変換パネルにおいて、上記結合剤が
   架橋剤によつて架橋された線状ポリエステル樹脂
   とニトロセルロースとの混合物からなることを特
   徴とする放射線像変換パネル。 ３ 上記架橋剤がジイソシアネートであることを
   特徴とする特許請求の範囲第２項記載の放射線像
   変換パネル。