JPS632560A - 蒸気処理システム - Google Patents

蒸気処理システム

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Publication number
JPS632560A
JPS632560A JP62072952A JP7295287A JPS632560A JP S632560 A JPS632560 A JP S632560A JP 62072952 A JP62072952 A JP 62072952A JP 7295287 A JP7295287 A JP 7295287A JP S632560 A JPS632560 A JP S632560A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
workpiece
zone
generating
saturated steam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62072952A
Other languages
English (en)
Inventor
ジェラルド　イー　ウォルドロン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dynapert HTC Corp
Original Assignee
Dynapert HTC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Dynapert HTC Corp filed Critical Dynapert HTC Corp
Publication of JPS632560A publication Critical patent/JPS632560A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D9/00—Level control, e.g. controlling quantity of material stored in vessel
    • G05D9/12—Level control, e.g. controlling quantity of material stored in vessel characterised by the use of electric means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008—Controlling the process

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 蒸気相処理システムにおいては、内蔵された電子流体が
その流体中に位置するヒータで加熱され、飽和蒸気のゾ
ーンが発生される。この飽和蒸気ゾーンに加工品が送ら
れ、処理（例えば、はんだ付け）が完了するまでこのゾ
ーンに保留される。
本発明の目的は、飽和蒸気ゾーンに運ばれている加工品
に関する情報を発生させ、この情報を用いて電子流体用
ヒータへの電力供給を調節して蒸気レベルを、加工品を
適切に処理するために必要な最低レベルへ上昇又は下降
させることである。
本発明の他の目的と利点とは、以下の記述と、本発明の
原理を取り入れた現在好適な実施例を特許法の規定によ
って示す次の図面とから明らかとなろう。
（実施例） 蒸気相処理システムは、電子流体１２を内蔵した容器す
なわちタンク１０を含む。内蔵された電子流体１２は、
電子流体１２の中に位置するヒータ１４によって加熱さ
れ、飽和蒸気のゾーン１６を発生させる。加工品１８は
、様々な形状を持つことができるものであるが、コンベ
ヤ２０の上に置かれ、このコンベヤは、加工品１日を、
入口通路２２を通して飽和蒸気ゾーン１６へ処理のため
に運び、その処理された加工品１８を出口通路２４を通
して積込み位置へ運ぶ。
一直線上に配された別個の熱電対素子３２から成る温度
センサ３０の組は垂直方向から傾斜し、特定の離間した
位置（この場合は、容器１０の中の高度）の温度を検知
する。第２図から分るように、組３０の各熱電対３２は
、選択的にセットすることのできる高度セレクタ３６の
中の関連するスイッチ３４に接続されている。熱電対の
組は曲っていてもよく、水平方向に線状に延在させても
よく、また、２つの離間した熱電対であってもよく、特
定の位置での温度は選択された加重平均をとることによ
って示される。高度セレクタ３６は、本システム中を運
ばれている加工品を特定の場所で検知するための加工品
センサを含むことのできる加工品情報発生器から受信し
た情報に作用する選択論理回路によってセットされる。
この加工品センサは、その最も単純な形態においては、
加工品がその光ビームを遮る時に作動する光学スイッチ
である。加工品情報発生器は加工品識別器を含むことが
できるが、これは、その最も単純な形では、処理されて
いる加工品を識別するために手操作でセット可能なサム
・ホイール・スイッチである。双方の機能をバーコード
読取り器で行なうこともできる。加工品情報発生器は、
その先端を検出することによって加工品の存在を検知す
ることが可能であるのみならず、加工品の後端及び頂面
をも検知可能であって、これにより選択論理回路に所要
の寸法情報を直接供給する光学走査アレイ（図示しない
）であってもよい。選択論理回路は、この情報と、コン
ベヤ速度等の他の情報とに基づいて、実際の温度を読み
取るべき容器１０の高さくどの熱電対を読み取るべきか
）を決定して、飽和蒸気ゾーンが加工品処理のだめの所
望の最低レベルになっている場合にその熱電対が検知す
るべき温度に選択可能設定点回路をセットする。信号変
換回路で変換される高度セレクタ３６からの出力信号は
、選択可能設定点回路信号と共に、比例積分微分コント
ローラ（Ｐ　Ｉ　Ｄ）に出力する差動増幅器に送られる
。ＰｒＤの出力は、選択された容器の高さでの実際の温
度と希望の温度との差を表ねものであり且つ信号変換器
で変換されるものであるが、ヒータ出力コントローラに
供給され、ヒータの出力を調節して、選択された容器高
度における実際の温度と希望の温度との差を消去する。
加工品１８Ａが大きい場合には、もっと高いレベルＬま
で飽和蒸気ゾーンを上昇させなければならない。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明に従って製作された蒸気相システムの断
面図である。 第２図は第１図に示したシステムの蒸気レベルを調節す
るための構成を示す略図である。 図中符号 １０・・・・・・タンク（容器）、１２・・・・・・電
子流体、１４・・・・・・ヒータ、　　　１６・・・・
・・飽和蒸気ゾーン、１８・・・・・・加工品、　　　
３ｏ・旧・・温度センサ、３２・・・・・・熱電対素子
、３４・・団・スイッチ、３６・・・・・・高度セレク
タ。 昭和　　年　　月　　日 １．事件の表示　　昭和６２年特許願第７２９５２号２
゜発明の名称　　　　　蒸気処理ンステム３、補正をす
る者 事件との関係　　出願人 ４、代理人 氏　名　（５９９５）弁理士　中　　村　　　　　稔二
　　、。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）処理蒸気を内蔵する容器と、 可変出力を有し、前記容器内に内蔵された電子液体を加
    熱して飽和蒸気ゾーンを達成するヒータ手段と、 加工品を飽和蒸気ゾーンへ運ぶ手段と、 蒸気ゾーンへ運送された加工品のための選択された飽和
    蒸気ゾーンレベルを画定する手段と、少くとも複数の離
    間した位置の１つにおける実際の温度を表わす信号を発
    生させる選択的にセット可能な手段と、 飽和蒸気ゾーンに運ばれている加工品のために選ばれた
    レベルを有する飽和蒸気ゾーンのための選ばれた位置に
    おける希望の温度を表わす信号を発生させる選択的にセ
    ット可能な手段と、処理されるべき加工品に関する情報
    を発生させる手段と、 前記情報に作用して、実際の温度を表わす信号を発生さ
    せる前記手段をセットし、且つ、選択された位置におけ
    る希望の温度を表わす信号を発生させる前記手段をセッ
    トする手段と、選ばれた位置における希望の温度を表わ
    す信号と実際の温度を表わす信号とを比較し、前記ヒー
    タ手段の出力を変化させて、実際の検知された温度を希
    望の温度に変化させる手段とから成っており、実際の飽
    和蒸気ゾーンレベルを希望の飽和蒸気ゾーンレベルに合
    致させてゆくことを特徴とする蒸気処理システム。
  2. （２）情報を発生させる前記手段は、 選択された位置における加工品の存在を検知する手段と
    、 飽和蒸気ゾーンに運ばれている加工品を識別する手段と
    、から成ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
    の蒸気処理システム。
  3. （３）実際の温度を検知する前記手段は一直線に配され
    た熱電対素子の組であることを特徴とする特許請求の範
    囲第２項記載の蒸気処理システム。
  4. （４）前記の組は垂直方向から傾いていることを特徴と
    する特許請求の範囲第３項記載の蒸気処理システム。
JP62072952A 1986-03-26 1987-03-26 蒸気処理システム Pending JPS632560A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US844393 1986-03-26
US06/844,393 US4629420A (en) 1986-03-26 1986-03-26 Vapor level control for vapor processing system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS632560A true JPS632560A (ja) 1988-01-07

Family

ID=25292608

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62072952A Pending JPS632560A (ja) 1986-03-26 1987-03-26 蒸気処理システム

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4629420A (ja)
EP (1) EP0239381A3 (ja)
JP (1) JPS632560A (ja)

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Also Published As

Publication number Publication date
EP0239381A2 (en) 1987-09-30
US4629420A (en) 1986-12-16
EP0239381A3 (en) 1989-05-24

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