JPS63256490A - 光学記録媒体 - Google Patents

光学記録媒体

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JPS63256490A
JPS63256490A JP62091460A JP9146087A JPS63256490A JP S63256490 A JPS63256490 A JP S63256490A JP 62091460 A JP62091460 A JP 62091460A JP 9146087 A JP9146087 A JP 9146087A JP S63256490 A JPS63256490 A JP S63256490A
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carbon atoms
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小口 芳弘
Yoshio Takasu
高須 義雄
Kyo Miura
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10S430/146Laser beam

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)産業上の利用分野 本発明は改良された光学記録媒体に関し、特に有機色素
薄膜の塗膜性および光学特性、記録再生特性の向上され
た光学記録媒体に関する。
(2)従来の技術 一般に光ディスクおよび光カードなどとして用いる光学
記録媒体は、基体上に設けた薄い記録層に形成された光
学的に検出可能な小さな(例えば、約1μ)ピットをら
せん状または円形状または、直線状のトラック形態にし
て高密度情報を記憶することができる。この様な光学記
録媒体に情報を書き込むには、記録層の表面に集束した
レーザ光を走査し、このレーザ光線が照射された表面の
みがピットを形成し、このピットをらせん状または円形
状または、直線状トラックの形態で形成する。記録層は
レーザ・エネルギーを吸収して光学的に検出可能なピッ
トを形成できる。例えば、ヒートモード記録方式では、
記録層は熱エネルギーを吸収し、その個所に蒸発または
融解により小さな凹部(ピット)を形成できる。また、
別のヒートモード記録方式では照射されてレーザ・エネ
ルギーの吸収により、その個所に光学的に検出可能な濃
度差を有するピットを形成できる。
光学記録媒体に記録された情報はレーザ光をトラックに
沿って走査し、ピットが形成された部分とピッチが形成
されていない部分の光学的変化を読み取ることによって
検出される。例えば、光ディスクの場合、レーザ光がト
ラックに沿って走査され、ディスクより反射された光エ
ネルギーがフォトディテクターによってモニターされる
ピットが形成されていない部分は、レーザ光が充分に反
射されフォトディテクターの出力は大きくなる。一方、
ピットが形成されている部分は、反射が低くなりフォト
ディテクターの出力は小さくなる。
このような光学記録媒体の記録層として、例えばTe、
  Bi、 As、 Sbなどの金属薄膜、またはカル
コゲナイド系非晶質薄膜などの無機化合物が主流になっ
ている。これらの薄膜はレーザ光に対する反射率の制御
が難しく、また温湿度などの影響で酸化されやすいなど
の欠点を有する。
一方、近年光エネルギーを用いて光学的物性変化可能な
有機色素薄膜の研究が盛んに行われている。有機色素薄
膜はレーザ光の発振波長に応じて吸収能を有する薄膜を
容易に選択することができ、さらには色素単独薄膜で特
有、の反射能を有することから、再生に必要な反射光を
得ることができる。
!L、かじ色素のみからなる薄膜は、均一な薄膜に欠け
、また結晶化しやすいなど塗工性、薄膜安定性に欠けて
いる。そのため一手段として有機色素を樹脂と混合する
ことにより、均一で安定な薄膜を形成する方法が用いら
れている。ところが樹脂中に有機色素を混°合すると前
述の色素単独薄膜のような反射能が得に((、そのため
記録再生特性も低下する事が観測されている。
(3)発明が解決しようとする問題点 そこで本発明は、色素単独薄膜と同等の反射性の色素薄
膜を有する光学記録媒体を提供することを主たる目的と
する。
また本発明は、安定性、および耐久性に優れた色素薄膜
を有する光学記録媒体を提供することを他の目的とする
また本発明は塗布溶剤との関係で塗工条件を緩和できる
色素薄膜を有する光学記録媒体を提供することをさらに
他の目的とする。
(4)問題点を解決するための手段 本発明の光学記録媒体は基板上に有機薄膜記録層を有す
る光学記録媒体において、前記有機薄膜記録層が有機色
素と高分子界面活性剤を含有することを特徴とする。
即ち、本発明においては、有機色素と高分子界面活性剤
を含む有機薄膜記録層が均一な色素薄膜を形成すること
ができ、色素単独薄膜と同等の反射性を有する色素薄膜
を得ることができるようになった。
上記色素薄膜は、高分子界面活性剤中に均一なミセル化
状態の有機色素が存在するために、高い反射性を有する
と考えられる。ミセル化状態とは、単分子状態でなく分
子同士が会合した凝集体または極微細な結晶粒子になっ
た有機色素のまわりを界面活性剤が覆い、包みこんだ状
態をいう。このミセル化状態の色素薄膜は、前述の色素
単独薄膜と類似した有機色素の凝集体を容易に形成でき
ることにより色素単独薄膜と同様の反射性を得ることが
できるものと考えられる。さらに高分子の界面活性剤を
用いることにより、均一でかつ安定な色素薄膜を形成で
きるようにすることができる。例えば、アクリル・カー
ボネートなどの樹脂基板に塗布する場合、その基板を浸
さない有機溶媒が選択されるが、記録層に用いる有機色
素は一般に基板を浸さない有機溶媒に溶けにくいため、
基板上に塗布しても均一な色素薄膜を形成できない場合
が多い。ところがこのような場合でも前記高分子界面活
性剤を含む色素薄膜は、後述するように、基板を浸すよ
うな溶媒を使わずに形成することができる。
本発明に用いる高分子界面活性剤としては好適なものは
下記一般式[I]で示される単量体を有する重合体から
なるカチオン性高分子界面活性剤である。
(式中、R2はHまたはCH3;R2,R3は炭素数1
〜4のアルキル基、または炭素数2〜4のヒドロキシア
ルキル基であって、同じでも異なるものがあってもよい
;R4はH1炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜4
のヒドロキシアルキル基またはベンジル基;Aは酸素原
子またはNH,Bは炭素数1〜4のアルキレン基または
炭素数2〜4のヒドロキシアルキレン基;xeはアニオ
ン性対イオンである) 本発明の有機薄膜記録層は有機溶媒中に少なくとも有機
色素と高分子界面活性剤を混合分散し、その分散液を基
板上に塗布することにより得られる。
有機色素と高分子界面活性剤の比率はl:99〜99:
lであり、好ましくは40 : 60〜95:5である
。また有機薄膜記録層の膜厚は10人〜10μm、好ま
しくは400人〜5000人が適当である。
本発明で用いる高分子界面活性剤を具体的に説明すると
、一般式[■コにおいてR2,R3,R4の炭素数1〜
4のアルキル基としてはメチル基、エチル基、n−また
は1so−プロピル基、ブチル基などがあげられる。炭
素数2〜4のヒドロキシアルキル基としては−CH2C
H20H1−CH2CH20H1−CH2CH(CH2
0H)CH3などがあげられる。
R2,R3およびR4のうち好ましいのはメチル基およ
びエチル基である。
Bの炭素数1〜4のアルキレン基としては−CH2CH
2−1−CH2CH2CH2−1−〇H2CH(CH3
)−などがあげられ、炭素数2〜4のヒドロキシアルキ
レン基としては−CH2CH(OH)CH2−などがあ
げられる。Bのうち好ましいのは−CH2CH2−であ
る。
xeのアニオン性対イオンとしてはハロゲンイオン(C
I−、Br−など)、CH30SO3−、C2H50S
O3−。
HSO4−、H2PO4,CH3Co□−、CH3C6
H45o3−。
CH35o3−、 NO3−などがあげられる。Xeの
うち好ましいものはハロゲンイオン、CH30SO3−
およびC2H50SO3−である。
上記一般式[1]で示す単量体は窒素原子含有(メタ)
アクリレートまたは(メタ)アクリルアミドと4級化剤
(メチルクロリド、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、ベン
ジルクロリドなど)または酸(塩酸、硫酸、硝酸、リン
酸、酢酸、パラトルエンスルホン酸など)との反応によ
り容易に得られる。
また一般式[I]の単量体とともに共重合可能な他の単
量体を使用することもできる。この単量体としては一般
式[I]の単量体と混合し共重合単量体となる。
本発明における一般式[■コで示される単量体[I]の
重合体は単量体[I]または単量体[I]と他の単量体
をラジカル重合開始剤を用い重合させることにより製造
できる。
ラジカル重合開始剤としては通常用いられる開始剤たと
えば無機または有機過酸化物(過酸過水素、ジ−t−ブ
チルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、
ベンゾイルパーオキサイドなど)、過酸(過酢酸、過安
息香酸など)、過硫酸塩(過硫酸アンモン、過硫酸カリ
、過硫酸ソーダなど)および脂肪族アゾ化合物(アゾビ
スイソブチルニトリル、アゾビスアミデノブロバンハイ
ドロクロリドなど)があげられる。
ラジカル重合開始剤の使用量は単量体の重量に対して通
常0.1〜0.5%である。
重合反応は重合温度が通常30〜80℃、好ましくは4
0〜60℃で重合時間が通常3〜20時間の広範囲で行
うことができる。
また、前記一般式[I]の単量体を他の樹脂に混合溶解
して用いてもかまわない。その場合、用いる樹脂として
は、ニトロセルロース、リン酸セルロース、硫酸セルロ
ース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸
セルロース、ミリスチン酸セルロース、パルミチン酸セ
ルロース、酢酸、プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸
セルロースなどのセルロースエステル類メチルセルロー
ス、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセ
ルロース、などのセルロースエーテル類、ポリスチレン
、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルアセクール、ポリビニルアルコール、
ポリビーニルピロリドンなどのビニル樹脂類、スチレン
−ブタジェンコポリマー、スチレン−アクリロニトリル
コポリマー、スチレン−ブタジェン−アクリロニトリル
コポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマーなどの
共重合樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルア
クリレート、ポリブチルアクリレート、ポリアクリル酸
、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリアクリ
ロニトリルなどのアクリル樹脂類、ポリエチレンテレフ
タレートなどのポリエステル類、ポリ(4,4’ −イ
ソプロビリデンジフエニレンーコ−1,4シクロヘキシ
レンジメチレンカーボネート)、ポリ(エチレンジオキ
シ−3,3′ −フェニレンチオカーボネート)、ポリ
(4,4’ −イソプロピリデンジフエニレンカーボネ
ートーコーテレフタレート)、ポリ(4,4’ −イソ
プロピリデンジフェニレンカーボネート)、ポリ(4,
4’ −5ec−ブチリデンジフェニレンカーボネート
)、ポリ(4゜4′ −イソプロピリデンジフェニレン
カーボネート−プロツク−オキシエチレン)などのポリ
カーボネート樹脂類、あるいはポリアミド類、ポリイミ
ド類、エポキシ樹脂類、フェノール樹脂類、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンなどのポリオ
レフィン類などを用いることができる。
本発明の有機薄膜記録層に用いる有機色素としては、例
えばシアニン、メロシアニン、トリフェニルメタン、ナ
フトキノン、キサンチン、スクアリウム、クロコニウム
、アズレン、メチンおよびピリリウムなどを含めて、ア
ゾ、スチルベン、フタロシアニン系の直接染料、アゾ、
アントラキノン、トリフェニルメタン、キサンチン、ア
ジン系の酸性染料、シアニン、アゾ、アジン、トリフェ
ニルメタン、アズレン、メチン、ビリリウム系の塩基性
染料、アゾ、アントラキノン、キサンチン、トリフェニ
ルメタン系の媒染、酸性媒染染料、アントラキノン、イ
ンジゴイド系の建染染料、アゾ、アントラキノン、ナフ
タロシアニン、フタロシアニン、トリフェニルメタン系
の油溶染料、硫化染料およびジチオール系などの金属錯
体などを挙げることができる。
特に、塩基性染料が好適である。
本発明の有機薄膜記録層の塗布方法としては、例えば浸
漬コーティング法、スプレーコーティング法、スピンナ
ーコーティング法、ビードコーティング法、マイヤーバ
ーコーティング法、ブレードコーティング法、ローラー
コーティング法、カーテンコーティング法、グラビアコ
ート法などのコーティング法により色素薄膜を形成する
ことができ、また、塗布用有機溶媒としては例えばメタ
ノール、エタノール、イソプロパツール、ジアセトンア
ルコールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンな
どのケトン類、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N
−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメチルスル
ホキシドなどのスルホキシド類、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテルな
どのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル
などのエステル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジク
ロルエチレン、四塩化炭素、トリクロルエチレンなどの
脂肪族ハロゲン化炭化水素類、あるいはベンゼン、トル
エン、キシレン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ンなどの芳香族類などを用いることができる。ただし樹
脂基板上に塗布する場合はその基板を浸さない有機溶媒
を選択する必要がある。
また、本発明の記録媒体に必要に応じて下引き層および
保護層を設けることができる。下引き層は(a)接着性
の向上、(b)水またはガスなどのバリヤー、(C)記
録層の保存安定性の向上および(d)プレグルーブの形
成などを目的として使用される。(a)の目的に対して
は高分子材料例えばアイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂
、ビニル系樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴムな
どの種々の高分子物質およびシランカップリング剤など
を用いることができ、(b)の目的に対しては上記高分
子材料以外に無機化合物例えば5i02.  MgF2
゜Sin、  TiO2,ZnO2,TiN、SiNな
ど、金属または半金属例えばZn、 Cu、 S、 N
i、 Cr、 Ge。
Se、Au、Ag、AIなどを用いることができ、(C
)の目的に対しては上記(a)および(b)について例
示したような材料そして上記(d)の目的としては紫外
線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用い
ることができる。下引き層の膜厚は0.1〜50μm1
好ましくは5〜30μmが適当である。また、保護層は
キズ、ホコリ、汚れなどからの保護および記録層の化学
的安定性の向上を目的として設けられ、その材料として
は下引き層と同じ材料を使用することができる。保護層
の膜厚は0.05μm以上、好ましくは5μm以上が適
当である。
また、本発明における基板は基板側から書込み記録を行
う場合は使用レーザ光に対して透明でな状、カード状な
どのガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレ
ートが通常使用されるが、その他記録媒°体に使用され
るものならどれでもよい。
以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明するが本発
明はこれに限定されるものではない。
実施例1 下記色素化合物(1)2重量部と下記式(2)で示され
る単量体を重合した高分子界面活性剤(平均分子量:1
10万)2重世部を有機溶剤イソプロピルアルコール/
メタノール(重量比:1/1)96重量部に混合し、サ
ンドミル分散機を用いて3時間分散し実施例1の有機薄
膜記録用塗布液を作製した。
色素化合物(1) 式(2)    CH3 」 CH3 (比較例1) 実施例1で用いた色素化合物(1)2重量部をジクロル
エタン98重量部に混合溶解し比較例1の塗布液を作製
した。
比較例2 実施例1で用いた色素化合物(1)2重量部とポリメチ
ルメタクリレート樹脂(平均分子量:95万)2重量部
を有機溶剤メチルエチルケトン96重量部を実施例1と
同様の方法で比較例2の塗布液を作製した。
このようにして作製した実施例1、比較例1、および2
の塗布液を平滑なスライドガラス基板上にスピナー塗布
法により塗布し、乾燥膜厚が900人になるようにそれ
ぞれ有機薄膜を設けた。
そして上記実施例11比較例1および2の有機薄膜の透
過率(T)%および反射率(R)を分光光度計を用いて
測定し、さらに吸収率A (100(T+R))%)を
計算した。(尚、測定は830nmの光を用いて基板側
から光を照射した。また反射率は15°正反射付属装置
を設けた分光光度計を用いた。)その結果を表−1に示
す。
表=1 透過率(T)%   反射率(R)% 吸収率(A)%
実施例1  30       23      47
比較例1   20       23      5
7比較例2   36        16     
 48表−1に示すように実施例1は比較例1と較べて
吸収率が多少小さいものの反射率は同程度であった。こ
れは実施例1の有機薄膜が単位体積当たりに含有する、
色素化合物(1)の割合が、比較例1の%であるために
吸収率は小さくなると考えられ、また反射率は、高分子
界面活性剤の中で色素分子同士が会合し色素の凝集体つ
まり均一なミセル化状態を形成しているために高い反射
率が得られると考えられる。
比較例2は、実施例1のような均一なミセル化状態が形
成されていないために反射率が低いと考えられる。
比較例3 実施例!で用いた色素化合物(1)2重量部を有機溶媒
イソプロピルアルコール/メタノール(重量比1/1)
98重量部に混合し、サンドミル分散機を用いて10時
間分散し比較例3の塗布液を作製した。
比較例3の塗布液は、結晶粒子が残存した分散液で前記
と同様のスピナー塗布法で塗布してもムラが多〈実施例
1のような均一なミセル化状態を形成した有機薄膜は得
られなかった。
実施例2、比較例4,5 実施例1及び比較例1.2で作製した塗布液をフォトポ
リマー法でプレグルーブを設けた厚さ1.2mm直径1
30 m mのアクリル基板上にスピナー塗布法により
塗布し乾燥膜厚950人のそれぞれ実施例2゛および比
較例4,5の記録層を設け、光学記録媒体を作製した。
この様に作製した光学記録媒体をターンテーブル上に取
りつけ1.80 Or p mで回転させながら発振波
長830nmの半導体レーザを用いて基板側からレーザ
ビームが有機薄膜記録層に集束する様に制御しながらス
ポットサイズ1.5μmφ、記録パワー6mWで記録周
波数2 M Hzで記録を行った。次に同じ装置を用い
て再生パワー0 、5 m Wで記録部の再生を行い、
その再生波形をスペクトル解析(スキャニングフィルタ
ー・バンド幅 30KHz)L、てC/N比(キャリア
/ノイズ比)を測定した。
実施例3.4と比較例2の結果を表−2に示す。
表−2 C/N比(dB) 実施例3       55 比較例4        51 比較例5       42 表−2で示すように実施例2は記録層の単位体積当たり
の色素化合物(1)の含有量が比較例4の%にかかわら
ずC/N比は比較例4より高い値が得られた。これは高
分子界面活性剤がよりピット変形をしやす(したために
コントラスト比が大きくなったと考えられる。
さらに、実施例2及び比較例4で用いた塗布液を射出成
型法でプレグルーブを設けた厚さ1 、2 m m直径
130mmのポリカーボネート基板上に実施例2と同様
に塗布したところ、比較例4は基板を浸して白濁したが
、実施例2は均一な有機薄膜を形成し実施例2と同様に
C/N比を測定しても53dBが得られた。
実施例3〜6 ′実施例1で用いた色素化合物及び高分子界面活性剤を
下記表−3に示す化合物にかえて実施例1と同様の方法
でそれぞれ実施例3〜6の有機薄膜記録層用塗布液を作
製した。
表  −3 色素化合物 H3 H3 (平均分子ffi 83万) H3 直 H3 (平均分子量=55万) H3 H3 (平均分子量:94万) H3 (平均分子量:140万) 前記実施例3〜6の塗布液を実施例1および実施例2と
同様の方法でスライドガラス上およびアクリル基板上に
塗布し、透過率9反射率、吸収率およびC/N比を測定
した。その結果を表−4に示す。
表−4 透過率   反射率   吸収率  C/N比T(%)
    R(%)    A(%’)   (dB)実
施例3  20    25   55  56(5)
発明の効果 上述のように本発明の光学記録媒体は以下の効果を奏す
ることができる。
■ 反射率の高い記録再生特性の優れた光学記録媒体が
得られる。
■ 有機色素と高分子界面活性剤からなる有機薄膜記録
層は反射率が高く、C/N比が向上した光学記録媒体を
得ることができる。
■ 有機色素と高分子界面活性剤からなる分散液は、樹
脂基板上にも塗布可能にするものである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板上に有機薄膜記録層を有する光学記録媒体に
    おいて、前記有機薄膜記録層が有機色素および高分子界
    面活性剤を含有することを特徴とする光学記録媒体。
  2. (2)前記高分子界面活性剤が、下記一般式[ I ]で
    示される単量体を有する重合体からなるカチオン性高分
    子界面活性剤である特許請求の範囲第1項記載の光学記
    録媒体。 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1はHまたはCH_3;R_2、R_3は
    炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数2〜4のヒド
    ロキシアルキル基であり、同じでも異っていてもよい;
    R_4はH、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜4
    のヒドロキシアルキル基またはベンジル基;Aは酸素原
    子またはNH、Bは炭素数1〜4のアルキレン基または
    炭素数2〜4のヒドロキシアルキレン基;X^■はアニ
    オン性対イオンである)
JP62091460A 1987-04-13 1987-04-13 光学記録媒体 Expired - Fee Related JP2578426B2 (ja)

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