JPS6325993A - 光結合装置 - Google Patents
光結合装置Info
- Publication number
- JPS6325993A JPS6325993A JP61169155A JP16915586A JPS6325993A JP S6325993 A JPS6325993 A JP S6325993A JP 61169155 A JP61169155 A JP 61169155A JP 16915586 A JP16915586 A JP 16915586A JP S6325993 A JPS6325993 A JP S6325993A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor laser
- chip carrier
- optical fiber
- laser element
- coupling device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/531—Shapes of wire connectors
- H10W72/536—Shapes of wire connectors the connected ends being ball-shaped
Landscapes
- Led Device Packages (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、光通信に用いられる半導体レーザ素子の出
射光を光ファイバに結合する光結合装置に関するもので
ある。
射光を光ファイバに結合する光結合装置に関するもので
ある。
第2図は従来の半導体レーザ素子と光ファイバの光結合
装置を示す断面構成図である。図に示すように、半導体
レーザ素子1はチップキャリア2の上に固定されている
。光ファイバ3の周囲にはばんだ4が充てんされ、この
元ファイバ3は、その先端が半導体レーザ素子1の発光
部に対向するように軸合わせしてチップキャリア2上に
固定され、これにより、ルーザ結合部が4成されている
。
装置を示す断面構成図である。図に示すように、半導体
レーザ素子1はチップキャリア2の上に固定されている
。光ファイバ3の周囲にはばんだ4が充てんされ、この
元ファイバ3は、その先端が半導体レーザ素子1の発光
部に対向するように軸合わせしてチップキャリア2上に
固定され、これにより、ルーザ結合部が4成されている
。
このレーザ結合部はパッケージ5内に気密封じされ、光
ファイバ3はパッケージ5の側面を通じて、半導体レー
ザ素子lに対向した側とは反対側の端がパッケージ5の
外に取り出され、パッケージ5の側面に光ファイバ3が
固定されている。
ファイバ3はパッケージ5の側面を通じて、半導体レー
ザ素子lに対向した側とは反対側の端がパッケージ5の
外に取り出され、パッケージ5の側面に光ファイバ3が
固定されている。
光ファイバ3の固定方法は、まず、はんだ4を融点以上
に加熱して溶融し、光ファイバ3がはんだ4の中で自由
に移動できる状態にする。この状態にて光ファイバ3を
保持し、光ファイバ3と半導体レーザ素子1の出射光6
を効率良く結合するために、光ファイバ3の軸合わせ調
整を行う。結合効率が最大になった位置で調整作業を終
了し、はんだ4を冷却、硬化して、光ファイバ3がチッ
プキャリア2上に固定される。ここで、光ファイバ3の
表面はばんだ4との接着力を増すために、金属薄膜のニ
ーティングが施されている場合が多い。また、光ファイ
バ3の先端は半導体レーザ素子1の出射光6を効率良く
結合するために、球面状に加工されている場合が多い。
に加熱して溶融し、光ファイバ3がはんだ4の中で自由
に移動できる状態にする。この状態にて光ファイバ3を
保持し、光ファイバ3と半導体レーザ素子1の出射光6
を効率良く結合するために、光ファイバ3の軸合わせ調
整を行う。結合効率が最大になった位置で調整作業を終
了し、はんだ4を冷却、硬化して、光ファイバ3がチッ
プキャリア2上に固定される。ここで、光ファイバ3の
表面はばんだ4との接着力を増すために、金属薄膜のニ
ーティングが施されている場合が多い。また、光ファイ
バ3の先端は半導体レーザ素子1の出射光6を効率良く
結合するために、球面状に加工されている場合が多い。
また、チップキャリア2は冷却素子7を介してパッケー
ジ5に取り付けられる。半導体レーザ素子1.チップキ
ャリア2の温度はパッケージ5の温度に関係なく制御で
きる。半導体レーザ素子1を駆動するための電気配線は
、入力端子A8a。
ジ5に取り付けられる。半導体レーザ素子1.チップキ
ャリア2の温度はパッケージ5の温度に関係なく制御で
きる。半導体レーザ素子1を駆動するための電気配線は
、入力端子A8a。
入力端子B8bから金細線A9a、金細線B9bを用い
て行われる。ここで、一方の入力端子B8bへの配線は
、チップキャリア2及びパッケージ5を通じて行われる
0とが多い。もう一方の入力端子A8aは、例えばガラ
ス等の絶縁材料10を用いてパッケージ5に対して絶縁
されている。
て行われる。ここで、一方の入力端子B8bへの配線は
、チップキャリア2及びパッケージ5を通じて行われる
0とが多い。もう一方の入力端子A8aは、例えばガラ
ス等の絶縁材料10を用いてパッケージ5に対して絶縁
されている。
上記のような従来の光結合装置において、半導体レーザ
素子1の入力側の等価回路は第3図に示すように簡略化
できる。第3図は、第2図の光結合装置における半導体
レーザ素子の入力側の等価回路を示す図である。第3図
において、ZLDは半導体レーザ素子1のインピーダン
ス、Laは全綱)諒A9aのインダクタンス、Lbは金
細線B9bのインダクタンス、Cpは冷却素子7のキャ
パシタンスでめる。第3図に示すような等価回路は一種
のフィルタ回路でろり、ある周波数ではインダクタンス
LbとキャパシタンスC1が並列共振を起こす。
素子1の入力側の等価回路は第3図に示すように簡略化
できる。第3図は、第2図の光結合装置における半導体
レーザ素子の入力側の等価回路を示す図である。第3図
において、ZLDは半導体レーザ素子1のインピーダン
ス、Laは全綱)諒A9aのインダクタンス、Lbは金
細線B9bのインダクタンス、Cpは冷却素子7のキャ
パシタンスでめる。第3図に示すような等価回路は一種
のフィルタ回路でろり、ある周波数ではインダクタンス
LbとキャパシタンスC1が並列共振を起こす。
このような光結合装置を高速光通信に使用する目的で、
半導体レーザ素子1を高い周波数で駆動しようとしても
、半導体レーザ素子1に伝わる信号の蚕幅や位相は大き
く変えられてしまい、通信用には適さない。
半導体レーザ素子1を高い周波数で駆動しようとしても
、半導体レーザ素子1に伝わる信号の蚕幅や位相は大き
く変えられてしまい、通信用には適さない。
このような問題を軽減するためには、インダクタンスし
bとキャパシタンスC9のいずれか、もしくは両方を小
さくして、フィルタ回路の影響が大きく出る周波数帯を
より高くして、通信の使用周波数帯での影響を小さくす
れば良い。しかるに、冷却素子7のキャパシタンスC1
は冷却素子7に特有のものと考えられるため、金細線B
9bのインダクタンスしbを小さくすることを考えれば
良い。
bとキャパシタンスC9のいずれか、もしくは両方を小
さくして、フィルタ回路の影響が大きく出る周波数帯を
より高くして、通信の使用周波数帯での影響を小さくす
れば良い。しかるに、冷却素子7のキャパシタンスC1
は冷却素子7に特有のものと考えられるため、金細線B
9bのインダクタンスしbを小さくすることを考えれば
良い。
一般に、線材料のインダクタンスを小さくするためには
、線の直径を太くすれば良いことは知られている。とこ
ろが、金細線B9bを太くすると、熱を伝えやすくなる
ため、パッケージ5とチップキャリア2の間が断線でき
なくなり、冷却素子7による冷却能力が低下してしまう
という問題点があった。
、線の直径を太くすれば良いことは知られている。とこ
ろが、金細線B9bを太くすると、熱を伝えやすくなる
ため、パッケージ5とチップキャリア2の間が断線でき
なくなり、冷却素子7による冷却能力が低下してしまう
という問題点があった。
この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、配線のインダクタンスを小さくして、半導体レー
ザ素子を高い周波数で駆動できるようにするとともに、
冷却素子lこよる冷却能力が低下しない光結合装置を得
ることを目的とする。
ので、配線のインダクタンスを小さくして、半導体レー
ザ素子を高い周波数で駆動できるようにするとともに、
冷却素子lこよる冷却能力が低下しない光結合装置を得
ることを目的とする。
この発明に係る光結合装置は、チップキャリアとパッケ
ージの間の電気配線には、表面に41性金属メッキを施
した断熱材料を用い、これにより、電気配aを行ってい
るものである。
ージの間の電気配線には、表面に41性金属メッキを施
した断熱材料を用い、これにより、電気配aを行ってい
るものである。
この発明の光結合装置においては、表面に導電性金属メ
ッキを施した断熱材料を用いて電気配線を行っているた
め−こ、チップキャリアとパッケージの間の断熱は保持
される。従って、冷却素子による冷却能力は、金細線を
用いて配線を行う上記従来装置の場合と同程度である。
ッキを施した断熱材料を用いて電気配線を行っているた
め−こ、チップキャリアとパッケージの間の断熱は保持
される。従って、冷却素子による冷却能力は、金細線を
用いて配線を行う上記従来装置の場合と同程度である。
一方、断熱材料の断面積を大きくすることによってイン
ダクタンスが小さくなるため、半導体レーザ素子を高い
周波数で駆動することができる。
ダクタンスが小さくなるため、半導体レーザ素子を高い
周波数で駆動することができる。
第1図はこの発明の一実施例である光結合装置を示す断
面構成図で、図中の各符号1〜8.9a。
面構成図で、図中の各符号1〜8.9a。
10は上記第2図に示す従来装置と同一である。
また、入力端子B8bとチップキャリア2の間の配線は
、金メッキを施したセラミックス11を用いて行われる
。
、金メッキを施したセラミックス11を用いて行われる
。
さて、金メッキを施したセラミックス11の大きさは、
チップキャリア2の大きさと同程度まで大きくできるた
めに、第3図に示すLbに相当するインダクタンスは極
めて小さくなる。従って、入力端子A8a、入力端子B
8bから半導体レーザ素子1を高い周波数で駆動するこ
とができる。−方、パッケージ5とチップキャリア2の
間の断熱は1.従来装置と同程度に保たれるため、冷却
素子7による冷却能力が損なわれることはない。
チップキャリア2の大きさと同程度まで大きくできるた
めに、第3図に示すLbに相当するインダクタンスは極
めて小さくなる。従って、入力端子A8a、入力端子B
8bから半導体レーザ素子1を高い周波数で駆動するこ
とができる。−方、パッケージ5とチップキャリア2の
間の断熱は1.従来装置と同程度に保たれるため、冷却
素子7による冷却能力が損なわれることはない。
なお、上記実施例では、表面に導電性金属メッキを施し
た断熱材料として、金メッキを施したセラミックス11
を用いた場合について示したが、他の導電性金属メッキ
を施した場合、あるいは他の断熱材料を用いた場合でも
良く、上記実施例と同様の効果を奏する。
た断熱材料として、金メッキを施したセラミックス11
を用いた場合について示したが、他の導電性金属メッキ
を施した場合、あるいは他の断熱材料を用いた場合でも
良く、上記実施例と同様の効果を奏する。
また、上記実施例では、半導体レーザ素子1の出射光6
を直接光ファイバ3に結合する場合について説明したが
、半導体レーザ素子1と光ファイバ3の間にレンズ等の
光学系を配置した場合でも良く、上記実施例と同様の効
果を奏する。
を直接光ファイバ3に結合する場合について説明したが
、半導体レーザ素子1と光ファイバ3の間にレンズ等の
光学系を配置した場合でも良く、上記実施例と同様の効
果を奏する。
また、上記実施例では、半導体レーザ素子1を用いた場
合について説明したが、発光ダイオード等の他の発光半
導体素子を用いた場合でも良く、上記実施例と同様の効
果を奏する。
合について説明したが、発光ダイオード等の他の発光半
導体素子を用いた場合でも良く、上記実施例と同様の効
果を奏する。
この発明は以上説明したとおり、光結合装置において、
チップキャリアとパッケージの間を、表面に導電性金属
メッキを施した断熱材料を用いて電気配線をするように
したので、冷却素子による冷却能力を損なうことなく、
高い周波数で半導体レーザ素子を駆動できる光結合装置
が得られるという優れた効果を奏するものである。
チップキャリアとパッケージの間を、表面に導電性金属
メッキを施した断熱材料を用いて電気配線をするように
したので、冷却素子による冷却能力を損なうことなく、
高い周波数で半導体レーザ素子を駆動できる光結合装置
が得られるという優れた効果を奏するものである。
第1図はこの発明の一実施例である光結合装置を示す断
面溝底図、第2図は従来の半導体レーザ素子と光ファイ
バの光結合装置を示す断面、溝底図、第3図は、第2図
の光結合装置における半導体レーザ素子の入力側の等両
回路を示す図である。 図において、1・・・半導体レーザ素子、2・・・チッ
プキャリア、3・・・光ファイバ、4・・・はんだ、5
・・・パッケージ、6・・−出射光、7・・・冷却素子
、8a・・・入力端子A、8b・・・入力端子B、9a
・・・金細線A、9b・・・金細線B、1o・・・絶縁
材料、11・・・セラミックスである。 なお、各図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
面溝底図、第2図は従来の半導体レーザ素子と光ファイ
バの光結合装置を示す断面、溝底図、第3図は、第2図
の光結合装置における半導体レーザ素子の入力側の等両
回路を示す図である。 図において、1・・・半導体レーザ素子、2・・・チッ
プキャリア、3・・・光ファイバ、4・・・はんだ、5
・・・パッケージ、6・・−出射光、7・・・冷却素子
、8a・・・入力端子A、8b・・・入力端子B、9a
・・・金細線A、9b・・・金細線B、1o・・・絶縁
材料、11・・・セラミックスである。 なお、各図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (3)
- (1)半導体レーザ素子と、この半導体レーザ素子と光
学的に結合された光ファイバと、前記半導体レーザ素子
と光ファイバを保持するチップキャリアと、このチップ
キャリアを搭載する冷却素子と、前記4つの要素を収納
し、一端より前記光ファイバを外部に取り出すパッケー
ジとより成り、前記チップキャリアとパッケージが前記
半導体レーザ素子の結電線路の一部を兼ねている光結合
装置において、前記チップキャリアとパッケージの間の
電気配線として、表面に導電性金属メッキを施した断熱
材料を用いたことを特徴とする光結合装置。 - (2)前記断熱材料として、セラミックスを用いたこと
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光結合装置。 - (3)前記導電性金属メッキとして、金メッキを用いた
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光結合装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61169155A JPH0634424B2 (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 光結合装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61169155A JPH0634424B2 (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 光結合装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6325993A true JPS6325993A (ja) | 1988-02-03 |
| JPH0634424B2 JPH0634424B2 (ja) | 1994-05-02 |
Family
ID=15881304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61169155A Expired - Lifetime JPH0634424B2 (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 光結合装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0634424B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63160289A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-04 | Hitachi Ltd | 発光素子モジユ−ル |
| JPH02197185A (ja) * | 1989-01-26 | 1990-08-03 | Fujitsu Ltd | 電子式冷却素子内蔵半導体レーザアセンブリ |
| JPH0475394A (ja) * | 1990-07-18 | 1992-03-10 | Fujitsu Ltd | 半導体レーザモジュール |
| US5962889A (en) * | 1995-07-31 | 1999-10-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Nonvolatile semiconductor memory with a floating gate that has a bottom surface that is smaller than the upper surface |
| KR100856182B1 (ko) * | 2002-03-09 | 2008-09-03 | 엘지전자 주식회사 | 레이저 다이오드의 냉각장치 |
-
1986
- 1986-07-18 JP JP61169155A patent/JPH0634424B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63160289A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-04 | Hitachi Ltd | 発光素子モジユ−ル |
| JPH02197185A (ja) * | 1989-01-26 | 1990-08-03 | Fujitsu Ltd | 電子式冷却素子内蔵半導体レーザアセンブリ |
| JPH0475394A (ja) * | 1990-07-18 | 1992-03-10 | Fujitsu Ltd | 半導体レーザモジュール |
| US5962889A (en) * | 1995-07-31 | 1999-10-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Nonvolatile semiconductor memory with a floating gate that has a bottom surface that is smaller than the upper surface |
| KR100856182B1 (ko) * | 2002-03-09 | 2008-09-03 | 엘지전자 주식회사 | 레이저 다이오드의 냉각장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0634424B2 (ja) | 1994-05-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |