JPS6326321B2 - - Google Patents
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- JPS6326321B2 JPS6326321B2 JP3684380A JP3684380A JPS6326321B2 JP S6326321 B2 JPS6326321 B2 JP S6326321B2 JP 3684380 A JP3684380 A JP 3684380A JP 3684380 A JP3684380 A JP 3684380A JP S6326321 B2 JPS6326321 B2 JP S6326321B2
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- JP
- Japan
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- defect
- unit
- comparator
- photodetector
- length
- Prior art date
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- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、光の回折現象を利用して規則性パ
ターン中の欠陥を検出するレーザ光回折パターン
空間周波数フイルタリング方式の検査装置に関
し、特に逆フーリエ変換面上に生ずる輝点から単
位矩形開口の規則的配列で成る被検査パターン中
の欠陥の有無及び種類を認識するための装置に関
する。
ターン中の欠陥を検出するレーザ光回折パターン
空間周波数フイルタリング方式の検査装置に関
し、特に逆フーリエ変換面上に生ずる輝点から単
位矩形開口の規則的配列で成る被検査パターン中
の欠陥の有無及び種類を認識するための装置に関
する。
各種メタルフイルタ、ICマスク等に代表され
る規則性を持つたパターン中の欠陥を検出する方
法として、近年レーザ光を用いたレーザ光回折パ
ターン空間周波数フイルタリング方式(以下、単
に空間フイルタリング方式とする)が実用化され
ている。この空間フイルタリング方式は、2次元
画像の処理において従来行なわれている微小光ビ
ームで2次元画像を走査し、得られた出力信号を
電子計算機で処理する方式が処理の複雑さ、長い
処理時間、高価という問題点を持つているのに対
し、2次元画像の空間的並列処理が簡単で、しか
も安価な光学系で高速に達成できるといつた利点
を有している。このため、主に規則性2次元パタ
ーンを持つ工業製品たとえばメタルフイルタ、
ICマスク、繊維等の欠陥検査装置として実用化
されている。
る規則性を持つたパターン中の欠陥を検出する方
法として、近年レーザ光を用いたレーザ光回折パ
ターン空間周波数フイルタリング方式(以下、単
に空間フイルタリング方式とする)が実用化され
ている。この空間フイルタリング方式は、2次元
画像の処理において従来行なわれている微小光ビ
ームで2次元画像を走査し、得られた出力信号を
電子計算機で処理する方式が処理の複雑さ、長い
処理時間、高価という問題点を持つているのに対
し、2次元画像の空間的並列処理が簡単で、しか
も安価な光学系で高速に達成できるといつた利点
を有している。このため、主に規則性2次元パタ
ーンを持つ工業製品たとえばメタルフイルタ、
ICマスク、繊維等の欠陥検査装置として実用化
されている。
次に、このような空間フイルタリング方式を利
用した欠陥検査装置の光学系の基本構成を第1図
に示して説明する。すなわち、レーザ発振器1を
出たレーザビーム2は、コリメータ3によつて拡
大された平行光4となつて被検査物5に当てられ
る。しかして、被検査物5はフーリエ変換レンズ
7の前焦点面上に置かれており、後焦点面上には
被検査物5を通過する時に回折した光6によつて
被検査物5のフーリエ変換スペクトルが現われ
る。また、フーリエ変換レンズ7の後焦点面上に
は空間フイルタ8(たとえばフーリエ変換スペク
トルの強度分布を記録したネガ写真フイルム、方
向性ハイカツト空間フイルタ等)が配設されてお
り、被検査物5のフーリエ変換スペクトルのう
ち、正常パターンに相当するスペクトルのみが空
間フイルタ8によつて吸収され、欠陥パターンに
相当するスペクトルは透過される。ところで、こ
の空間フイルタ8は逆フーリエ変換レンズ10の
前焦点面上に配置されているため、空間フイルタ
8を透過した光9はフーリエ変換レンズ10によ
り逆フーリエ変換され、逆フーリエ変換レンズ1
0の後焦点面上に空間フイルタリングされた逆フ
ーリエ変換像、すなわち被検査物5の欠陥部分だ
けの像となつて現われ、これが光検出器11によ
つて検出される。しかして、逆フーリエ変換レン
ズ10の後焦点面上に光検出器11の代りにスク
リーンを置けば、スクリーン上に欠陥部分が明る
い点となつて現われるため、視覚的に欠陥を認識
することもできる。以上が空間フイルタリング方
式の基本構成である。
用した欠陥検査装置の光学系の基本構成を第1図
に示して説明する。すなわち、レーザ発振器1を
出たレーザビーム2は、コリメータ3によつて拡
大された平行光4となつて被検査物5に当てられ
る。しかして、被検査物5はフーリエ変換レンズ
7の前焦点面上に置かれており、後焦点面上には
被検査物5を通過する時に回折した光6によつて
被検査物5のフーリエ変換スペクトルが現われ
る。また、フーリエ変換レンズ7の後焦点面上に
は空間フイルタ8(たとえばフーリエ変換スペク
トルの強度分布を記録したネガ写真フイルム、方
向性ハイカツト空間フイルタ等)が配設されてお
り、被検査物5のフーリエ変換スペクトルのう
ち、正常パターンに相当するスペクトルのみが空
間フイルタ8によつて吸収され、欠陥パターンに
相当するスペクトルは透過される。ところで、こ
の空間フイルタ8は逆フーリエ変換レンズ10の
前焦点面上に配置されているため、空間フイルタ
8を透過した光9はフーリエ変換レンズ10によ
り逆フーリエ変換され、逆フーリエ変換レンズ1
0の後焦点面上に空間フイルタリングされた逆フ
ーリエ変換像、すなわち被検査物5の欠陥部分だ
けの像となつて現われ、これが光検出器11によ
つて検出される。しかして、逆フーリエ変換レン
ズ10の後焦点面上に光検出器11の代りにスク
リーンを置けば、スクリーン上に欠陥部分が明る
い点となつて現われるため、視覚的に欠陥を認識
することもできる。以上が空間フイルタリング方
式の基本構成である。
次に、第2図は単位矩形開口20の規則的配列
で成る被検査パターンの一例を示すものであり、
かかる被検査パターンの欠陥には第3図A,Bに
示すように、下限幅a及び下限高さbで規定され
る高さ型欠陥21A及び21Bと、第3図C,D
に示すように下限高さb以下のものでも欠陥が長
い場合には、下限幅c(>a)及び下限高さd(<
b)で規定される長さ型欠陥21C及び21Dと
がある。しかして、従来はこのような高さ型欠陥
や長さ型欠陥を確実に検査することができず、迅
速確実に規則性パターンを検査することができる
装置の出現が望まれていた。この発明はかかる要
求を十分に満足し得るものである。
で成る被検査パターンの一例を示すものであり、
かかる被検査パターンの欠陥には第3図A,Bに
示すように、下限幅a及び下限高さbで規定され
る高さ型欠陥21A及び21Bと、第3図C,D
に示すように下限高さb以下のものでも欠陥が長
い場合には、下限幅c(>a)及び下限高さd(<
b)で規定される長さ型欠陥21C及び21Dと
がある。しかして、従来はこのような高さ型欠陥
や長さ型欠陥を確実に検査することができず、迅
速確実に規則性パターンを検査することができる
装置の出現が望まれていた。この発明はかかる要
求を十分に満足し得るものである。
以下にこの発明を説明する。
第1図に従つて説明した空間フイルタリング方
式を利用した欠陥検査装置において、第2図に示
したような規則性パターンを持つ被検査物5を、
光軸に直角な面内において矢印12の方向に等速
平行移動させると、その移動に伴なつて第3図A
〜Dに示す欠陥21A〜21Dの部分だけが明る
い点となつて再回折像面上を矢印12と反対の方
向に移動するが、この発明ではこれを検出する光
検出器11の代りに以下に説明するフオトデイテ
クタアレイを用いる。すなわち、第4図に示すよ
うな配置に、フオトデイテクタアレイ40を規則
性パターン20に対して設ける。しかして、直線
長形状のフオトデイテクタアレイ40を構成する
各単位フオトデイテクタ41はそれぞれ矩形の開
口面を有し、その辺42及び43の長さは、高さ
型欠陥21A及び21Bの下限幅aと同下限高さ
bのうちの大きい方よりも長くなつているが、辺
42の長さと辺43の長さが等しい必要はない。
デイテクタ41を、矩形開口面の同一方向の辺が
互いに接するように一列に配列してフオトデイテ
クタアレイ40を構成し、このフオトデイテクタ
アレイ40を被検査パターン20の移動方向を示
す矢印12の方向に直角な方向で逆フーリエ変換
された面上に配設する。また各単位フオトデイテ
クタ41からの各出力は第5図A及びBに示すよ
うな処理回路で処理される。今、フオトデイテク
タアレイ40が、n個の単位フオトデイテクタ4
1によつて構成されているとすると、単位フオト
デイテクタ41の検出信号PS1〜PSnは増幅器
50で増幅され、その増幅信号PSがスレツシヨ
ルド設定値ST1のコンパレータ51に入力され
ると共に、スレツシヨルド設定値ST2のコンパ
レータ52に入力されコンパレータ52の出力
PSC12はゲート回路53に入力される。しかし
て、ゲート回路53には一定周波数のクロツクパ
ルスCPが入力されており、ゲート回路53が開
いた時にクロツクパルスCPはカウンタ54に入
力されて計数されるようになつている。また、コ
ンパレータ51の出力PSC11及びカウンタ54
の計数出力CNはそれぞれ選択回路55に入力さ
れ、その出力がコンピユータの割込処理のための
割込信号及び割込アドレス発生回路56に入力さ
れるようになつている。また、以上説明した動作
と平行して、次の動作も行なわれる。すなわち単
位フオトデイテクタ41の検出信号PS1〜PSn
は増幅された後に、コンパレータ51及び52と
並列に配置されるスレツシヨルド設定値ST3の
コンパレータ57に入力される。このコンパレー
タ57の出力AN1〜ANnは、第5図Bに示すよ
うな多入力アンド回路(図では一例として3入
力)の配列より成る検出回路を経て、前述の割込
信号及び割込アドレス発生回路に入力される。か
くして、パターン20の欠陥が検出される。
式を利用した欠陥検査装置において、第2図に示
したような規則性パターンを持つ被検査物5を、
光軸に直角な面内において矢印12の方向に等速
平行移動させると、その移動に伴なつて第3図A
〜Dに示す欠陥21A〜21Dの部分だけが明る
い点となつて再回折像面上を矢印12と反対の方
向に移動するが、この発明ではこれを検出する光
検出器11の代りに以下に説明するフオトデイテ
クタアレイを用いる。すなわち、第4図に示すよ
うな配置に、フオトデイテクタアレイ40を規則
性パターン20に対して設ける。しかして、直線
長形状のフオトデイテクタアレイ40を構成する
各単位フオトデイテクタ41はそれぞれ矩形の開
口面を有し、その辺42及び43の長さは、高さ
型欠陥21A及び21Bの下限幅aと同下限高さ
bのうちの大きい方よりも長くなつているが、辺
42の長さと辺43の長さが等しい必要はない。
デイテクタ41を、矩形開口面の同一方向の辺が
互いに接するように一列に配列してフオトデイテ
クタアレイ40を構成し、このフオトデイテクタ
アレイ40を被検査パターン20の移動方向を示
す矢印12の方向に直角な方向で逆フーリエ変換
された面上に配設する。また各単位フオトデイテ
クタ41からの各出力は第5図A及びBに示すよ
うな処理回路で処理される。今、フオトデイテク
タアレイ40が、n個の単位フオトデイテクタ4
1によつて構成されているとすると、単位フオト
デイテクタ41の検出信号PS1〜PSnは増幅器
50で増幅され、その増幅信号PSがスレツシヨ
ルド設定値ST1のコンパレータ51に入力され
ると共に、スレツシヨルド設定値ST2のコンパ
レータ52に入力されコンパレータ52の出力
PSC12はゲート回路53に入力される。しかし
て、ゲート回路53には一定周波数のクロツクパ
ルスCPが入力されており、ゲート回路53が開
いた時にクロツクパルスCPはカウンタ54に入
力されて計数されるようになつている。また、コ
ンパレータ51の出力PSC11及びカウンタ54
の計数出力CNはそれぞれ選択回路55に入力さ
れ、その出力がコンピユータの割込処理のための
割込信号及び割込アドレス発生回路56に入力さ
れるようになつている。また、以上説明した動作
と平行して、次の動作も行なわれる。すなわち単
位フオトデイテクタ41の検出信号PS1〜PSn
は増幅された後に、コンパレータ51及び52と
並列に配置されるスレツシヨルド設定値ST3の
コンパレータ57に入力される。このコンパレー
タ57の出力AN1〜ANnは、第5図Bに示すよ
うな多入力アンド回路(図では一例として3入
力)の配列より成る検出回路を経て、前述の割込
信号及び割込アドレス発生回路に入力される。か
くして、パターン20の欠陥が検出される。
このような構成において、単位矩形開口パター
ンを有する被検査物20を等速平行移動装置によ
つて、光軸に直角かつフオトデイテクタアレイ4
0の長さ方向に直角に一定速度で平行移動させる
と、欠陥21A〜21Dによつて生ずる逆フーリ
エ変換面上の輝点もそれに伴つて一定速度で平行
移動してフオトデイテクタアレイ40を横切る。
この場合、フオトデイテクタアレイ40中の欠陥
に対応する単位フオトデイテクタ41の検出信号
PS1〜PSnは、第6図A〜Cに示すようになる。
ここに、第6図Aは第3図A,Bに示すような高
さ型欠陥に対応するものであり、第6図Bは第3
図C,Dに示すような長さ型欠陥のうち、矢印1
2に平行な単位矩形開口20の辺に生じたものに
対応するものであり第6図Cは第3図C,Dに示
すような長さ型欠陥のうち、矢印12に直角な辺
に生じたものに対応するものであり、コンパレー
タ51のスレツシヨルド設定値ST1は第6図A
に示すようなレベルに設定され、コンパレータ5
2のスレツシヨルド設定値ST2は第6図Bに示
すようなレベルに設定され、コンパレータ57の
スレツシヨルド設定値ST3は第6図Cに示すよ
うなレベルに設定されている。このような単位フ
オトデイテクタ41からの検出信号PS1〜PSn
は増幅器50で増幅され、この増幅された信号
PSがコンパレータ51,52及び57に入力さ
れる。しかして、コンパレータ51のスレツシヨ
ルド設定値ST1は第6図Aに示すような高さ型
欠陥の下限サイズST1に設定されており、検出
信号PSがこの下限サイズST1を越えると、コン
パレータ51から高さ型欠陥認識パルスPSC11
が出力され、この認識パルスPSC11が選択回路
55に入力される。また、コンパレータ52のス
レツシヨルド設定値ST2は第6図Bに示すよう
に、高さ型欠陥の下限サイズST1よりも低い辺
22の長さ型欠陥の下限サイズST2に設定され
ており、検出信号PSがこの下限サイズST2を越
えると、コンパレータ52からパルス信号PSC1
2が出力され、これがゲート回路53に入力され
る。パルス信号PSC12がゲート回路53に入力
されると、ゲート回路53はクロツクパルスCP
をカウンタ54に入力する。カウンタ54はクロ
ツクパルスCPを計数することによつて辺22の
長さ型欠陥に基づく信号波形の時間的長さを測定
し、長さ型欠陥認識パルスCNを選択回路55に
入力する。つまり、カウンタ54は辺22の長さ
型欠陥の下限長さに相当する数のクロツクパルス
CPを計数した時に、認識パルスCNを出力する。
このように、コンパレータ51から出力される高
さ型欠陥認識パルスPSC11及びカウンタ54か
ら出力される辺22の長さ型欠陥認識パルスCN
はそれぞれ選択回路55に入力されるが、この選
択回路55は辺22の長さ型欠陥のサイズが高さ
型欠陥の下限サイズST1を越えることによつて
認識パルスPSC11及びCNが同時に発生された
場合、長さ型欠陥認識パルスCNを無視する機能
を有している。
ンを有する被検査物20を等速平行移動装置によ
つて、光軸に直角かつフオトデイテクタアレイ4
0の長さ方向に直角に一定速度で平行移動させる
と、欠陥21A〜21Dによつて生ずる逆フーリ
エ変換面上の輝点もそれに伴つて一定速度で平行
移動してフオトデイテクタアレイ40を横切る。
この場合、フオトデイテクタアレイ40中の欠陥
に対応する単位フオトデイテクタ41の検出信号
PS1〜PSnは、第6図A〜Cに示すようになる。
ここに、第6図Aは第3図A,Bに示すような高
さ型欠陥に対応するものであり、第6図Bは第3
図C,Dに示すような長さ型欠陥のうち、矢印1
2に平行な単位矩形開口20の辺に生じたものに
対応するものであり第6図Cは第3図C,Dに示
すような長さ型欠陥のうち、矢印12に直角な辺
に生じたものに対応するものであり、コンパレー
タ51のスレツシヨルド設定値ST1は第6図A
に示すようなレベルに設定され、コンパレータ5
2のスレツシヨルド設定値ST2は第6図Bに示
すようなレベルに設定され、コンパレータ57の
スレツシヨルド設定値ST3は第6図Cに示すよ
うなレベルに設定されている。このような単位フ
オトデイテクタ41からの検出信号PS1〜PSn
は増幅器50で増幅され、この増幅された信号
PSがコンパレータ51,52及び57に入力さ
れる。しかして、コンパレータ51のスレツシヨ
ルド設定値ST1は第6図Aに示すような高さ型
欠陥の下限サイズST1に設定されており、検出
信号PSがこの下限サイズST1を越えると、コン
パレータ51から高さ型欠陥認識パルスPSC11
が出力され、この認識パルスPSC11が選択回路
55に入力される。また、コンパレータ52のス
レツシヨルド設定値ST2は第6図Bに示すよう
に、高さ型欠陥の下限サイズST1よりも低い辺
22の長さ型欠陥の下限サイズST2に設定され
ており、検出信号PSがこの下限サイズST2を越
えると、コンパレータ52からパルス信号PSC1
2が出力され、これがゲート回路53に入力され
る。パルス信号PSC12がゲート回路53に入力
されると、ゲート回路53はクロツクパルスCP
をカウンタ54に入力する。カウンタ54はクロ
ツクパルスCPを計数することによつて辺22の
長さ型欠陥に基づく信号波形の時間的長さを測定
し、長さ型欠陥認識パルスCNを選択回路55に
入力する。つまり、カウンタ54は辺22の長さ
型欠陥の下限長さに相当する数のクロツクパルス
CPを計数した時に、認識パルスCNを出力する。
このように、コンパレータ51から出力される高
さ型欠陥認識パルスPSC11及びカウンタ54か
ら出力される辺22の長さ型欠陥認識パルスCN
はそれぞれ選択回路55に入力されるが、この選
択回路55は辺22の長さ型欠陥のサイズが高さ
型欠陥の下限サイズST1を越えることによつて
認識パルスPSC11及びCNが同時に発生された
場合、長さ型欠陥認識パルスCNを無視する機能
を有している。
すなわち、長さ型欠陥と高さ型欠陥との双方が
検出された場合、高さ型欠陥の方のみを出力し、
長さ型欠陥の検出結果を無視することになる。こ
れは、両欠陥の検出信号をそのまま出力すると、
後の割込信号発生回路以降の処理において、もと
もと長さ型と高さ型の両方の性質をもつた1つの
欠陥しか存在しないのにもかかわらず、2つの欠
陥が認識されてしまうという不都合が生じるため
に、一方のみを選択して出力するようにしたもの
である。一般に単位矩形開口で構成される規則性
パターンの欠陥検査では、長さ型欠陥よりも高さ
型欠陥の方が重要な欠陥であるため、長さ型欠陥
の検出を無視して高さ型欠陥の検出のみを選択的
に出力するようにしている。このように選択回路
55で処理された認識パルスPSC,CNはそれぞ
れDSA1〜DSAn,DSA1′〜DSAn′となつて割
込信号及び割込アドレス発生回路56に入力され
る。以上までが高さ型欠陥及び辺22の長さ型欠
陥の検出に関する説明であるが、一方、規則性パ
ターンの矩形開口の辺23に生じた長さ型欠陥の
検出は次のように行なう。
検出された場合、高さ型欠陥の方のみを出力し、
長さ型欠陥の検出結果を無視することになる。こ
れは、両欠陥の検出信号をそのまま出力すると、
後の割込信号発生回路以降の処理において、もと
もと長さ型と高さ型の両方の性質をもつた1つの
欠陥しか存在しないのにもかかわらず、2つの欠
陥が認識されてしまうという不都合が生じるため
に、一方のみを選択して出力するようにしたもの
である。一般に単位矩形開口で構成される規則性
パターンの欠陥検査では、長さ型欠陥よりも高さ
型欠陥の方が重要な欠陥であるため、長さ型欠陥
の検出を無視して高さ型欠陥の検出のみを選択的
に出力するようにしている。このように選択回路
55で処理された認識パルスPSC,CNはそれぞ
れDSA1〜DSAn,DSA1′〜DSAn′となつて割
込信号及び割込アドレス発生回路56に入力され
る。以上までが高さ型欠陥及び辺22の長さ型欠
陥の検出に関する説明であるが、一方、規則性パ
ターンの矩形開口の辺23に生じた長さ型欠陥の
検出は次のように行なう。
第7図A,Bは単位矩形開口20の辺23に生
じた長さ型欠陥21C,21Dを示している。同
図における欠陥サイズc及びdは長さ型欠陥の下
限サイズを表わすものであるが、通常、サイズc
は高さ型欠陥の下限を示すサイズ(第4図a及び
b)の数倍以上の大きさに規定される。
じた長さ型欠陥21C,21Dを示している。同
図における欠陥サイズc及びdは長さ型欠陥の下
限サイズを表わすものであるが、通常、サイズc
は高さ型欠陥の下限を示すサイズ(第4図a及び
b)の数倍以上の大きさに規定される。
ところで、ここで単位フオトデイテクタ41の
長さfについて検討する。第4図において、高さ
型欠陥21Bを検出するためには、単位フオトデ
イテクタ41の図の横方向の長さfは、 f≧a (1) でなければならない。f<aであると、第6図A
のような出力が得られないためである。また、同
様の理由から、高さ型欠陥21Aを検出するため
には、 f≧b (2) でなければならない。このように、高さ型欠陥を
検出するためには、式(1),(2)のような条件を満た
すように単位フオトデイテクタ41の長さfを定
める必要があるが、第7図A,Bに示すような長
さ型欠陥21C,21Dを検出するためには、更
に次の式を満足するように単位フオトデイテクタ
41の長さfを定める必要がある。
長さfについて検討する。第4図において、高さ
型欠陥21Bを検出するためには、単位フオトデ
イテクタ41の図の横方向の長さfは、 f≧a (1) でなければならない。f<aであると、第6図A
のような出力が得られないためである。また、同
様の理由から、高さ型欠陥21Aを検出するため
には、 f≧b (2) でなければならない。このように、高さ型欠陥を
検出するためには、式(1),(2)のような条件を満た
すように単位フオトデイテクタ41の長さfを定
める必要があるが、第7図A,Bに示すような長
さ型欠陥21C,21Dを検出するためには、更
に次の式を満足するように単位フオトデイテクタ
41の長さfを定める必要がある。
mf=c (3)
ここで、cは前述のように長さ型欠陥の下限サ
イズを表し、mは2以上の整数であり、連続して
隣合つたm個の単位フオトデイテクタ41の出力
により長さ型欠陥の検出がなされることになる。
イズを表し、mは2以上の整数であり、連続して
隣合つたm個の単位フオトデイテクタ41の出力
により長さ型欠陥の検出がなされることになる。
この変数mの意味は、第5図Bの回路図を説明
すればより明らかになろう。前述のように、各単
位フオトデイテクタの出力は、第5図Aに示すよ
うにコンパレータ57に与えられ、所定レベル以
上であれば信号AN1〜ANnが出力される。この
N本の出力は、第5図Bに示すように、隣接する
3本ごとに1つのAND回路の入力となる。この
AND回路の入力信号線の数が変数mに相当する。
すなわち、第5図Bの回路は、m=3の場合に相
当する(隣接する5本ごとに1つのAND回路の
入力とする回路ではm=5となる)。このAND回
路611〜61(n―2)は、入力した3つの値がすべ
て論理“1”のときに欠陥検出を示す出力DSB
1〜DSB(n―2)を出力する。別言すれば、隣
接する3つの単位フオトデイテクタの出力が3つ
ともコンパレータ57の設定レベル以上であれ
ば、これに対応するAND回路から欠陥検出を示
す出力が出されることになる。
すればより明らかになろう。前述のように、各単
位フオトデイテクタの出力は、第5図Aに示すよ
うにコンパレータ57に与えられ、所定レベル以
上であれば信号AN1〜ANnが出力される。この
N本の出力は、第5図Bに示すように、隣接する
3本ごとに1つのAND回路の入力となる。この
AND回路の入力信号線の数が変数mに相当する。
すなわち、第5図Bの回路は、m=3の場合に相
当する(隣接する5本ごとに1つのAND回路の
入力とする回路ではm=5となる)。このAND回
路611〜61(n―2)は、入力した3つの値がすべ
て論理“1”のときに欠陥検出を示す出力DSB
1〜DSB(n―2)を出力する。別言すれば、隣
接する3つの単位フオトデイテクタの出力が3つ
ともコンパレータ57の設定レベル以上であれ
ば、これに対応するAND回路から欠陥検出を示
す出力が出されることになる。
以上のことを念頭において、第7図Aを参照す
る。この図で、フオトデイテクタアレイ40内の
中央部分に隣接して位置する3つの単位フオトデ
イテクタ41が、長さcをもつた長さ型欠陥21
Cを検出しうることがわかるであろう。式(3)にお
いて、m=3とすれば、3f=cなる条件が得られ
る。このように、3f=cなる条件を満足するよう
に単位フオトデイテクタの長さfを設定しておけ
ば、次のような検出が可能になる。
る。この図で、フオトデイテクタアレイ40内の
中央部分に隣接して位置する3つの単位フオトデ
イテクタ41が、長さcをもつた長さ型欠陥21
Cを検出しうることがわかるであろう。式(3)にお
いて、m=3とすれば、3f=cなる条件が得られ
る。このように、3f=cなる条件を満足するよう
に単位フオトデイテクタの長さfを設定しておけ
ば、次のような検出が可能になる。
長さがc未満の長さ型欠陥については、その
欠陥によつて、連続した1つまたは2つの単位
フオトデイテクタ41の出力がともに検出レベ
ル以上になるということは起こり得ても、連続
した3つの出力がともに検出レベル以上とはな
らない。したがつて、AND回路はいずれも出
力DSBを出さず、この欠陥は検出されない。
欠陥によつて、連続した1つまたは2つの単位
フオトデイテクタ41の出力がともに検出レベ
ル以上になるということは起こり得ても、連続
した3つの出力がともに検出レベル以上とはな
らない。したがつて、AND回路はいずれも出
力DSBを出さず、この欠陥は検出されない。
長さがc以上の長さ型欠陥については、その
欠陥によつて、連続した3つ以上の単位フオト
デイテクタ41の出力がともに検出レベル以上
となり、少なくとも1つのAND回路が出力
DSBを出し、この欠陥が検出される。
欠陥によつて、連続した3つ以上の単位フオト
デイテクタ41の出力がともに検出レベル以上
となり、少なくとも1つのAND回路が出力
DSBを出し、この欠陥が検出される。
すなわち、下限サイズをcとした長さ型欠陥の
検出が可能になる。一方、3f<cのようにフオト
デイテクタの長さfを設定すると、長さがc未満
の長さ型欠陥を検出してしまう場合が生じ、逆
に、3f>cのように設定すると、長さがc以上の
長さ欠陥の検出が行われない場合が生じ、いずれ
の場合も好ましくない。もつとも、式(3)の条件は
理想的な条件であり、実際には、 mf≒c (4) となるようにfを設定すればよい。理想的な条件
から多少ずれたとしても、コンパレータ57にお
いて設定される検出レベルを調整することによつ
て十分に対処することができる。一般に、市販の
フオトデイテクタは規格品であり、所望のサイズ
どおりのものを入手するのが困難であるから、実
際には式(4)を満足するようなフオトデイテクタを
用いればよい。
検出が可能になる。一方、3f<cのようにフオト
デイテクタの長さfを設定すると、長さがc未満
の長さ型欠陥を検出してしまう場合が生じ、逆
に、3f>cのように設定すると、長さがc以上の
長さ欠陥の検出が行われない場合が生じ、いずれ
の場合も好ましくない。もつとも、式(3)の条件は
理想的な条件であり、実際には、 mf≒c (4) となるようにfを設定すればよい。理想的な条件
から多少ずれたとしても、コンパレータ57にお
いて設定される検出レベルを調整することによつ
て十分に対処することができる。一般に、市販の
フオトデイテクタは規格品であり、所望のサイズ
どおりのものを入手するのが困難であるから、実
際には式(4)を満足するようなフオトデイテクタを
用いればよい。
以上述べたように、この発明の規則性パターン
の欠陥検査装置によれば、2次元矩形開口より成
る規則性パターンを有する工業製品の欠陥検査に
おいて、単位矩形開口の縦辺、横辺にかかわら
ず、またそこに生じた欠陥の高さ型、長さ型にか
かわらず、迅速確実に欠陥を検出できることはも
ちろん、その種類も識別することができる。
の欠陥検査装置によれば、2次元矩形開口より成
る規則性パターンを有する工業製品の欠陥検査に
おいて、単位矩形開口の縦辺、横辺にかかわら
ず、またそこに生じた欠陥の高さ型、長さ型にか
かわらず、迅速確実に欠陥を検出できることはも
ちろん、その種類も識別することができる。
第1図は空間フイルタリング方式を用いた欠陥
検査装置の基本構成図、第2図はこの発明が対象
とする規則性パターンの例を示す図、第3図A,
Bは高さ型欠陥の例を示す図、第3図C,Dは長
さ型欠陥の例を示す図、第4図はこの発明のフオ
トデイテクタアレイの配設例を示す図、第5図は
この発明の処理回路の一例を示すブロツク図、第
6図Aは高さ型欠陥の検出信号の例を示すグラ
フ、第6図B,Cは長さ型欠陥の検出信号の例を
示すグラフ、第7図A,Bは規則性パターンのフ
オトデイテクタアレイに平行な辺の長さ型欠陥の
例を示す図である。 1……レーザ発振器、3……コリメータ、5…
…被検査物、7……フーリエ変換レンズ、8……
空間フイルタ、10……逆フーリエ変換レンズ、
20……規則性パターン、40……フオトデイテ
クタアレイ、51,52,57……コンパレー
タ、53……ゲート回路、54……カウンタ。
検査装置の基本構成図、第2図はこの発明が対象
とする規則性パターンの例を示す図、第3図A,
Bは高さ型欠陥の例を示す図、第3図C,Dは長
さ型欠陥の例を示す図、第4図はこの発明のフオ
トデイテクタアレイの配設例を示す図、第5図は
この発明の処理回路の一例を示すブロツク図、第
6図Aは高さ型欠陥の検出信号の例を示すグラ
フ、第6図B,Cは長さ型欠陥の検出信号の例を
示すグラフ、第7図A,Bは規則性パターンのフ
オトデイテクタアレイに平行な辺の長さ型欠陥の
例を示す図である。 1……レーザ発振器、3……コリメータ、5…
…被検査物、7……フーリエ変換レンズ、8……
空間フイルタ、10……逆フーリエ変換レンズ、
20……規則性パターン、40……フオトデイテ
クタアレイ、51,52,57……コンパレー
タ、53……ゲート回路、54……カウンタ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 単位矩形開口の規則的配列でなる規則性パタ
ーン中の欠陥を、レーザ光回折パターン空間周波
数フイルタリング方式を用いて検査する装置にお
いて、 a 前記規則性パターンを光軸に直角に、前記単
位矩形開口の一辺に平行に等速平行移動させる
装置と、 b 逆フーリエ変換面上に、前記平行移動方向に
直角で光軸に直角に配置された高さ型欠陥の下
限サイズ以上の矩形開口を有する複数の単位フ
オトデイテクタで成るフオトデイテクタアレイ
と、 c 前記単位フオトデイテクタからの検出信号を
入力し、高さ型欠陥の下限サイズに相当するス
レツシヨルドを有する前記単位フオトデイテク
タに対応する数の第1のコンパレータと、 d 前記単位フオトデイテクタからの検出信号を
入力し、高さ型欠陥の下限サイズに相当するス
レツシヨルドよりも低い前記平行移動方向に平
行な前記単位矩形開口の辺に生じた長さ型欠陥
の下限サイズに相当するスレツシヨルドを有す
る前記単位フオトデイテクタに対応する数の第
2のコンパレータと、 e この第2のコンパレータの信号出力時に所定
周波数のクロツクパルスを計数するカウンタ
と、 f 前記第1のコンパレータ及び前記カウンタの
各出力を入力して、この2つの出力が重複した
場合に前者出力を選択し、欠陥検出パルスを出
力する選択回路と、 g 前記単位フオトデイテクターからの検出信号
を入力し、高さ型欠陥の下限サイズに相当する
スレツシヨルドよりも低い前記平行移動方向に
直角な前記単位矩形開口の辺に生じた長さ型欠
陥の下限サイズに相当するスレツシヨルドを有
する前記単位フオトデイテクタに対応する数の
第3のコンパレータと、 h アンド回路の配列より成り、前記第3のコン
パレータ群の隣接する少なくとも3つの出力が
重複した場合に欠陥検出パルスを出力する信号
処理回路と、 を備えることにより、単位矩形開口の規則的配列
で成る規則性パターン中の欠陥の有無及び種類を
検出することを特徴とする規則性パターンの欠陥
検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3684380A JPS56133830A (en) | 1980-03-25 | 1980-03-25 | Inspection device for defect of regular pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3684380A JPS56133830A (en) | 1980-03-25 | 1980-03-25 | Inspection device for defect of regular pattern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56133830A JPS56133830A (en) | 1981-10-20 |
| JPS6326321B2 true JPS6326321B2 (ja) | 1988-05-30 |
Family
ID=12481034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3684380A Granted JPS56133830A (en) | 1980-03-25 | 1980-03-25 | Inspection device for defect of regular pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56133830A (ja) |
-
1980
- 1980-03-25 JP JP3684380A patent/JPS56133830A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56133830A (en) | 1981-10-20 |
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