JPS6326351A - 真空蒸着用の蒸発源装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、真空蒸着用の蒸発源装置に関し、とくに金
属ストリップなどの長尺物に連続的に真空蒸着処理（イ
オンブレーティングを含む。以下同じ）を施す場合に用
いて好適なものである。

（従来の技術） 最近、真空蒸着や、スパッタリング、イオンブレーティ
ングさらには化学的気相蒸着（ＣＶＤ）などのドライブ
レーティング技術が各分野で使用されている。

たとえば鉄鋼分野においては、金属スＩ・リップの表面
特性たとえば耐食性や耐摩耗性の改良を目的として、異
種物質の真空藤着法の研究が盛んに行なわれている。

かような真空蒸着時における要件としては数多く考えら
れるが、被蒸着物の点からみれば蒸着された被膜の厚み
均一性の確保が、他方設備−トの観点からは無効蒸気の
減少がとりわけ重要である。

すなわち前者の被膜厚の均一性確保によって特性の向上
が、一方後者の無効蒸気の減少によって経済性および連
続操業における生産能率の向上が達成されるのである。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら上記の如き真空蒸着技術においては、以下
に述べるような問題を残していた。

（１）　　被蒸着面が比較的小さい場合には、さほど問
題にされることはないけれども、被蒸着面が大きくなる
と蒸着膜の膜厚均一性を維持することが難しい。

（２）　　バッチ法の蒸着の場合には、無効蒸気はハ・
７チ処理の間に除去可能であるが、連続的蒸着の場合に
は真空槽内に堆積する無効蒸気は容易に除去できないた
め、操業面での悪影響が著しい。

（３）板幅が変動した場合には、適切に対処できない。

この発明は、上記の問題を有利に解決するもので、金属
ストリップなどの長尺物を連続的に蒸着処理する場合で
あっても、均一な被膜が得られ、また無効蒸気の発生も
少なく、さらには板幅の変動にも適切に対処できる真空
蒸着用の蒸発源装置を提案することを目的とする。

（問題点を解決するための手段） すなわちこの発明は、高真空に保持された処理槽内に導
いた被処理材に対して真空蒸着を施す真空処理槽におい
て、その内部に配置され、蒸着用の蒸発物質を収容する
蒸発源装置であって、被処理材の幅方向に分割された複
数個の蒸発源からなり、各蒸発源がそれぞれ被処理材の
幅方向に移動可能でかつ回転可能に設置されて成る、真
空蒸着用の蒸発源装置である。

（実施例） 以下、図面に従いこの発明の好適実施例を従来例と対比
しつつ具体的に説明する。

第１図および第２図に、この発明の好適実施例を平面お
よび正面で、また第３図には従来の蒸発源を平面でそれ
ぞれ示す。

第３図において、図中番号１は蒸発物質を収容する蒸発
源、２は被処理材である金属ストリップ、３は蒸発開口
部である。

さて従来、蒸発源１の大きさは、処理すべき金属ストリ
ップ２の最大板幅を基準として設計されていたため、比
較的大きいものが設置されていた。

従って第３図に示したように、ストリップ２の幅が蒸発
源１の長さよりも小さいものを処理する場合には、蒸発
物質の一部が無効蒸気となって処理槽（図示省略）内に
堆積する。かかる傾向はストリップの幅が狭くなるほど
より顕著になる。

とはいえ無効蒸気減少のために蒸発開口部３を小さくす
ると、ストリップの幅方向における中央部と端部とで被
ｌＩａ厚に不均一が生じる。

そこでこの発明では、かかる蒸発源をストリップの幅方
向に分割し、ストリップの幅変動に対しても適切に対処
できるようにしたのである。

すなわち第１および２図において、Ｉａ、　ｌｂ、　Ｉ
ｃがそれぞれ、ストリップの幅方向に分割されかつ該方
向に長い矩形状の蒸発開口部をもつ蒸発源である。

これらの蒸発ｉ１ａ〜ＩＣはいずれも、台車４８〜４Ｃ
によってストリップの幅方向に移動可能に、また電動機
５ａ〜５Ｃによって回転可能に設置されている。

（作　用） さて第１図に示した状態は、比較的広幅のストリップを
処理する場合であるが、この場合には、図示したように
各蒸発源１８〜ＩＣをそれぞれ適当な間隔を隔てて一直
線に配置すればよい。

これに対して第４図は、比較的狭幅のストリップを処理
する場合であるが、かような場合には、両端部の蒸発源
１ａ、　Ｉｃを回転させることによって無効蒸気の発生
を防止するのである。

なおこのように回転させることによって被膜厚の均一性
が損なわれるおそれがある場合には、各蒸発源１ａ〜１
ｃの間隔を適宜に調整すれば、上記のおそれは解消され
る。勿論すべての蒸発源１８〜ＩＣを回転させてもよい
のはいうまでもない。

（発明の効果） かくしてこの発明によれば、長尺の被処理材に真空蒸着
を施す場合であっても、該被処理材の幅変動にかかわら
ず、均質な被膜を、無効蒸気の効果的な低減の下に得る
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、この発明の好適例の平面図およ
び正面図、 第３図は、従来の蒸発源装置の平面図、第４図は、この
発明に従う蒸発源装置の一使用形態を示す平面図である
。 １８〜１ｃ・・・蒸発源　　　　２・・・金属ストリッ
プ３・・・蒸発開口部　　　　４８〜４Ｃ・・・台車５
ａ〜５ｃ・・・電動機 第１図 第２図 ｆａ”−□１ｃ　　・・ＬｊｌＥ＆、　　　　　２＝−
４Ｍズ）ｌ八、７゛４α〜４Ｃ・°・台車　　５ａ〜５
ｃ・・電＃禮・第３図 ３、・蒸餐開口卯 第４図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、高真空に保持された処理槽内に導いた被処理材に対
   して真空蒸着を施す真空処理槽において、その内部に配
   置され、蒸着用の蒸発物質を収容する蒸発源装置であっ
   て、 被処理材の幅方向に分割された複数個の蒸発源からなり
   、各蒸発源がそれぞれ被処理材の幅方向に移動可能でか
   つ回転可能に設置されて成る、真空蒸着用の蒸発源装置
   。