JPS6326559A - Foreign matter inspection device - Google Patents

Foreign matter inspection device

Info

Publication number
JPS6326559A
JPS6326559A JP61169701A JP16970186A JPS6326559A JP S6326559 A JPS6326559 A JP S6326559A JP 61169701 A JP61169701 A JP 61169701A JP 16970186 A JP16970186 A JP 16970186A JP S6326559 A JPS6326559 A JP S6326559A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
laser
output light
light
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61169701A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0621878B2 (en
Inventor
Mitsuyoshi Koizumi
小泉 光義
Yoshimasa Oshima
良正 大島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61169701A priority Critical patent/JPH0621878B2/en
Priority to US07/074,858 priority patent/US4814596A/en
Priority to KR1019870007840A priority patent/KR900005346B1/en
Publication of JPS6326559A publication Critical patent/JPS6326559A/en
Publication of JPH0621878B2 publication Critical patent/JPH0621878B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

PURPOSE:To miniaturize a device and to stabilize the output light of a semiconductor laser by using the semiconductor laser which incorporates a sensor for output light monitor and performing feedback control with the output of the sensor. CONSTITUTION:The semiconductor laser 16 incorporates a photodiode 18 as the sensor for output light monitor. A driving circuit 22 supplies a current proportional to an input voltage to the laser 16, which emits light and the diode 18 receives a part of the output light of the laser 16 and outputs a current proportional to the quantity of the photodetected light to bring the laser 16 under feedback control. A sample holding circuit 24 holds the quantity of this feedback. Laser irradiation is performed opposite from right and left so as to detect anisotropic foreign matter stably. Further, a shutter which interrupts laser beam other than the output light of the laser 16 is provided. Then, the feedback control over the output light is performed in a state wherein no other laser beam is incident only right before foreign matter inspection, and the feedback quantity is held during the inspection to drive the laser 16 without using the output of the diode 18, thereby performing the stable foreign matter detection.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体LSIウェハ、ホトマスク、磁気バブル
ウェハ等の異物検査装置において、半導体レーザによる
照明の光量を設定量にかつ安定に保持する方法に関する
。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for stably maintaining the amount of illumination from a semiconductor laser at a set amount in a foreign matter inspection apparatus for semiconductor LSI wafers, photomasks, magnetic bubble wafers, etc.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

LSI製造の中間工程でのパターン付ウェハ上の異物検
査作業は、製品歩留り向上、信頼性向上の為番こ不可欠
である。この作業の自動化は特開昭55−149829
号公報の他に特開昭54−101390号公報、特開昭
55−94145  号公報、特開昭56−30630
  号公報等に示されている様に、偏光を利用した検出
方法により実現されている。この原理を第10図〜第1
2図を用いて説明する。
Inspection of foreign substances on patterned wafers during the intermediate process of LSI manufacturing is essential for improving product yield and reliability. The automation of this work is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-149829.
In addition to the above publications, JP-A-54-101390, JP-A-55-94145, and JP-A-56-30630 are also available.
As shown in the above publication, this is realized by a detection method using polarized light. This principle is illustrated in Figures 10 to 1.
This will be explained using Figure 2.

第10図に示す如く、照明光4をウェハ1の表面に対し
て傾斜角度φで照射したのみでは、パターン2と異物3
から同時に散乱光5と散乱光6が発生するので、パター
ン2から異物3のみを弁別して検出することはできない
。そこで照明光4として、偏光レーザ光を使用し、異物
3のみを検出する工夫を行っている。
As shown in FIG. 10, if only the illumination light 4 is irradiated onto the surface of the wafer 1 at an inclination angle φ, the pattern 2 and the foreign matter 3
Since scattered light 5 and scattered light 6 are generated at the same time, it is not possible to distinguish and detect only foreign matter 3 from pattern 2. Therefore, a device has been devised to detect only the foreign matter 3 by using polarized laser light as the illumination light 4.

第11図(α)に示す如く、ウェハ1上に存在するパタ
ーン2に5偏光レーザ光4を照射する。(ここでレーザ
光4の電気ベクトル10がウェハ表面に平行な場合を5
偏光レーザ照明と呼ぶ。)一般に、パターン2の表面凹
凸は微視的に見ると照明光の波長に比べ十分小さく、光
学的に滑らかであるので、その反射光5もS偏光成分1
1が保たれる。従って、S偏光遮光の検光子13を反射
光5の光路中に挿入すれば、反射光5は遮光され、光電
変換素子7には到達しない。一方、第11図(h)に示
す如く、異物3からの散乱光6にはS偏光成分に加えて
、P偏光成分12も含まれる。これは、異物3表面は粗
く、偏光が解消される結果、P偏光成分12が発生する
からである。従って、検光子13を通過するP偏光成分
14を光電変換素子7により検出すれば異物3の検出が
可能となる。
As shown in FIG. 11(α), a pattern 2 existing on a wafer 1 is irradiated with five-polarized laser light 4. (Here, the case where the electric vector 10 of the laser beam 4 is parallel to the wafer surface is 5
It is called polarized laser illumination. ) In general, the surface irregularities of the pattern 2 are microscopically small enough compared to the wavelength of the illumination light and optically smooth, so the reflected light 5 also has an S-polarized component 1.
1 is maintained. Therefore, if the analyzer 13 that blocks S-polarized light is inserted into the optical path of the reflected light 5, the reflected light 5 is blocked and does not reach the photoelectric conversion element 7. On the other hand, as shown in FIG. 11(h), the scattered light 6 from the foreign object 3 includes a P-polarized light component 12 in addition to the S-polarized light component. This is because the surface of the foreign object 3 is rough, and as a result of depolarization, the P-polarized light component 12 is generated. Therefore, if the P-polarized light component 14 passing through the analyzer 13 is detected by the photoelectric conversion element 7, the foreign object 3 can be detected.

ここで、第12図に示す如く、レーザ光源15を左右か
ら2個用いていることにより、異方性を有する散乱光を
発生する異物に対して安定な検出を可能とすることがで
きる。
Here, as shown in FIG. 12, by using two laser light sources 15 from the left and right sides, it is possible to stably detect foreign objects that generate anisotropic scattered light.

レーザ光源15としては、出力光の強さ、寿命、偏光特
性等の点から、従来はH、−N 、レーザを用いていた
。しかしHa Heレーザは発振器本体が大きいため、
検査装置を小型化するのには不便であった。
As the laser light source 15, H, -N, and lasers have conventionally been used from the viewpoint of output light intensity, lifespan, polarization characteristics, and the like. However, since the oscillator body of Ha He laser is large,
This was inconvenient for downsizing the inspection device.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記従来技術はレーザ光源にH、−N 、レーザを用い
ているため装置小型化ができないという問題がありた。
Since the above-mentioned conventional technology uses H, -N, and lasers as laser light sources, there is a problem in that the device cannot be miniaturized.

本発明の目的はレーザ光源に半導体レーザを用いること
により装置の小型化を可能1こし、かつ半導体レーザの
出力光を安定化させることにある。
An object of the present invention is to use a semiconductor laser as a laser light source to make it possible to downsize the device and to stabilize the output light of the semiconductor laser.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記目的は、レーザ光源として半導体レーザを用いるこ
とにより達成される。また出力光のフィードバック制御
を、異物検査する直前にのみに、対向する半導体レーザ
出力光が入り込まない状態で行い、検査中はフィードバ
ック量をホールドして、モニタ用ホトダイオードの出力
を用いないで半導体レーザを駆動することにより、安定
な異物検出が可能となる。
The above object is achieved by using a semiconductor laser as a laser light source. In addition, the feedback control of the output light is performed only immediately before inspecting for foreign objects without the opposing semiconductor laser output light entering, and during the inspection, the amount of feedback is held and the output of the semiconductor laser is controlled without using the output of the monitoring photodiode. By driving the , stable foreign object detection becomes possible.

〔作用〕[Effect]

試料の全面を検査する時間は、長くても数分である。こ
の間の周囲温度変化は僅少であり、フィードバック量を
ホールドしておけば、検査中は半導体レーザの出力光が
安定しているので、試料の表面状態によって生じる半導
体レーザ出力光の変動がなくなり、異物検出性能の変動
がなくなる。
The time required to inspect the entire surface of the sample is several minutes at most. The ambient temperature change during this period is small, and if the feedback amount is held, the output light of the semiconductor laser will be stable during the inspection, so fluctuations in the output light of the semiconductor laser caused by the surface condition of the sample will be eliminated, and foreign particles will be detected. Fluctuations in detection performance are eliminated.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を図番こ基づいて説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawing numbers.

最近、半導体レーザが高出力化、長寿命化され、異物検
査装置のレーザ光源として十分使用できるようになって
きた。異物検査装置を小型化する場合に、レーザ光源と
して半導体レーザを使用することは有効である。
Recently, semiconductor lasers have been improved in output power and have a longer lifespan, and have become fully usable as laser light sources for foreign object inspection equipment. When downsizing a foreign matter inspection device, it is effective to use a semiconductor laser as a laser light source.

半導体レーザの光出力は、周囲温度の変動により容易に
変化する。異物検査装置のレーザ光源として使用するた
めには、光出力が常時安定している必要がある。温度が
変化しても光出力を一定にするには、第5図のように半
導体レーザ16の光出力をハーフミラ−17で分岐して
ホトダイオード18で検出し、駆動電流にフィードバッ
クする機能を駆動回路にもたせるのが一般的である。駆
動回路の一例を第6図に示す。この回路ではホトダイオ
ード18の出力電流(すなわち半導体レーザ16の光出
力)が常に一定になるように、半導体レーザ16の駆動
電流を制御している。光出力は、半個定抵抗19によっ
て設定を変えることができる。
The optical output of a semiconductor laser easily changes due to changes in ambient temperature. In order to use it as a laser light source for a foreign object inspection device, the optical output must be stable at all times. In order to keep the optical output constant even when the temperature changes, the optical output of the semiconductor laser 16 is branched by a half mirror 17, detected by a photodiode 18, and fed back to the driving current in the drive circuit as shown in Fig. 5. It is common to place it on the An example of the drive circuit is shown in FIG. This circuit controls the driving current of the semiconductor laser 16 so that the output current of the photodiode 18 (that is, the optical output of the semiconductor laser 16) is always constant. The setting of the optical output can be changed using a semi-constant resistor 19.

最近の半導体レーザは、光出力をモニタするためのホト
ダイオードを内蔵しているものがほとんどである。この
場合には第5図において外付のハーフミラ−17、ホト
ダイオード18は不要であり、内蔵モニタ用ホトダイオ
ードを用いて第6図の機能を持たせることができる。ま
たフィードバックを用いた半導体レーザ駆動用の専用I
Cも市販されている。
Most recent semiconductor lasers have a built-in photodiode for monitoring optical output. In this case, the external half mirror 17 and photodiode 18 shown in FIG. 5 are not necessary, and the function shown in FIG. 6 can be provided using a built-in monitor photodiode. Also, a dedicated I for semiconductor laser drive using feedback.
C is also commercially available.

H、−N、レーザの出力光は平行光であるが、半導体レ
ーザ出力光は、ある広がりを持っている。従って、異物
検査の照明用として用いる場合には、第7図に示すよう
に、対物レンズ等加を用いて集光させる必要がある。
The output light of an H, -N, laser is parallel light, but the output light of a semiconductor laser has a certain spread. Therefore, when used for illumination for foreign object inspection, it is necessary to use an objective lens or the like to condense the light, as shown in FIG.

前述のように異方性異物を安定に検出するために、レー
ザ照明は左右から対向させて行う。この場合、レーザ光
21 ’ * 21 kの傾斜角度φは左右で等しいた
め、対向するレーザ光(例えば21h)が試料1の表面
で反射し、半導体レーザ(例えば16a)の内部に入り
込んで来る。この内部に入り込んで来るレーザ光量は、
試料lの表面状態(表面粗さ、パターンの粗密等)によ
り異なる。半導体レーザ16が、光量モニタ用のホトダ
イオード18を内蔵している場合には、自分自身の出力
光をモニタすると同時に、入り込んで来る相手側の出力
光もモニタしてしまうため、設定した出力光にフィード
バック制御ができなくなる。つまり、試料1毎に半導体
レーザ16の出力が異なったり、またパターン付試料の
場合には、試料1上の場所によって表面状態やパターン
密度が異なるため、半導体レーザ16の出力が同−試料
内でも変動するということが判明した。
As mentioned above, in order to stably detect anisotropic foreign matter, laser illumination is performed facing each other from the left and right sides. In this case, since the inclination angles φ of the laser beams 21'*21k are equal on the left and right sides, the opposing laser beams (for example, 21h) are reflected on the surface of the sample 1 and enter the inside of the semiconductor laser (for example, 16a). The amount of laser light that enters this interior is
It varies depending on the surface condition of the sample I (surface roughness, pattern density, etc.). If the semiconductor laser 16 has a built-in photodiode 18 for monitoring the amount of light, it monitors its own output light and at the same time monitors the output light of the other side that enters, so the set output light does not change. Feedback control becomes impossible. In other words, the output of the semiconductor laser 16 differs for each sample 1, and in the case of a patterned sample, the surface condition and pattern density differ depending on the location on the sample 1, so the output of the semiconductor laser 16 differs even within the same sample. It turns out that it changes.

また特公昭57−53923 号公報のように、レーザ
光を試料上に所定の角度で照射し、反射光の位置で焦点
位置を検出する方法が知られている。この場合にも、第
8図に示すように、レーザ光源に半導体レーザを用いる
ことができる。半導体レーザ16の出力光はレンズ加で
集光して試料1上に照射する。試料lで反射したレーザ
光は集光レンズおで集光して、センサあで検出される。
Furthermore, as disclosed in Japanese Patent Publication No. 57-53923, a method is known in which a laser beam is irradiated onto a sample at a predetermined angle and the focal position is detected based on the position of the reflected light. Also in this case, as shown in FIG. 8, a semiconductor laser can be used as the laser light source. The output light of the semiconductor laser 16 is focused by a lens and irradiated onto the sample 1. The laser beam reflected by the sample 1 is focused by the condensing lens and detected by the sensor.

試料の高さ方向位置が変ると、反射光位置が変るので、
ポジションセンサ等で反射光位置を検出すれば、試料位
置を知ることがマきる。このとき、センサ具の表面での
反射光が同じ光路を通って半導体レーザ16に戻り、モ
ニタ用ホトダイオードで検出することになる。試料1の
表面状態によって戻り光の、光量が変動するため、この
場合にも半導体レーザ16の出力光が変動することが判
明した。
When the height direction position of the sample changes, the reflected light position changes, so
The sample position can be determined by detecting the position of the reflected light using a position sensor or the like. At this time, the reflected light from the surface of the sensor tool returns to the semiconductor laser 16 through the same optical path and is detected by the monitoring photodiode. It has been found that since the amount of the returned light varies depending on the surface condition of the sample 1, the output light of the semiconductor laser 16 also varies in this case.

次に本発明の具体的実施例を説明する。゛第1図はフィ
ードバック量をホールドするための回路である。駆動回
路22は、入力電圧に比例した電流を半導体レーザ16
に流して発光させる。モニタ用ホトダイオード18は、
半導体レーザ16の出力光の一部を受光し、受光量に比
例した電流を出力する。電流−電圧変換回路幻はホトダ
イオード18の出力電流を電圧に変換し、サンプル・ホ
ールド回路冴に供給する。サンプル・ホールドロ路冴は
、サンプル信号5がONのときは入力信号をそのまま出
力し、OFFのときは出力信号部をホールドする。差動
増幅器nは、サンプル・ホールド回路あの出力部と設定
値26の差に比例した電圧を出力する。29はスイッチ
であり、半導体レーザ出力光を0N/OFFするための
ものである。
Next, specific examples of the present invention will be described.゛Figure 1 shows a circuit for holding the amount of feedback. The drive circuit 22 supplies a current proportional to the input voltage to the semiconductor laser 16.
to make it emit light. The monitor photodiode 18 is
It receives part of the output light from the semiconductor laser 16 and outputs a current proportional to the amount of light received. The current-to-voltage conversion circuit converts the output current of the photodiode 18 into a voltage and supplies it to the sample and hold circuit. When the sample signal 5 is ON, the sample/hold controller outputs the input signal as it is, and when it is OFF, it holds the output signal section. The differential amplifier n outputs a voltage proportional to the difference between the output of the sample and hold circuit and the set value 26. 29 is a switch for turning on/off the semiconductor laser output light.

上記構成を各々の半導体レーザに対して用いることによ
り、サンプル信号5がONのときには、フィードバック
制御ループが形成され、サンプル・ホールド回路あの出
力信号部が、設定値26と等しくなるように半導体レー
ザ16が駆動される。つまり周囲温度変化があっても半
導体レーザ16の出力光は一定に制御できる。サンプル
信号6がOFFのときには、OFFになる直前のフィー
ドバック量がホールドされ、半導体レーザ16が駆動さ
れる。
By using the above configuration for each semiconductor laser, when the sample signal 5 is ON, a feedback control loop is formed, and the output signal section of the sample and hold circuit is controlled to be equal to the set value 26 of the semiconductor laser 16. is driven. In other words, even if the ambient temperature changes, the output light of the semiconductor laser 16 can be controlled to be constant. When the sample signal 6 is OFF, the feedback amount immediately before turning OFF is held, and the semiconductor laser 16 is driven.

一定時間内に一回以上、サンプル信号’15をONして
やれば、半導体レーザ16の出力光を一定に保つことが
できる。
By turning on the sample signal '15 at least once within a certain period of time, the output light of the semiconductor laser 16 can be kept constant.

第2図は異物検査のフローであり、通常はウェハのロー
ディング、異物検査、ウェハのアンローディングのルー
プを繰り返す。つまり異物検査の直前には必ずウェハが
検査装置がセットされていない状態が存在し、このとき
には対向する半導体レーザの出力光がモニタ用ホトダイ
オードに入射しないので、自分自身の出力光を正確にモ
ニタできる。従って、この期間に、ウェハがローディン
グされる直前にサンプル信号をONにし、ウェハがセッ
トされている間はサンプル信号を常時OFFにしておけ
ば、半導体レーザ出力光を設定値に安定させておくこと
が可能となる。前述したように異物を検査するのに要す
る時間は長くて数分であり、この間の周囲温度変化は無
視できるので、−定の半導体レーザ出力光で異物検査が
可能となる。
FIG. 2 shows the flow of foreign matter inspection, and normally a loop of wafer loading, foreign matter inspection, and wafer unloading is repeated. In other words, there is always a state in which the wafer is not set up in the inspection equipment just before foreign matter inspection, and at this time the output light from the opposing semiconductor laser does not enter the monitoring photodiode, making it possible to accurately monitor its own output light. . Therefore, during this period, the semiconductor laser output light can be stabilized at the set value by turning on the sample signal just before the wafer is loaded and keeping the sample signal off while the wafer is being set. becomes possible. As mentioned above, the time required to inspect for foreign matter is several minutes at most, and changes in ambient temperature during this time can be ignored, so that foreign matter inspection can be performed using a - constant semiconductor laser output light.

直前の異物検査の後番こウェハがアンローディングされ
ないまま、次の異物検査を行う場合もある。
There are cases where the next foreign particle inspection is performed without unloading the wafer after the previous foreign particle inspection.

第3図のように、同一ウェハを多数回検査する場合がそ
の一例である。この場合には、第1図に示したスイッチ
29を用いる。まず右側の半導体レーザ16 bをOF
Fし、左側の半導体レーザ16 aをONして、左側の
サンプル信号をONにする。次に左側の半導体レーザ1
6αをOFFにし、右側の半導体レーザ16 hをON
にして、左側のサンプル信号をONにする。次に両側の
半導体レーザをONにすれば、各半導体レーザのフィー
ドバック量がホールドされているので、ウェハがセット
されたままでも、出力光を設定値に安定させることがで
きる。
An example of this is when the same wafer is inspected multiple times as shown in FIG. In this case, the switch 29 shown in FIG. 1 is used. First, turn off the right semiconductor laser 16b.
F, turn on the semiconductor laser 16a on the left side, and turn on the sample signal on the left side. Next, the semiconductor laser 1 on the left
Turn off 6α and turn on semiconductor laser 16h on the right side.
and turn on the left sample signal. Next, when the semiconductor lasers on both sides are turned on, the feedback amount of each semiconductor laser is held, so the output light can be stabilized at the set value even if the wafer remains set.

また第9図に示すように、出力光を遮断するシャッタあ
を挿入すれば、対向する半導体レーザの出力光や、セン
サで反射した戻り光が入り込まないので、シャッタあを
挿入した状態でサンプル信号をONにし、検査中はシャ
ッタあを光路から除去すれば上記と同様の機能とするこ
とができる。
In addition, as shown in Figure 9, if you insert a shutter that blocks the output light, the output light of the opposing semiconductor laser and the return light reflected by the sensor will not enter, so you can use the sample signal with the shutter inserted. The same function as above can be achieved by turning on the shutter and removing the shutter from the optical path during inspection.

サンプル・ホールド回路冴は、アナログ回路で構成した
場合には、ホールド時間が長いとホールド値の減衰が問
題となる。異物検査の場合にはホールド時間が数分とな
るので、第4図の如きディジタル式サンプル・ホールド
回路を用いた方が良い。nは電流・電圧変換回路であり
、モニタ用ホトダイオード18の出力に比例した電圧を
出力する。、30はアナログ・ディジタル変換器であり
、サンプル信号がONになったときの電流・電圧変換回
路nの出力をディジタルに変換する。変換値はメモ11
31 Gこ記憶し、メモリ31の内容はディジタル・ア
ナログ変換器32で常時アナログ量に変換すること(こ
よって、減衰のないサンプル・ホールド回路を構成でき
る。
When the sample-and-hold circuit is constructed from an analog circuit, a problem arises in which the hold value attenuates if the hold time is long. In the case of foreign matter inspection, since the hold time is several minutes, it is better to use a digital sample-and-hold circuit as shown in FIG. A current/voltage conversion circuit n outputs a voltage proportional to the output of the monitoring photodiode 18. , 30 is an analog-to-digital converter, which converts the output of the current/voltage conversion circuit n into a digital signal when the sample signal is turned on. Conversion value is memo 11
31 G, and the contents of the memory 31 are constantly converted into analog quantities by the digital-to-analog converter 32 (thus, a sample-and-hold circuit without attenuation can be constructed).

上述のように、異物検査を開始する直前の対向する半導
体レーザの出力光が入射して来ない状態のときに、モニ
タ用ホトダイオードの出力を用いてフィードバック制御
を行って、半導体レーザを設定値どうりの出力光になる
ように制御し、検査中はフィードバック量をホールドす
ることにより、対向する半導体レーザに影響されず、安
定な出力光とすることができる。上記説明はウェハの異
物検査について行ったが、ホトマスクや磁気バブルウェ
ハについても同様である。
As mentioned above, when the output light of the opposing semiconductor laser is not incident immediately before starting a foreign object inspection, feedback control is performed using the output of the monitor photodiode to adjust the semiconductor laser to the set value. By controlling the output light so that it becomes the same as the output light and holding the feedback amount during the inspection, it is possible to obtain stable output light without being affected by the opposing semiconductor laser. Although the above description has been made regarding foreign matter inspection of wafers, the same applies to photomasks and magnetic bubble wafers.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明によれば、検査中は半導体レ
ーザ出力光を安定にすることができるので、試料が異な
っても、一定な異物検出性能を維持できる効果がある。
As explained above, according to the present invention, the semiconductor laser output light can be stabilized during the inspection, so that even if the sample is different, a constant foreign object detection performance can be maintained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明一実施例のフィードバック量のホールド
回路を示す図、第2図、及び第3図は各々ウェハ異物検
査のフローを示す図、第4図は本発明に係るサンプルホ
ールド回路を示す図、第5図は半導体レーザ出力光のモ
ニタ方法を示す図、第6図は半導体レーザ駆動回路を示
す図、第7図は異物検査における半導体レーザ使用法を
示す図、第8図は試料の高さを検出する一実施例を示し
た図、第9図はシャッタによって出力光をさえぎる一実
施例を示した図、第10図、乃至第12図は各々従来技
術を説明するための図である。 1・・・ウェハ      16・・・半導体レーザ1
8・・・ホトダイオード  n・・・電流・電圧変換回
路冴・・・サンプル・ホールド回路 22・・・半導体レーザ駆動回路 35・・・シャッタ 代理人 弁理士  小 川 勝 男、 −に 石  1  図 冨 2 図 ぁ 3 回 t4−  回 鬼I5配 2 ら 回 峯 81¥1 麓9図 J  IO回
FIG. 1 is a diagram showing a feedback amount hold circuit according to an embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 3 are diagrams each showing a flow of wafer foreign object inspection, and FIG. 4 is a diagram showing a sample hold circuit according to the present invention. 5 is a diagram showing a method for monitoring the output light of a semiconductor laser, FIG. 6 is a diagram showing a semiconductor laser drive circuit, FIG. FIG. 9 is a diagram showing an example of detecting the height of the output light, FIG. 9 is a diagram showing an example of blocking the output light with a shutter, and FIGS. 10 to 12 are diagrams for explaining the prior art. It is. 1... Wafer 16... Semiconductor laser 1
8...Photodiode n...Current/voltage conversion circuit Sae...Sample/hold circuit 22...Semiconductor laser drive circuit 35...Shutter representative Patent attorney Katsuo Ogawa, -Nishi 1 Tsutomi 2 Figure 3 times t4- Kaiki I5 Hai 2 Ra Kaimine 81 yen 1 Foot 9 figure J IO times

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、出力光モニタ用センサーを内蔵した半導体レーザを
該センサーの出力を用いてフィードバック制御を行う半
導体レーザ駆動手段と、該フィードバックの量をホール
ドする手段と、該半導体レーザの出力光を試料上へ照射
する複数の光学手段を対向させて設置した照明手段とを
備え付けたことを特徴とする異物検査装置。 2、上記照明手段に、更に該半導体レーザの出力光以外
の他のレーザ光を遮光するシャッター手段を有し、検査
前に該シャッター手段の作動によって該半導体レーザの
出力光のみをモニタしてフィードバック制御を行い、検
査中該シャッター手段を除去して該フィードバック量を
ホールドして該半導体レーザを駆動することを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の異物検査装置。 3、上記照明手段は、更に該複数の半導体レーザを個々
にON/OFF可能ならしめる手段を有し、検査中以外
で1個の半導体レーザのみONにしてフィードバック制
御を行った後にフィードバック量をホールドし、該操作
を他のすべての半導体レーザについて行い、検査中は各
々の半導体レーザのホールドしたフィードバック量を用
いて各々の半導体レーザを駆動することを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の異物検査装置。
[Claims] 1. Semiconductor laser driving means for performing feedback control on a semiconductor laser incorporating a sensor for monitoring output light using the output of the sensor; means for holding the amount of feedback; What is claimed is: 1. A foreign matter inspection device comprising: illumination means in which a plurality of optical means for irradiating output light onto a sample are installed facing each other. 2. The illumination means further includes a shutter means for blocking laser light other than the output light of the semiconductor laser, and before the inspection, only the output light of the semiconductor laser is monitored and fed back by operating the shutter means. 2. The foreign matter inspection apparatus according to claim 1, wherein the semiconductor laser is driven by controlling the shutter means to remove the shutter means and hold the feedback amount during the inspection. 3. The illumination means further includes means for individually turning on/off the plurality of semiconductor lasers, and holds the feedback amount after performing feedback control by turning on only one semiconductor laser except during inspection. The method according to claim 1, wherein said operation is performed for all other semiconductor lasers, and during the inspection, each semiconductor laser is driven using the held feedback amount of each semiconductor laser. Foreign matter inspection equipment.
JP61169701A 1986-07-21 1986-07-21 Foreign matter inspection method Expired - Lifetime JPH0621878B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61169701A JPH0621878B2 (en) 1986-07-21 1986-07-21 Foreign matter inspection method
US07/074,858 US4814596A (en) 1986-07-21 1987-07-17 Detection of surface particles by dual semiconductor lasers having stable illumination intensities
KR1019870007840A KR900005346B1 (en) 1986-07-21 1987-07-20 Foreign object detection device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61169701A JPH0621878B2 (en) 1986-07-21 1986-07-21 Foreign matter inspection method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6326559A true JPS6326559A (en) 1988-02-04
JPH0621878B2 JPH0621878B2 (en) 1994-03-23

Family

ID=15891283

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61169701A Expired - Lifetime JPH0621878B2 (en) 1986-07-21 1986-07-21 Foreign matter inspection method

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4814596A (en)
JP (1) JPH0621878B2 (en)
KR (1) KR900005346B1 (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06103765B2 (en) * 1987-10-30 1994-12-14 日本電気株式会社 Semiconductor laser bias current control method
US5046847A (en) * 1987-10-30 1991-09-10 Hitachi Ltd. Method for detecting foreign matter and device for realizing same
US5155370A (en) * 1988-09-09 1992-10-13 Canon Kabushiki Kaisha Device for detecting the relative position of first and second objects
JPH03276782A (en) * 1990-03-27 1991-12-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd Pulse light source
US6366690B1 (en) * 1998-07-07 2002-04-02 Applied Materials, Inc. Pixel based machine for patterned wafers
JP5008618B2 (en) * 2008-07-22 2012-08-22 東京エレクトロン株式会社 Foreign matter detection method, apparatus, and storage medium attached to peripheral edge of substrate
CN103779165B (en) * 2012-10-19 2016-08-31 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 Plasma apparatus and location of workpiece detection method

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5630630A (en) * 1979-08-23 1981-03-27 Hitachi Ltd Foreign matter detector
JPS58210505A (en) * 1982-06-01 1983-12-07 Nec Corp Laser optical device
JPS60198437A (en) * 1984-03-23 1985-10-07 Hitachi Electronics Eng Co Ltd Surface inspecting device using laser light
JPS60167358U (en) * 1984-04-16 1985-11-06 三洋電機株式会社 Semiconductor laser drive circuit

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4375067A (en) * 1979-05-08 1983-02-22 Canon Kabushiki Kaisha Semiconductor laser device having a stabilized output beam
JPS5696203A (en) * 1979-12-27 1981-08-04 Fujitsu Ltd Detection device for optical position
JPS582018A (en) * 1981-06-26 1983-01-07 Toshiba Corp Manufacture of wafer and semiconductor device
JPS5840878A (en) * 1981-09-04 1983-03-09 Hitachi Ltd Driving method for semiconductor laser
JPH0821173B2 (en) * 1984-07-27 1996-03-04 松下電器産業株式会社 Semiconductor laser drive circuit

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5630630A (en) * 1979-08-23 1981-03-27 Hitachi Ltd Foreign matter detector
JPS58210505A (en) * 1982-06-01 1983-12-07 Nec Corp Laser optical device
JPS60198437A (en) * 1984-03-23 1985-10-07 Hitachi Electronics Eng Co Ltd Surface inspecting device using laser light
JPS60167358U (en) * 1984-04-16 1985-11-06 三洋電機株式会社 Semiconductor laser drive circuit

Also Published As

Publication number Publication date
KR880002252A (en) 1988-04-30
KR900005346B1 (en) 1990-07-27
JPH0621878B2 (en) 1994-03-23
US4814596A (en) 1989-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7643139B2 (en) Method and apparatus for detecting defects
JPH0820371B2 (en) Defect inspection device and defect inspection method
US5159412A (en) Optical measurement device with enhanced sensitivity
KR102228505B1 (en) Surface defect inspection using large particle monitoring and laser power control
US20080013076A1 (en) Surface Inspection Method and Surface Inspection Apparatus
US9255891B2 (en) Inspection beam shaping for improved detection sensitivity
US5637881A (en) Method to detect non-spherical particles using orthogonally polarized light
KR101199082B1 (en) Method and Device for surface inspection
JPH0621878B2 (en) Foreign matter inspection method
CN1246922A (en) Angle-of-rotation measuring instrument and urine analysis method
JPH06242012A (en) Dust particle inspection system
US9157866B2 (en) Light source device, surface inspecting apparatus using the device, and method for calibrating surface inspecting apparatus using the device
JPS63226937A (en) Foreign substance inspection system
JPH054026B2 (en)
JPH0240541A (en) surface inspection equipment
JPH11271231A (en) Surface foreign matter inspection device
JP2007149212A (en) Method and device for testing optical information medium
JPH05340883A (en) Foreign matter inspecting device
TW202406659A (en) Laser processing equipment
JP2709946B2 (en) Foreign matter inspection method and foreign matter inspection device
JPH0812061B2 (en) Surface inspection device
JPH0589461A (en) Method for detecting dirt on optical recording medium
JPH0648399Y2 (en) Non-contact micro surface abnormality detector
JP2004093214A (en) Nondestructive inspection system
JPH05107273A (en) Voltage detector