JPS6326828A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6326828A JPS6326828A JP61170089A JP17008986A JPS6326828A JP S6326828 A JPS6326828 A JP S6326828A JP 61170089 A JP61170089 A JP 61170089A JP 17008986 A JP17008986 A JP 17008986A JP S6326828 A JPS6326828 A JP S6326828A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic recording
- perpendicularly magnetized
- temp
- polymer film
- Prior art date
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度磁気記録に適する磁気テープ。
磁気ディスクにあって垂直磁化膜を磁気記録層とする磁
気記録媒体の製造方法に関するものである。
気記録媒体の製造方法に関するものである。
従来の技術
次の世代を担う磁気記録技術として新しい垂直磁気記録
方式が注目されている〔外国論文誌：アイイーイーイー
トランザクションズ オン マグネティクス（ＩＥＥ
Ｅ ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＯＮＭＡＧＮＥ Ｔ
Ｉ Ｃ３） ｖ ｏ １１ＭＡＧ １３ 、 Ａ ６
、 ｐ、 ｐ。
方式が注目されている〔外国論文誌：アイイーイーイー
トランザクションズ オン マグネティクス（ＩＥＥ
Ｅ ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＯＮＭＡＧＮＥ Ｔ
Ｉ Ｃ３） ｖ ｏ １１ＭＡＧ １３ 、 Ａ ６
、 ｐ、 ｐ。
１２７２〜１２７７（１９７ア）〕。
垂直記録では媒体面に垂直な反平行磁化転移を形成させ
るので、磁化転移が極めて狭いものとなり高密度の記録
が可能になるが、この方式の実現には、垂直異方性を有
する媒体の使用が不可欠で、耐久性のある、信号出力対
雑音比（以下Ｃ／Ｎと記す）の大きな媒体が量産規模で
得られることが鍵といえる〔応用磁気セミナ、垂直磁気
記録方式％式％） 垂直異方性はＣｏの六方稠密構造をベースにして、磁性
を稀釈する元素が添加されるのが一般的で、添加元素と
してはＣｒが最も良く検討されているが他にＲｕ 、
Ｒｅ 、Ｏｓ 、Ｖ 、Ｍｏ 、Ｗ、 Ｃｒ −Ｙ 。
るので、磁化転移が極めて狭いものとなり高密度の記録
が可能になるが、この方式の実現には、垂直異方性を有
する媒体の使用が不可欠で、耐久性のある、信号出力対
雑音比（以下Ｃ／Ｎと記す）の大きな媒体が量産規模で
得られることが鍵といえる〔応用磁気セミナ、垂直磁気
記録方式％式％） 垂直異方性はＣｏの六方稠密構造をベースにして、磁性
を稀釈する元素が添加されるのが一般的で、添加元素と
してはＣｒが最も良く検討されているが他にＲｕ 、
Ｒｅ 、Ｏｓ 、Ｖ 、Ｍｏ 、Ｗ、 Ｃｒ −Ｙ 。
Ｃｒ−Ｚｒ 、Ｃｒ−Ｎｔ）等が知られている〔特開昭
５８−１８９３４９〜５８−１８９３５２号公報〕。
５８−１８９３４９〜５８−１８９３５２号公報〕。
上記した材料を一般に、ポリイミド等の基板上に、高周
波スパッタリング法、電子ビーム蒸着法。
波スパッタリング法、電子ビーム蒸着法。
イオンブレーティング法等で、垂直磁化膜として形成す
ることで磁気記録媒体を製造している。この際、真空度
、残留気体成分１円筒キャンに流す媒体温度等を管理し
、入射角を規制し、基板の脱ガスを十分行うことで、配
向性の良い垂直磁化膜を得ることができる。
ることで磁気記録媒体を製造している。この際、真空度
、残留気体成分１円筒キャンに流す媒体温度等を管理し
、入射角を規制し、基板の脱ガスを十分行うことで、配
向性の良い垂直磁化膜を得ることができる。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記したようにＸ線回折で調べた結晶配
向性が良好な磁気記録層を用いても、短波長記録再生を
行うと、Ｃ／Ｎが良好で均一な性能を示す磁気記録を、
狭コア幅の回転磁気ヘッド（リング型で合金材料が用い
られる傾向にある）で得ることができないといった問題
があり、改善が望まれている。
向性が良好な磁気記録層を用いても、短波長記録再生を
行うと、Ｃ／Ｎが良好で均一な性能を示す磁気記録を、
狭コア幅の回転磁気ヘッド（リング型で合金材料が用い
られる傾向にある）で得ることができないといった問題
があり、改善が望まれている。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、Ｃ／Ｎの
良好な極短波長記録再生に適する垂直磁気記録用の磁気
記録媒体を大量に得ることの出来る製造方法を提供する
ものである。
良好な極短波長記録再生に適する垂直磁気記録用の磁気
記録媒体を大量に得ることの出来る製造方法を提供する
ものである。
問題点を解決するための手段
上記した問題点を解決するため本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、高分子フィルム上に垂直磁化膜を形成する
際、形成初期より形成完了までが一定温度となる状態で
結晶成長させるものである。
製造方法は、高分子フィルム上に垂直磁化膜を形成する
際、形成初期より形成完了までが一定温度となる状態で
結晶成長させるものである。
作 用
本発明は上記した構成により垂直磁化膜を構成する結晶
微粒子が、粒子径の揃った垂直柱状結晶になるため、雑
音が小さくなるのと、結晶成長過程での内部歪みが最小
に出来るので、磁歪に基ずく磁気特性の動的不安定性が
無視でき、したがって回転ヘッドからの応力を受けても
、十分良好なＣ／Ｎのまま、極短波長記録再生を行える
磁気記録媒体を大量に製造できることになる。
微粒子が、粒子径の揃った垂直柱状結晶になるため、雑
音が小さくなるのと、結晶成長過程での内部歪みが最小
に出来るので、磁歪に基ずく磁気特性の動的不安定性が
無視でき、したがって回転ヘッドからの応力を受けても
、十分良好なＣ／Ｎのまま、極短波長記録再生を行える
磁気記録媒体を大量に製造できることになる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明
する。第１図は、本発明の製造方法により製造できる磁
気記録媒体の一例の拡大断面図で、１は高分子フィルム
で、２は垂直磁化膜で３は潤滑剤層である。
する。第１図は、本発明の製造方法により製造できる磁
気記録媒体の一例の拡大断面図で、１は高分子フィルム
で、２は垂直磁化膜で３は潤滑剤層である。
第２図は、本発明を実施するために用いたスパッタリン
グ装置の内部要部構成図である。第２図で、１は高分子
フィルム、４は送り出し軸、５は巻取り軸、６は回転支
持体で、７は第１キヤン、８は第２キヤン、９はマスク
、１０はマスク開孔部、１１はスパッタリングターゲッ
ト、１２はマグネトロン放電誘起用磁極である。
グ装置の内部要部構成図である。第２図で、１は高分子
フィルム、４は送り出し軸、５は巻取り軸、６は回転支
持体で、７は第１キヤン、８は第２キヤン、９はマスク
、１０はマスク開孔部、１１はスパッタリングターゲッ
ト、１２はマグネトロン放電誘起用磁極である。
実施に当り、一定温度条件を垂直磁化膜形成の開始から
終了まで保つようにするために、図に示した７、８の温
度と、ｌｏ、１３１の寸法と、高周波電力の関係を調査
し、最適化してから実施した。
終了まで保つようにするために、図に示した７、８の温
度と、ｌｏ、１３１の寸法と、高周波電力の関係を調査
し、最適化してから実施した。
厚み１２μｍのポリアミドイミドフィルムの脱ガスを十
分行った後、回転支持体（厚み３０ ）ｔｒｎのチタン
箔で構成したエンドレスベルトを用いた）に沿って移動
させながらＣｏ−Ｃｒ （Ｃｒ：２０．６ｗｔ％）垂直
磁化膜０．２１μｍを形成した。ターゲット表面は１２
０（ガウス）の最大磁場となるマグネトロン方式を利用
した。高周波電力（１３，５６ＭＨ２）は１．６５ｋＷ
を投入し、放電気体はＡｒ８Ｘ１０−４［Ｔｏｒｒ］。
分行った後、回転支持体（厚み３０ ）ｔｒｎのチタン
箔で構成したエンドレスベルトを用いた）に沿って移動
させながらＣｏ−Ｃｒ （Ｃｒ：２０．６ｗｔ％）垂直
磁化膜０．２１μｍを形成した。ターゲット表面は１２
０（ガウス）の最大磁場となるマグネトロン方式を利用
した。高周波電力（１３，５６ＭＨ２）は１．６５ｋＷ
を投入し、放電気体はＡｒ８Ｘ１０−４［Ｔｏｒｒ］。
Ｈ２１Ｘ １０−’（Ｔｏ ｒ ｒ １）条件とし、放
電気体導入前に、真空槽内は５ Ｘ １０ ［：Ｔｏｒ
ｒ］まで排気した。
電気体導入前に、真空槽内は５ Ｘ １０ ［：Ｔｏｒ
ｒ］まで排気した。
７の温度を２６０±２℃とし、８の温度を１４０士２℃
とし、７，８の直径２５ ｏｎ 、 ｌ○＝ ３３ ｃ
ｍ 。
とし、７，８の直径２５ ｏｎ 、 ｌ○＝ ３３ ｃ
ｍ 。
６１＝１７ｃｒｎとした。
これらの条件により、Ｃｏ −Ｃｒの結晶成長にあたっ
て昇温することなく、２７０℃で一定となる条件で結晶
が完成する。フィルム温度は２６０℃であるがわずか１
ｏ℃の差であり結晶内部の歪みは殆んど無視できる。
て昇温することなく、２７０℃で一定となる条件で結晶
が完成する。フィルム温度は２６０℃であるがわずか１
ｏ℃の差であり結晶内部の歪みは殆んど無視できる。
得られた垂直磁化膜の上に、真空蒸着法によりパークロ
ロベヘン酸を約４０人潤滑剤層として形成し磁気記録媒
体を得た。８朋幅の磁気テープを用イ、ギャップ長０．
１３μｍ、コア幅８０７Ｉｔｏのセンダストスパッタヘ
ッドを用いて、回転磁気ヘッドにより記録再生した。ビ
ット長０．２μｍの矩形波を記録した時の再生Ｃ／Ｎは
５２（ｄＢ）あり、従来知られるＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜
で得られる％より１１（ｄＢ）と大幅に改良されている
ことがわかる。
ロベヘン酸を約４０人潤滑剤層として形成し磁気記録媒
体を得た。８朋幅の磁気テープを用イ、ギャップ長０．
１３μｍ、コア幅８０７Ｉｔｏのセンダストスパッタヘ
ッドを用いて、回転磁気ヘッドにより記録再生した。ビ
ット長０．２μｍの矩形波を記録した時の再生Ｃ／Ｎは
５２（ｄＢ）あり、従来知られるＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜
で得られる％より１１（ｄＢ）と大幅に改良されている
ことがわかる。
本発明は上記した例に限定されるものではなく、高分子
フィルムハホリエチレンテレフタレートフィルム、ポリ
エチレンナフタレートフィルム、ポリフェニレンサルフ
ァイドフィルム、ポリイミドフィルム等を用いてもよく
、垂直磁化膜についても限定されない。
フィルムハホリエチレンテレフタレートフィルム、ポリ
エチレンナフタレートフィルム、ポリフェニレンサルフ
ァイドフィルム、ポリイミドフィルム等を用いてもよく
、垂直磁化膜についても限定されない。
又垂直磁化膜の形成法も、電子ビーム蒸着法。
イオンブレーティング法等がスパッタリング法以外に用
いることができる。
いることができる。
なお、垂直磁化膜、高分子フィルム、垂直磁化膜形成法
により、温度設定は適宜最適化して実施するものである
。
により、温度設定は適宜最適化して実施するものである
。
発明の効果
以上のように本発明によれば、良好なＣ／Ｎを短波長記
録で与えることの出来る垂直磁気記録用の磁気記録媒体
（磁気テープ、磁気ディスク）を大量に得られるといっ
たすぐれた効果がある。
録で与えることの出来る垂直磁気記録用の磁気記録媒体
（磁気テープ、磁気ディスク）を大量に得られるといっ
たすぐれた効果がある。
第１図は本発明により得られる磁気記録媒体の一例の拡
大断面図、第２図は本発明の実施にあたり用いたスパッ
タリング装置の一例の内部要部構成図である。 １・・・・・−高分子フィルム、２・・・・・・垂直磁
化膜、３・・・・・・潤滑剤層、６・・・・・・回転支
持板、７・・・・・・第１キヤン、８・・・・・・第２
キヤン、９・・・・・・マスク、１１・・・・・・ター
ゲット０ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名３−
瀾滑利１ ．９
大断面図、第２図は本発明の実施にあたり用いたスパッ
タリング装置の一例の内部要部構成図である。 １・・・・・−高分子フィルム、２・・・・・・垂直磁
化膜、３・・・・・・潤滑剤層、６・・・・・・回転支
持板、７・・・・・・第１キヤン、８・・・・・・第２
キヤン、９・・・・・・マスク、１１・・・・・・ター
ゲット０ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名３−
瀾滑利１ ．９
Claims (1)
- 高分子フィルム上に垂直磁化膜を形成する際、形成初
期より形成完了までが一定温度となる状態で結晶成長さ
せることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61170089A JPS6326828A (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61170089A JPS6326828A (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6326828A true JPS6326828A (ja) | 1988-02-04 |
Family
ID=15898439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61170089A Pending JPS6326828A (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6326828A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6052930A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-26 | Teijin Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6076027A (ja) * | 1983-10-03 | 1985-04-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1986
- 1986-07-18 JP JP61170089A patent/JPS6326828A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6052930A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-26 | Teijin Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6076027A (ja) * | 1983-10-03 | 1985-04-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
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