JPS6328439B2 - - Google Patents

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JPS6328439B2
JPS6328439B2 JP57049938A JP4993882A JPS6328439B2 JP S6328439 B2 JPS6328439 B2 JP S6328439B2 JP 57049938 A JP57049938 A JP 57049938A JP 4993882 A JP4993882 A JP 4993882A JP S6328439 B2 JPS6328439 B2 JP S6328439B2
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JP
Japan
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compound according
compound
anisyl
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phenylmethyl
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JP57049938A
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English (en)
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JPS57176998A (en
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Eichi Karuzaasu Maabin
Eru Bokeeji Saaji
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University Patents Inc
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Publication date
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Application filed by University Patents Inc filed Critical University Patents Inc
Publication of JPS57176998A publication Critical patent/JPS57176998A/ja
Publication of JPS6328439B2 publication Critical patent/JPS6328439B2/ja
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H21/00—Compounds containing two or more mononucleotide units having separate phosphate or polyphosphate groups linked by saccharide radicals of nucleoside groups, e.g. nucleic acids

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  • Biotechnology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Genetics & Genomics (AREA)
  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規で有用なリン化合物に関し、特に
オリゴヌクレオチドの製造に有用なリン化合物に
関するものである。 本発明はポリヌクレオチド合成用の中間体であ
る新規で有用なホスホルアミダイト
（phosphoramidite）およびポリヌクレオチド製
造用のオリゴヌクレオチドを生成するための改良
方法に関するものである。 所定のオリゴヌクレオチドを連続的に合成する
有利な方法が多数開発されている。しかしなが
ら、ポリヌクレオチド、特にオリゴヌクレオチド
の段階的合成方法は、なお困難でかつ時間を要す
る工程を含んでおり、またしばしば収率が低い。
１つの先行技術では、ポリヌクレオチド合成中に
保持体として有機ポリマーを使用している。一般
的に、ポリマー保持体合成方法の主な問題点は、
本来ポリマー保持体の性質にある。このような合
成に使用される従来の種々のポリマーは、(1)保持
体中への活性ヌクレオチドの拡散速度が遅いこ
と；(2)種々の多孔性低架橋保持体ポリマーが過度
に膨潤すること；および(3)ポリマー上への試薬の
吸収が不可逆的であることのような理由から不適
当であることが解つた。例えば、ブイ・アマーナ
ス（V.Amarnath）およびエイ・デイー・ブルー
ム（A.D.Broom）共著、ケミカル・レビユーズ
（Chemical Reviews）、第77巻、1977年、183〜
217頁参照。 例えば、液体クロマトグラフイーにおいて、吸
収物質として主に用いられる変性無機ポリマー
は、先行技術において公知である。トリチル結合
基を用いてヌクレオシドホスフエートをシリカゲ
ルに結合させることについては、先行文献に述べ
られている〔エイチ・コスター（H.Koster）著、
テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron
Letters）、1972年、1527〜1530頁〕。しかしなが
ら、この方法は明らかにピリミジンヌクレオシド
にのみ適用できるに過ぎない。シリカ保持体から
ヌクレオシドを開裂することは、プリンヌクレオ
シドに作用を及ぼす酸によつて達成されるにすぎ
ない。 オリゴチミジレートのホスホトリエステル誘導
体の製造については、文献〔アール・エル・レチ
ンガー（R.L.Letsinger）およびダブル・ビー・
ランスフオード（W.B.Lunsford）共著、ジヤー
ナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサエ
テイ（Journal of the American Chemical
Society）、98：12、3655〜3661頁〕に述べられて
おり、これによればホスホロジクロリダイトを
5′―Ｏ保護チミジンと反応させ、連続して生成物
を3′―Ｏ保護チミジンと反応させ、次に生じた亜
リン酸塩を酸化してリン酸塩とし、保護基を除去
して、ホスホトリエステルを得る。この方法を使
用することにより、四量体および五量体、すなわ
ち、dTpTpTpTおよびdTpTpTpTpT（Ｔはチミ
ジン）が生成される。不都合なことに、この方法
では、添加したヌクレオシドの適切な連続性を確
実にするため、各段階において生成物の分離およ
び精製が必要である。沈殿操作および沈殿物の洗
浄を含む分離技術は、連続した各段階の反応を達
成させるために必要である。 同一人に譲渡した上記の特許出願には、ハロホ
スホリダイトと、適切に保護されたヌクレオシド
あるいはオリゴヌクレオチド分子との反応によつ
て、ヌクレオチド間の結合、即ちオリゴヌクレオ
チドあるいはポリヌクレオチド中における各ヌク
レオシド間の結合を生成させる方法が述べられて
いる。 デオキシヌクレオシドで変性したシリカゲル
は、デオキシヌクレオシドの5′―OH間にトリエ
ステルホスフアイト結合を生成して、選ばれたヌ
クレオチドと縮合される。上記ホスフアイト結合
は、最初シリカゲル上のヌクレオシドの5′―OH
に亜リン酸基を導入し、次に3′―OHにより添加
ヌクレオシドと縮合することによつて生成され
る。他の態様においては、好ましくは、亜リン酸
基が3′―OH（5′―OHはトリチル化することによ
り保護されている）において添加ヌクレオシドに
導入され、次に生じたヌクレオシドホスフアイト
がシリカゲルのヌクレオシドの5′―OHと反応す
る。 また、デオキシヌクレオシド変性シリカゲル
は、シリカゲルのデオキシヌクレオシドの3′―
OHと、選ばれたデオキシヌクレオシドの5′―
OHとの間にトリエステルホスフアイト結合を形
成して、選ばれたヌクレオシドと縮合される。ホ
スフアイト結合は、最初シリカゲル上のヌクレオ
シドの3′―OHに亜リン酸基を導入し、次に5′―
OHにより添加ヌクレオシドと縮合することによ
つて生成される。他の場合、好ましくは、この方
法によつて亜リン酸基が5′―OHにおいて添加ヌ
クレオシド内に導入され（3′―OHは技術的方法
を使用してトリチル化することにより保護されて
いる）、次に、生じたヌクレオシドホスフアイト
はシリカゲル上のヌクレオシドの3′―OHと反応
させる。 一般的な反応は次の通りである。 また好ましい反応は次の通りである。 式中、は塩基の存在において加水分解可能な
共有結合によつてヌクレオシドの3′または5′―Ｏ
―に結合した無機ポリマー；ＲはＨあるいは保護
基；R′1は炭素を10個まで有するヒドロカルビル
基；各Ｂはヌクレオシドまたはデオキシヌクレオ
シド塩基；各ＡはＨ、OH又はOR4であり、ここ
でR4は保護基であり；かつＸはハロゲン、好ま
しくはClまたはBr、または第二アミノ基である。 Ｘが第二アミノ基である構造式およびａの
化合物は、アミノ基が不飽和窒素複数環であるも
のを含む。この複素環は通常共役している少なく
とも２つのエチレン性二重結合を特徴とするテト
ラゾール、インドール、イミダゾール、ベンゾイ
ミダゾールおよび同様の窒素複素環化合物であ
り、またＮ、ＳまたはＯのような他のヘテロ原子
をも包含することができる。Ｘがそのような複素
環式アミンである構造式およびａの化合物、
即ち、アミノ窒素が環のヘテロ原子であるもの
は、極端に反応性が高く、そのために特に構造式
およびａの化合物の前記の製法において比較
的安定性が低いことが特徴である。これらホスホ
ルアミダイトおよびこれらの製造用の対応するク
ロリダイトは水（加水分解）および空気（酸化）
に対して不安定である。このため、そのような化
合物は不活性な雰囲気の下で、通常密封容器中
で、通常０℃よりかなり低い極端な低温度におい
てのみ保存が可能である。従つて、構造式およ
びａの化合物の製造に、これら化合物を使用す
る場合には、上記の高い反応性および低い安定性
のために、充分な注意と用心深い取扱いが必要で
ある。 本発明の新規な化合物は構造式およびａを
有しており、式中Ｘは特定の第二アミノ基であ
る。詳しくは、本発明の新規な化合物は、Ｘが飽
和第二アミノ基であるもの、即ち第二アミノ基に
は二重結合が存在しないものである。さらに詳し
くは、ＸはNR′2R′3であり、別々に導入される
R′2およびR′3は、それぞれ10個までの炭素原子を
含むアルキル、アラルキル、シクロアルキルおよ
びシクロアルキルアルキル基を表わし、R′2およ
びR′3が共に導入される時、主鎖に５個までの炭
素原子を含み、かつ合計10個までの炭素原子を含
むアルキレン鎖を生成し、このアルキレン鎖の両
末端はR′2およびR′3と結合する窒素原子に原子価
結合され；R′2およびR′3がこれらと結合する窒素
原子と同時に導入される時、窒素、酸素およびイ
オウから成る群から選ばれる少なくとも１つの追
加のヘテロ原子を含む飽和窒素含有複素環を生成
する。 本発明の新規な化合物は、前記の同時継続出願
のもの程高い反応性を示さずかつ不安定ではな
い。しかしながら、本発明の化合物は、通常の条
件の下でヌクレオシドの保護されていない3′―
OH又は5′―OHと容易に反応する。本発明の新
規なホスホルアミダイトは、通常の試験室条件下
で加水分解および空気酸化に対して安定であり、
乾燥性の安定な粉末として貯蔵される。従つて、
本発明の新規なホスホルアミダイトは、上記同時
継続出願において述べられているように、ヌクレ
オチド間の結合を形成する方法において、特にオ
リゴヌクレオチドおよびポリヌクレオチドを生成
する自動工程において、より効果的に用いられ
る。 NR′2R′3を生成するアミンとしては、ジメチル
アミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジブチルアミン、メチルプロピロアミン、メ
チルヘキシルアミン、メチルシクロプロピルアミ
ン、エチルシクロヘキシルアミン、メチルベンジ
ルアミン、メチルシクロヘキシルメチルアミン、
ブチルシクロヘキシルアミン、モルホリン、チオ
モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、２，６―
ジメチルピペリジン、ピペラジンおよび同様な飽
和単環窒素複素環化合物のような種々の飽和第二
アミンが広範囲に含まれる。 上記式中においてＢによつて表わされるヌクレ
オシドおよびデオキシヌクレオシドの塩基は、周
知のものであり、プリン誘導体、例えはアデニ
ン、ヒポキサンチンおよびグアニン、並びにピリ
ミジン誘導体、例えばシトシン、ウラシルおよび
チミンなどを包含する。 上記式においてR4によつて表わされる保護基
としては、トリチル、メトキシトリチル、ジメト
キシトリチル、ジアルキルホスフアイト、ピバリ
ル、イソブチルオキシカルボニル、ｔ―ブチルジ
メチルシリル、アセチル基その他がある。 R1によつて表わされるヒドロカルビル基とし
ては、約10個までの炭素原子を含むアルキル、ア
ルケニル、アリール、アラルキルおよびシクロア
ルキルが含まれ、広範囲にわたつている。これら
の代表的な基は、メチル、ブチル、ヘキシル、フ
エネチル、ベンジル、シクロヘキシル、フエニ
ル、ナフチル、アリルおよびシクロブチル基など
である。これらのうち、低級アルキル、特にメチ
ル基およびエチル基が好ましい。 新規な化合物は、構造式ａにおいて、Ｘがジ
低級アルキルアミノ、ピロリジノ、モルホリノあ
るいはピペリジノ基であり、とりわけ低級アルキ
ルアミノ基が好ましく、更にモルホリノ、ジメチ
ルアミノおよびジエチルアミノ基が好ましく；Ａ
はＨで；R′1は低級アルキル基；Ｒはトリチル
基；Ｂはヌクレオシド又はデオキシヌクレオチド
塩基；およびはシリカゲルであることが好まし
い。 本発明の新規化合物は、特定の第二アミンを対
応するヌクレオシドホスホモノクロリダイトと反
応させるような技術的に認められた方法に従つて
製造される。この反応は、テトラヒドロフランま
たはアセトニトリルのような有機溶媒に上記ヌク
レオシドを溶解し、さらに選ばれた第二アミンを
加えることにより達成する。望ましくない塩酸塩
を除去した後、ホスホルアミダイトの有機溶媒溶
液を、そのままポリヌクレオチドの合成に使用
し、あるいは上記生成物を有機溶媒溶液から単離
し、かつ次の反応の前に精製する。 本発明の他の具体例として、ホスホルアミダイ
トは、所望のクロロ―（第二アミノ）アルコキシ
ホスフインを生成し、その後、この生成物を所定
のヌクレオシドと縮合させることにより好適に製
造する。この方法は、水分による加水分解および
空気による劣化を受け易いヌクレオシドホスホモ
ノクロロダイトの場合における困難な取扱いの問
題を解決している。 クロロ―（第二アミノ）アルコキシホスフイン
の反応は、縮合反応において生成された塩化水素
を吸収するために、好ましくは第三アミンの存在
の下で、選ばれたヌクレオシドの有機溶媒溶液中
で行なう。反応は室温において乾燥雰囲気中で、
かつN2またはヘリウムのような不活性ガス中で
円滑に進行する。本発明に有用な有機溶媒として
は、ジエチルエーテル、クロロホルム、塩化メチ
レン、塩化エチレン、酢酸エチル等のような反応
物を溶解するあらゆる溶媒が含まれる。生成物の
溶液は、添加した第三アミンの塩酸塩沈殿物から
分離され、得られた溶液はそのままポリヌクレオ
チドを生成する場合に利用できるが、そうしない
場合には、後に使用する前に溶媒から分離し、さ
らに結晶化により精製する。上記の説明では、塩
素化合物の使用について述べたが、必要に応じて
臭素化合物も使用可能であり、本質的に同様の結
果が得られる。 本発明の新規な化合物をヌクレオチド間の結合
を生成する場合に用いる場合、これらの化合物は
陽子供与体と共に使用することが好ましい。例え
ば、ホスホルアミダイトは酸性化合物によつて陽
子化のために活性化され、これが所望のヌクレオ
チド結合の生成を容易にするものである。上記活
性化の目的のために使用する酸性化合物は、好ま
しくは適度の酸性を示し、これら化合物として
は、ハロゲン酸アミン塩、およびテトラゾール、
イミダゾール、ニトロイミダゾール、ベンズイミ
ダゾール並びに同様な窒素複素環式陽子供与体の
ような窒素複素環式化合物が含まれる。プロトン
活性化に使用されるハロゲン酸アミン塩は、好ま
しくは第三アミンの塩であり、また好ましくは塩
酸塩であるが、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩あ
るいはフツ化水素酸塩も使用できる。上記第三ア
ミンとしては、例えば、ジメチルアニリン、ジイ
ソプロピルアニリン、メチルエチルアニリン、メ
チルジフエニルアミン、ピリジンその他がある。 ヌクレオシドがグアノシンである時、即ち、Ｂ
がグアニンである場合、アミン塩酸塩を使用する
ことは、活性化、即ち陽子供与の目的のために
は、あまり効果的ではない。Ｂがグアニンである
これら化合物の場合、活性化は上記窒素複素環式
水素供与体によつて良好に達成できる。 もちろん、上記同時継続出願に述べられている
ように、一度ヌクレオチド間結合が生成される
と、生成物は次に保護基、例えば保護基Ｒを除去
するために処理され、これにより生成物は式の
ヌクレオシドとさらに反応し、この反復反応によ
れば、共有結合基、例えはエステル結合基により
シリカゲルに結合した所定の連続状ヌクレオチド
のポリヌクレオチドが生ずる。 各ヌクレオシドを添加した後、好ましくは亜リ
ン酸基を、通常酸化剤としてのヨウ素との反応に
より酸化してリン酸塩にする。この処理は、過酸
化第三級ブチルおよび過酸化ベンゾイル、並びに
ヒドロペルオキシドなどの過酸化物との反応によ
つても行なうことができる。 通常アンモニアを用いる加水分解により、Ｒ保
護基のような保護基および前記同時継続出願に述
べられているようなヌクレオシド塩基部分の保護
基を除去した後に加水開裂することにより、オリ
ゴヌクレオチドをシリカゲル支持体から分離して
得る。 Ｒの代表的な保護基として特に有用なものは、
アリールメチル基であり、これらアリールメチル
基としては、モノアリールジアルキルメチル、ジ
アリールモノアルキルメチルおよびトリアリール
メチル保護基などを含む。これらのうち、トリア
リールメチルが好ましく、そのトリチル保護基は
周知である。トリアリールメチル保護基は一般に
容易に除去できるが、これら保護基は、またオリ
ゴヌクレオチドの連続状態並びに得られる生成物
の収率を知るために用いる。公知のヌクレオチド
合成法の１つの主な問題点は、ヌクレオチドの連
続縮合において生成される生成物を追跡すること
ができないことである。このような追跡は、反応
系の一部分、例えば、オリゴヌクレオチドを合成
付着したシリカゲル又は他の保護体を取出し、保
持体からの生成物を加水分解し、さらに生成物を
最終的に分析することが必要であり、これらの操
作はすべて時間を浪費する。この障害のために、
オリゴヌクレオチドは、通常は適当な追跡手段な
しで合成されるが、このことは大変望ましくな
い。トリアリールメチル保護基を使用することに
より、生成時にオリゴヌクレオチド生成物中のヌ
クレオシドの連続状況、並びにヌクレオシドの各
段階的添加時に得られる生成物の率収を追跡する
簡単で正確な方法が得られる。 この方法は、ルイス酸あるいはプロチン酸
（protic acid）の存在の下におけるトリアリール
メチルカチオンによる発色に基づいている。酸の
下で識別可能な色彩を与える構造式又はａの
ホスホルアミダイト化合物に対して、適切なトリ
アリールメチル保護基を選ぶことにより、各ヌク
レオシドは識別可能な色彩のトリアリールメチル
基によつて分類される。式およびａの化合物
中に例示されているリン結合を生成して、各縮合
反応が終了すると、合成の次の段階では、その系
から保護基Ｒを除去することである。この除去操
作は臭化亜鉛のようなルイス酸により好適に達成
され、かつ同時に発色反応を引起こす。例えば、
ジ―ｐ―アニシルフエニルメチル基は、オリゴヌ
クレオチドから除去されると、ZnBr2によるオレ
ンジ色を呈する。この色は、最初に使用したホス
ホルアミダイトを確認するためのトリアリールメ
チル保護基を確認するために用いることができ、
かつ色の濃度を測定することによつて、反応の進
行状態を測定できる。 経験によれば、殆んどのトリアリールメチル基
は酸に会うと発色する。実際、トリアリールメチ
ル基の組成を変化させることにより種々の色彩が
得られた。上記トリアリールメチル基のアリール
基としては、フエニルおよびナフチルのみならず
置換フエニルおよび置換ナフチル、並びにキノリ
ニル、フリル、チエニルのような複素環、および
他の窒素、イオウおよび／又は酸素を含む複素環
が含まれる。上記アリール基は、ハロゲン化物
（Ｆ、Cl、Br、Ｉ）、ニトロ、アルコキシ、アル
キル、アリール、アラルキル、シクロアルキルお
よび同様なヒドロカルビル基のような置換基を含
む。これらの置換基の場合、炭素原子の数は１か
ら約12が好ましい。 好ましいトリアリールメチル基は次式によつて
表わされる。 式中、R1、R2およびR3のそれぞれは、フエニ
ル、ナフチル、キノリル、フリル、チエニルのよ
うなアリール基、あるいは他の窒素、イオウおよ
び／又は酸素含有複素環であり；あるいはそのよ
うなアリール基は、ハロゲン化物（Ｆ、Cl、Br
又はＩ）、ニトロ、低級アルコキシ、低級アルキ
ル、およびアリール、並びに10個までの炭素原子
を含むアラルキルおよびシクロアルキルのような
置換基を包含する。R2およびR3はそれぞれ10個
までの炭素原子を含むアルキル、シクロアルキル
又はアラルキルである。 好ましいトリアリールメチル基を第表に示
す。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】 すべての色は次の方法により測定した。加水分
解されたグリニヤール反応生成物（実施例５に述
べられている方法により生成したトリアリールメ
チルアルコール）の一部を薄層クロマトグラフイ
ーにより分析した。次に、薄層板を塩酸蒸気にさ
らし、トリチルカチオンの色を記録した。 例えば、Ｒによつて示される保護基のうち、ア
リールメチル基、特にトリアリールメチル基、お
よび特に酸と接触したときに可視色彩を与えるア
リールメチル基が好ましい。 ここで使用されているように、ヌクレオチド、
ポリヌクレオチドおよびポリデオキシヌクレオチ
ドの符号は、IUPAC―IUBコミツシヨナー・オ
ブ・バイオケミカル・ノメンクラチヤー・リコメ
ンデーシヨンズ（Commissioner of
Biochemical Nomenclature Recommedations）
〔（1970）バイオケミストリー（Biochemistry）
９巻、4022頁〕に従う。 次の実施例により本発明をさらに説明する。 実施例 １ 次式のホスホルアミダイトの製造： このホスホルアミダイトは化合物〜として
表わされ、 化合物、Ｂ＝１―チミニル； 化合物、Ｂ＝１―（Ｎ―４―ベンゾイルシト
シニル）； 化合物、Ｂ＝９―（Ｎ―６―ベンゾイルアデ
ニニル）； 化合物、Ｂ＝９―（Ｎ―２―イソブチリルグ
アニニル）； およびDMT＝ジ―ｐ―アニシルフエニルメチ
ルである。 化合物〜の合成は、一官能性ホスフアイト
化剤として用いられるクロロ―Ｎ，Ｎ―ジメチル
アミノメトキシホスフイン〔CH3OP（Cl）Ｎ
（CH3）2〕の製造から始める。100mlの予め冷却し
た無水エーテル（−78℃）および予め冷却した
（−78℃）無水ジメチルアミン（45.9ｇ、1.02モ
ル）を250mlの添加漏斗に入れた。ジメチルアミ
ンの蒸発を避けるために、ドライアイスを含むア
ルミホイルで上記添加漏斗を包んだ。300mlの無
水エーテル中のメトキシジクロロホスフイン
（47.7ml、67.32ｇ、0.51モル）溶液を機械的に撹
拌して、上記溶液を−15℃（氷―アセトン浴）で
２時間かけて滴下した。添加漏斗を取り外し、次
に１の三口丸底フラスコにセラムキヤツプの栓
をして銅線で固定した。懸濁液を室温で２時間機
械的に撹拌し、次に過し、500mlの無水エーテ
ルでアミン塩酸塩を洗浄した。液と洗液を一緒
にして大気圧の下で蒸留し、さらに残渣を減圧下
で蒸留した。生成物を40〜42℃、13mmHgの下で
蒸留し、71％の収率（51.5ｇ、0.36モル）で単離
した。d25＝1.115ｇ／ml。 31P−N.M.R＝
179.5ppm（CDCl3）（5v／ｖ％ H3PO4内部標準
液）。 1H−N.M.R.二重線3.8および3.6ppm、JP-H
＝14Hz（3H、OCH3）および２つの単一線2.8お
よび2.6ppm（6H、Ｎ（CH3）2）。質量スペクトルの
親ピークはｍ／ｅ＝141であつた。 乾燥窒素で前もつてフラツシユした10mlの反応
容器中における酸を含まない乾燥クロロホルム
（３ml）およびジイソプロピルエチルアミン（４
ミリモル）中に、4′―Ｏ―ジ―ｐ―アニシルフエ
ニルメチルヌクレオシド（１ミリモル）を溶解し
た。この溶液に〔CH3OP（Cl）Ｎ（CH3）2〕（２ミ
リモル）を室温で窒素の下で注入器により滴下し
た（30〜60秒）。15分後、溶液を35mlの酢酸エチ
ルで125mlの分液漏斗に移した。溶液をNaCl（80
ml）の飽和水溶液で４回抽出した。有機相を無水
Na2SO4上で乾燥し、減圧下で蒸発させ発泡体に
した。この発泡体をトルエン（10ml）（化合物
は10mlの酢酸エチルに溶解）で溶解し、溶液を50
mlの冷ヘキサン（−78℃）に激しく撹拌しながら
滴下した。冷懸濁液を過し、白色粉末を75mlの
冷ヘキサン（−78℃）で洗浄した。白色粉末を減
圧下で乾燥し、窒素中に保存した。単離した化合
物〜の収率は90〜94％であつた（第２表参
照）。生成物の純度は 31P―N.M.R.で調べた。
31P―N.M.R.で分析すると、これらの化合物は室
温で窒素中で貯蔵された時、少なくとも１ケ月間
安定であつた。さらに、多量の（3′−3′）ジヌク
レオシドホスフアイトは 31P―N.M.R.により検
出されなかつた（４％以下）。（3′―3′）ジヌクレ
オシドホスフアイトの含有量が低いということ
は、先行技術のホスフアイト結合方法を充分に改
良していることを意味する。なお、上記先行技術
においては、望ましくない（3′―3′）ジヌクレオ
シドホスフアイトの存在は不可避である。 アミノホスホルアミダイト〜を3′―Ｏ―保
護ヌクレオシドと縮合し、ヌクレオチド間結合を
生成した。ホスホルアミダイトをアミン塩酸塩あ
るいはテトラゾールのような弱酸で活性化した。 Ａ 次の手順により、 31P―N.M.R.を用いてプ
ロセスを追跡した。10mmのN.M.R.管中で、0.5
mlの乾燥CDCl3中のジメチルアニリン塩酸塩
（１ミリモル）を、２mlの乾燥無酸CDCl3中の
アミダイト化合物Ｉ（0.5ミリモル、−147.7およ
び−146.8ppm）に室温およびN2下で加えるこ
とにより混合物を生成し、この混合物に1.2モ
ル当量の3′―Ｏ―レブリニルチミジンおよびコ
リジンを加え、ジヌクレオシドホスフアイト
ａ（−140.8および−139.9ppm）を実質上定量
的な収率で得た。 Ｂ アミダイト化合物（0.5ミリモル）および
3′―Ｏ―レブリニルチミジン（0.6ミリモル）
を10mmN.M.R.管内に入れ、さらに2.5mlの乾燥
アセトニトリル−d3中の昇華した1H―テトラ
ゾール（1.5モル）を窒素雰囲気中で加えた。
31P―N.M.R.スペクトルを直ちに記録し、ａ
の定量収率を表示した。同様に、化合物、
およびを3′―レブリニルチミジンと反応さ
せ、第表に示されている化合物ａ、ａお
よびａを生成してジヌクレオシドを得た。５
％ｖ／vH3PO4水溶液内部標準に対する化合物
―およびａ―ａの適切な化学シフト
は、第表に記載する
【表】 実施例 ２ クロロ―Ｎ，Ｎ―２置換アミノメトキシホスフ
インの他の製法31.59ｇのＮ，Ｎ―ジメチルアミ
ノトリメチルシラン（42.1ml、0.27モル）を50ml
滴下漏斗に入れ、このシランを250mlの丸底フラ
スコ中の25mlの冷（−15℃）メトキシジクロロホ
スフイン（35.15ｇ、0.27モル）に窒素雰囲気下
で１時間にわたつて滴下した。添加中に、白色の
未確認沈殿物が生成した。添加終了後、氷―アセ
トン浴を取外し、懸濁液を室温で１時間撹拌し
た。次に、長さ30cm（１フイート）の真空ジヤケ
ツト付ガラスらせん〔2.4mm（３／32″）〕カラム
に通して、反応混合物をゆつくり真空蒸留した。
生成物を40〜42℃／13mmHgにおいて留出し、か
つ81％の収率（30.77ｇ、0.22モル）で単離した。
d25＝1.115ｇ／ml。 31P―N.M.R.＝（５％H3PO4
水溶液の内部標準に対して）−179.5ppm
（CDCl3）。 1H―N.M.R二重線3.8および
3.6ppmJP-4＝14Hz（3H、OCH3）および２つの
単一線2.8および2.6ppm（6H、Ｎ（CH3）2）。質量
スペクトルはｍ／ｅ＝141において親ピークを示
した。C3H9ClNOPの分析計算値：Ｃ、24.45；
Ｈ、6.42；Ｎ、9.90；Ｏ、11.30；Ｐ、21.88、実
験値：Ｃ、24.53；Ｈ、6.20；Ｎ、10.04；Ｏ、
11.08；Ｐ、21.44 上記方法は、クロロ―Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノ
メトキシホスフインおよびクロロピロリジノーメ
トキシホスフインの製造に良好に適用された。 実施例 ３ ポリマー保持体上におけるデオキシオリゴヌク
レオチドの合成には、ホスホルアミダイト〜
を利用する。即ち、シリカゲルに共有結合したＮ
―２―イソブチリルデオキシグアノシンに化合物
〜を縮合させる。例えば、3′の位置でシリカ
ゲル（20mg）に共有結合したＮ―２―イソブチリ
ルデオキシグアノシン（１マイクロモル）、化合
物Ｉ（10マイクロモル）および1H―テトラゾール
（0.1mlの乾燥アセトニトリル中の50マイクロモ
ル）を20分間振盪し、次に反応物を水性ルチジン
で急冷した。同様な反応方法を化合物、およ
びに対して行つた。通常の酸化および脱保護基
操作の後、ｄ（TpG）、ｄ（CpG）、ｄ（ApG）およ
びｄ（GpG）を、それぞれ100％、98％、94％お
よび93％の収率で得た（498mmにおける７×104の
吸光度を用いてジメトキシトリチルカチオンから
分光計により測定した）。これらジヌクレオチド
を蛇毒ホスホジエステラーゼにより完全に消化
し、適切なヌクレオシドおよびヌクレオチドを望
ましい割合で得た（蛇毒ホスホジエステラーゼ水
解物の高圧液体クロマトグラフイー分析により確
認した）。 次のデオキシヌクレオチドは、この方法を用い
て合成されたものである： ｄ(C‐T‐C‐A‐A‐A‐T‐G‐G‐G‐T‐C) ｄ(C‐C‐A‐C‐A‐A‐A‐C‐C‐C) ｄ(A‐A‐A‐T‐G‐C‐G‐A‐C‐C‐C‐A) ｄ(A‐G‐C‐T‐A‐T‐G‐G‐G‐T‐T‐T) ｄ(T‐T‐T‐G‐A‐G‐C‐C‐A‐A‐C‐A) ｄ(T‐T‐A‐G‐C‐T‐C‐A‐C‐T‐C‐A) ｄ(T‐C‐A‐T‐C‐C‐T‐G‐T‐T‐G‐G) ｄ(T‐T‐A‐G‐G‐C‐A‐C‐C‐C) ｄ(G‐G‐G‐C‐C‐G‐A‐A‐T‐T‐G‐T) ｄ(C‐A‐G‐G‐C‐T‐T‐T‐A‐C‐A) ｄ(C‐G‐G‐C‐C‐C‐C‐T‐T‐A‐C‐T) ｄ(C‐T‐T‐T‐A‐T‐G‐C‐T‐T‐C) ｄ(T‐C‐C‐T‐C‐A‐A‐G‐T‐A‐A‐G) ｄ(C‐G‐G‐C‐T‐C‐G‐T‐A) ｄ(T‐G‐A‐G‐G‐A‐T‐A‐A‐A‐T‐T) ｄ(T‐G‐T‐A‐C‐T‐A‐A‐G) ｄ(A‐T‐G‐T‐G‐T‐G‐A‐T‐T‐T‐A) ｄ(G‐A‐G‐G‐T‐T‐G‐T‐A‐T‐G) ｄ(G‐T‐G‐G‐T‐A‐A‐A‐T‐C‐A) ｄ(T‐A‐C‐A‐T‐G‐C‐A‐A) 実施例 ４ 乾燥THF（３ml）中の5′―Ｏ―DMT―Ｎ―ベ
ンゾイルデオキシアデノシン〔DMT rd（bzA）〕
（0.66ｇ、１ミリモル）を、−78℃においてメチル
ジクロロホスフアイト（0.113ml、1.2ミリモル）
および２，４，６―トリメチルピリジン（0.633
ml、4.8ミリモル）含むTHF（３ml）の撹拌溶液
にアルゴン雰囲気中で滴下した。−78℃で10分間
保持した後、反応溶液を焼結ガラス過器により
過し、溶媒を真空濃縮により除去した。生成し
たガム質をトルエン：THF（２ml、２：１）中で
溶解することにより、過剰のメチルホスホジクロ
リダイトを除去し、真空中で再蒸発しガム状にし
た。ジクロリダイトの除去を確実にするため、こ
の方法を数回くり返した。ヌクレオシドホスホモ
ノクロリダイトをテトラゾライドに変換した。最
終再蒸発から生じるガムをTHF（２ml）中に溶解
した。次に、選ばれた第２アミン（0.9ミリモル）
のTHF（２ml）溶液をヌクレオシドホスホモノク
ロリダイトに撹拌しながら−78℃で滴下した。−
78℃で10分間経過した後、溶液を遠心管に移し、
低速度で回転させ、上澄液を除去した。この溶液
は活性ヌクレオシドホスホルアミダイトを含んで
いる。直ちに使用しない場合には、このホスホル
アミダイトを乾燥ペンタン中に滴下して沈殿さ
せ、次にこの沈殿を集め、真空中で乾燥させ、室
温あるいはそれ以下の温度、例えば０℃で、アル
ゴンあるいは他の不活性ガスを入れた密封管中に
おいて長期間保存することができる。すべての操
作は酸化を避けるために不活性ガス中で行なう。
瞬時たりとも活性試薬を空気にさらしてはならな
い。 上記操作は、活性チミジン、デオキシシチジ
ン、およびデオキシアデノシンヌクレオチドの製
造に適用できる。活性デオキシグアノシンヌクレ
オチドの製造の場合、使用量以外の操作は同じで
ある。5′―Ｏ―DMT―Ｎ―イソブチリルデオキ
シグアノシン〔DMT rd（ibG）〕：メチルジクロ
ロホスフアイト：２，４，６―トリメチルピリジ
ン：テトラゾールのモル比は、１：0.9：3.8：0.7
である。変性シリカゲルポリマー保持体に１つの
ヌクレオチドを添加するために必要な工程は次の
通りである。ジメトキシトリチル基は、0.1Mの
ZnBr2を含むニトロメタンに変性シリカゲル保持
体を15〜30分間さらすことによりヌクレオチドか
ら除去する。次に、最初ブタノール：２，６―ル
チジン：THF（容量で４：１：５）で、最後に
THFで保持体を洗浄する。溶媒比は重要ではな
い。なぜならば、この工程はヌクレオシドの亜鉛
エステルを除去するために利用するからである。
この工程は省略できる収率が低下する。ZnBr2の
代りに、BF3、AlCl3およびTiCl4のような他のル
イス酸も使用できる。しかしながら、ZnBr2が好
ましい。プロチン酸もまた使用することができ
る。しかしながら、ジメトキシトリチル基を除去
するのに必要な最小限の量まで酸の量を減少させ
ても、プロチン酸による各プリンの脱プリン化は
約３〜５％の割合であつた。この製法の次の工程
は、保持体に共有結合したヌクレオシドあるいは
オリヌクレオチドに対する保護され活性化された
ヌクレオチドの縮合である。この縮合は、10〜15
当量の活性ホスホルアミダイトおよび約１時間の
反応時間により達成することができる。溶媒は無
水THFである。工程の次の段階は、未反応5′―
水酸基の保護である。これは無水酢酸、ジメチル
アミノピリジン、ピリジンおよびTHFの溶液を
使用して行なわれる。この段階は、また0.33モル
ジエチルモノトリアゾロホスフアイトの２，６―
ルチジン／THF（容量で１：５）溶液を用いて行
なう。反応時間は５分であり、その後THFによ
る洗浄を行なう。他の態様としては、フエニルイ
ソシアネート／ルチジン（容量で45：55）の溶液
を用い、90分の反応時間でこの工程を実施する。
次に、この溶液を、THFおよびアセトニトリル
で保持体を洗浄することにより変性シリカゲルか
ら除去する。最初に述べた方法の方が好ましい。
この工程は省略することができ、あるいは5′―水
酸基と反応しかつ全く化学的に矛盾のない他の試
薬を用いることができる。しかしながら、この工
程を実施することにより、所望のオリゴヌクレオ
チドの最終精製は非常に容易になる。このこと
は、保持体に結合した全合成物質の複雑な状態が
著しく減少するからである。各サイクルにおける
最終段階はホスフアイトをホスフエートに酸化す
ることである。0.1モル2組成〔水／２，６―ル
チジン／THF（１：13）〕は好ましいけれども、
他の混合比を用いることもできる。さらに、Ｎ―
クロロスクシンイミドあるいはアリールあるいは
アルキル過酸化物、例えば過酸化ｔ―ブチルのよ
うな他の酸化剤もまた使用できる。所定の連続工
程における適切な活性ヌクレオチドの添加後、デ
オキシオリゴヌクレオチドを塩基性加水分解によ
つて保持体から除去し、また保護基が存在する場
合、その保護基は、選択的に、即ち段階的に、あ
るいは水酸化アンモニウム中で50℃の温度で加熱
するような全体的な加水分解処理により除去でき
る。R1がメチル基である場合、保持体からオリ
ゴヌクレオチドを除去する前に、チオフエノール
で処理することにより上記メチル基を除去する。 実施例 ５ クロロトリアリールメタンの一般的合成法 この一連の化合物の合成においては、各グリニ
ヤール試薬用に２つのタイプの基質がある。即ち
(1)グリニヤール試薬の１当量を要求するジアリー
ルケトン、即ちベンゾフエノン、および(2)２当量
を要求するアリールカルボン酸のエステル。次に
前者について述べる。後者のタイプの反応に対し
ては、適切な調整が必要である。
【表】 マグネシウム、臭化アリールおよびエーテルを
1000mlの丸底フラスコ中で混合する。ヨウ素を加
える。臭化アリールマグネシウムの生成を開始さ
せるためには、ガラス棒でマグネシウムを砕くこ
とが必要である。〔注：ワーリングブレンダーを
使用してマグネシウムを粉砕することも、また反
応の進行を助ける。〕反応が開始すると、外部か
ら加熱することなしに、エーテルが沸騰を終える
まで還流を続ける。ジアリールケトンのエーテル
溶液を撹拌しながら加える。反応は一晩続ける。
この時点で、エーテル：ヘキサンが１：１の薄層
クロマトグラフイー（tlc）によつて反応物を分
析する。生成物のRfはおよそ0.7になる。 反応が充分に進行したならば、反応物を10％
（ｗ／ｖ）硫酸アンモニウムで急冷する。生成物
を300mlのトルエンで４回抽出する。抽出物を硫
酸ナトリウム上で乾燥しできるだけ蒸発させる。
濃縮された有機相を真空中で一晩乾燥する。この
時点で、生成物が晶出する。生成物のトリメタノ
ールを漏斗内に集め、ヘキサンで洗浄する。 トリメタノールを100mlのトルエン中に入れる。
200ミリモルの塩化アセチルを加える。300mlのヘ
キサンを加える。生成物を−20℃で一晩再結晶さ
せる。結晶を集め、ヘキサンで洗浄し、さらに真
空中で乾燥する。 塩化トリチルの反応性を測定するために、その
少量を水および溶媒としてのトルエン含有のｎ―
ブタノール中で急冷する。３：１のヘキサン：エ
ーテルを用い薄層液体クロマトグラフイーによつ
て、試料を分析する。トリチルブチルエーテルは
およそ0.8のRfを示し、一方トリメタノールはお
よそ0.4のRfを示す。 この方法を用いて、第表に示す種々のアルコ
ールを製造した。 トリアリールメチルクロリドのいくつかを、好
適に保護されたデオキシヌクレオシドの5′水酸基
と縮合させた。これらの化合物は第表および第
表に示されている。注意深く制御した条件を使
用して、5′―トリアリールメチルデオキシヌクレ
オシドをプロチン酸およびルイス酸で処理した。
これらの試験の結果も第表および第表に記載
されている。これらの結果は、酸性溶液中で異な
る色を呈するいくつかのトリアリールメチル基が
ZnBr2の存在でほぼ同じ速度で加水分解されるこ
とを表わしている。これら速度はプロチン酸の場
合に一層変化し易い。
【表】 ポリマー保持体に共有結合した生成オリゴヌク
レオチドにモノヌクレオチドをくり返し添加する
場合、種々の色で符号化したトリアリールメチル
基をほぼ同じ速度で加水分解することが好まし
い。あるいは、各添加サイクルを人手で行なうな
らば、個々々にモニターしなければならず、ある
いは上記サイクルを機械で行なうならば、独立し
てプログラム化しなければならない。ZnBr2によ
る加水分解速度は同じであるので、第表に概説
された結果は、第表に示したトリアリールメチ
ルアルコールのすべてではないがその殆どを色符
号化保護基として合成方法に利用することができ
るということを示している。
【表】
【表】
【表】 色符号化デオキシヌクレオチドホスホルアミダ
イトを使用して、４種のデオキシオリゴヌクレオ
チドを合成した。化合物はｄ(G‐T‐A‐T‐A‐A‐
Ｃ‐Ａ‐Ｃ）、ｄ(C‐A‐T‐A‐A‐A‐G‐A‐A‐A‐A‐
A)、
ｄ(G‐T‐A‐C‐A‐G‐C‐T‐G‐G‐C‐T)およびｄ(C‐
Ｃ‐Ｃ‐Ｔ‐Ｔ‐Ｔ‐Ｃ‐Ｔ‐Ｔ‐Ａ‐Ａ‐Ａ）であつ
た。異なつ
たトリアリールメチル基で各デオキシヌクレオチ
ドの5′―水酸基を保護した。デオキオリゴヌクレ
オチドの合成に用いたこれらの基を第表に示
す。
【表】 例えば、Ｎ―ベンゾイルデオキシアデノシン、
Ｎ―ベンゾイルデオキシシチジン、Ｎ―イソブチ
リルデオキシグアノシンおよびデオキシチミジン
の5′―トリアリールメチル基は、ルイス酸あるい
はプロチン酸にさらされると、それぞれ黄、青、
橙、および赤の色を呈する。これらのトリアリー
ルメチルデオキシヌクレオシドヌクレオチを、こ
の明細書に記載したような方法で合成した。適切
な5′―Ｏ―トリアリールメチルおよびデオキシヌ
クレオシド―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシホ
スフインへの変換は実施例６の方法を用いて行な
つた。 実施例 ６ 5′―トリアリールメチルデオキシヌクレオシド
の一般的合成 ５ミリモルのＮ―保護デオキシヌクレオシドあ
るいはチミジンを50mlの乾燥ピリジン中に溶解し
た。試料を真空中で蒸発し、ガム状にした。25ml
の乾燥ピリジンを加えた。６ミリモルの塩化トリ
アリールメチルを加えた。反応混合物を一晩振盪
した。メタノール：クロロホルム（１：９）の溶
液中で反応をモニターした。生成物は0.5のRfを
有しかつ未反応のデオキシヌクレオシドは0.2の
Rfを有する。反応物を５mlの無水メタノールで
急冷した。 30分後、反応混合物を小容量に濃縮し、酢酸エ
チルに吸収させ、さらに水で１回抽出した。有機
相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮してガム状
にした。10mlのトルエンを加え、さらに蒸発させ
た。 次に、反応混合物をクロロホルム中に吸収さ
せ、１％ピリジン含有クロロホルムを平衡させた
シリカゲルカラム（５cm×20cm）に導入した。化
合物をカラムに装填した後、カラムを１％ピリジ
ン含有クロロホルムで洗浄した。３〜６％のメタ
ノールで化合物をカラムから溶出した。所望の生
成物を含む留分を集め、濃縮して泡状とし、クロ
ロホルム中に吸収させ、さらにヘキサン中に沈殿
させた。 沈殿物をブフナー漏斗内に集め、真空中で乾燥
した。平均収率は85重量％であつた。 第表に略示したような官能基を有する5′―ト
リアリールメチルデオキシヌクレオシドを、実施
例１に従つてクロロ―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメ
トキシホスフインに結合した。実施例４の方法を
用いて、デオキシオリゴヌクレオチドの合成の中
間体として5′―トリアリールメチルデオキシヌク
レオシド―3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシ
ホスフインを使用した。従つて、ｄ（Ｇ―Ｔ―Ａ
―Ｔ―Ａ―Ａ―Ｃ―Ｔ―Ａ―Ｃ―Ａ―Ｃ）の合成
は、3′―ヒドロキシルによつてシリカゲルに共有
結合したＮ―ベンゾイルデオキシシチジンから開
始した。次の工程は5′―Ｏ―ｐ―トリルジフエニ
ルメチル―Ｎ―ベンゾイル―デオキシアデノン―
3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシホスフイン
との縮合である。アシル化および酸化の後、ニト
ロメタン：メタノール（19：１）のZnBr2飽和溶
液を用いて、脱トリチル化反応を行つた。Ｎ―ベ
ンゾイルデオキシアデノシンの添加を表示する黄
色を観察した。残りのヌクレオシドを同様な方法
で加えた。各脱トリチル化段階中、次の連続順序
で色採が観察された。即ち、青、黄、赤、青、
黄、黄、赤、黄、赤および橙。期待した色が表わ
れ、デオキシオリゴヌクレオチドが正確に合成さ
れたことを確認した。デオキシオリゴヌクレオチ
ドの精製は、逆相高性能液体クロマトグラフイー
およびポリアクリルアミドゲルの電気泳動により
行なつた。特性決定は二次元連続分析により行な
つた。〔サンガー（Sanger）、ドネルソン
（Donelson）、コウルソン（Coulson）、コツセル
（Kossel）およびフイツシヤー（Fischer）共著、
プロシーデイングス・オブ・ナシヨナル・アカデ
ミー・オブ・サイエンス（Proc.Natl.Acad.Sci.）
USA、70巻、1973年、1209〜1213頁〕。この分析
結果から、比色結果によつて表示されているよう
に正確なデオキシオリゴヌクレオチドが合成され
たことを再確認した。他の３つのデオキシオリゴ
ヌクレオチドを合成し、かつ同様にして特性決定
を行つた。 ４つの列挙したオリゴデオキシヌクレオチドの
合成に関して、使用したシリカゲルの量およびシ
リカゲル保持体に結合したヌクレオシドの選択に
ついては第表に要約されている。
【表】 第図には、４つの列挙したオリゴデオキシヌ
クレオチドの合成に使用した5′―Ｏ―トリアリー
ルメチルヌクレオシド―3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルア
ミノメトキシホスフインの物理的パラメーターが
要約されている。
【表】 各縮合段階において、120マイクロモルの5′―
Ｏ―トリアリールメチルヌクレオチド、アセトニ
トリル、および480マイクロモルのテトラゾール
を使用した。次の段階は無水酢酸によるアシル
化、I2による酸化およびZnBr2による脱トリチル
化である。各脱トリチル化段階の後、所望のトリ
チルカチオンに対応する期待した色を観察した。 各合成終了後、次の方法によりデオキシオリゴ
ヌクレオチドを単離した。シリカゲル（30mg）に
共有結合した各デオキシオリゴヌクレオチドを、
最初チオフエノール：トリエチルアミン：ジオキ
サン（１：１：２）で90分間処理し、メタノール
で４回洗浄し、さらにジエチルエーテルで１回洗
浄した。シリカゲルを遠心分離によつて単離し、
空気乾燥した。次に、各試料をｔ―ブチルアミ
ン：メタノール（１：１）により50℃で18時間処
理した。遠心操作後に得られた上澄み液を取出
し、真空中で乾燥した。次に、シリカゲルの試料
を濃水酸化アンモニウムにより室温で３時間処理
し、シリカゲルからデオキシオリゴヌクレオチド
を除去した。ｔ―ブチルアミンの工程からの残渣
を含む試験管に上澄み液を移し、溶液を真空中で
濃縮した。新たな濃水酸化アンモニウムを乾燥残
渣に加え、溶液を50℃で22時間暖め、アミノ保護
基をデオキシオリゴヌクレオチド塩基から除去し
た。試料を真空中で濃縮し、次に各試料を20マイ
クロリツトルの水の中に溶解した。精製は逆相高
性能液体クロマトグラフイーによつて行なつた。
保持時間および溶媒条件は第表に示す。次に、
各デオキシオリゴヌクレオチドを80％酢酸により
室温で１時間処理し、トリアリールフエニルメチ
ル基を除去した。真空中での濃縮後、各試料をポ
リアクリルアミドゲルの電気泳動により精製し、
かつ正確なデオキシヌクレオチドの特性に関して
は二次元連続分析により分析した。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 次式のいずれかによつて表わされる化合物： 【式】【式】 式中、Ｂはヌクレオシドまたはデオキシヌクレ
    オシド塩基；ＡはＨ、OHまたはOR4で、R4は保
    護基；Ｒは保護基、R1は約10までの炭素原子を
    有するヒドロカルビル基；およびＸはNR2R3で
    あり、R2およびR3が個別に導入される場合には、
    それぞれ10までの炭素原子を含有するアルキル、
    アリール、アラルキル、シクロアルキルおよびシ
    クロアルキルアルキルを表わし；R2およびR3が
    共に導入される場合には主鎖中に５までの炭素原
    子を含有し、合計で10までの炭素原子を含有し、
    かつ前記主鎖の両末端原子価結合はR2およびR3
    に結合すべき窒素原子に結合したアルキレン鎖を
    生成し；R2およびR3が付いた窒素と共に導入さ
    れる場合には、窒素、酸素およびイオウの群から
    選ばれた少なくとも１つの追加のヘテロ原子を含
    有する飽和窒素複素環を生成する。 ２ 次の式で表わされる特許請求の範囲第１項に
    記載の化合物： 式中、Ｂはヌクレオシドまたはデオキシヌクレ
    オシド塩基；ＡはＨ、OHまたはOR4で、R4は保
    護基；Ｒは保護基、R1は約10までの炭素原子を
    有するヒドロカルビル基；およびＸはNR2R3で
    あり、R2およびR3が個別に導入される場合には、
    それぞれ10までの炭素原子を含有するアルキル、
    アリール、アラルキル、シクロアルキルおよびシ
    クロアルキルアルキルを表わし；R2およびR3が
    共に導入される場合には主鎖中に５までの炭素原
    子を含有し、合計で10までの炭素原子を含有し、
    かつ前記主鎖の両末端原子価結合はR2およびR3
    に結合すべき窒素原子に結合したアルキレン鎖を
    生成し；R2およびR3が付いた窒素と共に導入さ
    れる場合には、窒素、酸素およびイオウの群から
    選ばれた少なくとも１つの追加のヘテロ原子を含
    有する飽和窒素複素環を生成する。 ３ 前記Ｒがトリチル基である特許請求の範囲第
    １項または第２項に記載の化合物。 ４ 前記Ｒがジーｐ―アニシルフエニルメチル基
    である特許請求の範囲第１項または第２項に記載
    の化合物。 ５ 前記Ｒがｐ―アニシルジフエニルメチル基で
    ある特許請求の範囲第１項または第２項に記載の
    化合物。 ６ 前記Riが低級アルキル基である特許請求の
    範囲第１項または第２項に記載の化合物。 ７ 前記Ｘが、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
    ノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、メ
    チルプロピルアミノ、メチルヘキシルアミノ、メ
    チルシクロプロピルアミノ、エチルシクロヘキシ
    ルアミノ、メチルベンジルアミノ、メチルシクロ
    ヘキシルメチルアミノ、ブチルシクロヘキシルア
    ミノ、モルホリノ、チオモルホリノ、ピロリジ
    ノ、ピペリジノ、２，６―ジメチルピペリジノお
    よびピペラジノの群から選択されたもののいずれ
    かである特許請求の範囲第１項または第２項に記
    載の化合物。 ８ 前記Ｘがジ―低級アルキルアミノである特許
    請求の範囲第１項または第２項に記載の化合物。 ９ 前記Ｘがジメチルアミノである特許請求の範
    囲第８項に記載の化合物。 １０ 前記Ｘがジイソプロピルアミノである特許
    請求の範囲第７項に記載の化合物。 １１ 前記Ｘが飽和窒素複素環である特許請求の
    範囲第１項または第２項に記載の化合物。 １２ 前記窒素複素環がピペリジン、モルホリン
    またはピペラジンである特許請求の範囲第１１項
    に記載の化合物。 １３ 前記Ｂがアデニン、グアニン、シトシン、
    ウラシルおよびチミンである特許請求の範囲第１
    項または第２項に記載の化合物。 １４ 前記Ｒがジ―ｐ―アニシルフエニルメチ
    ル、Ｂが９―（Ｎ―６―ベンゾイルアデニニル）、
    R1がメチル、ＡがＨ、およびＸがジメチルアミ
    ノである特許請求の範囲第２項に記載の化合物。 １５ 前記Ｒがジ―ｐ―アニシルフエニルメチ
    ル、Ｂがチミニル、R1がメチル、ＡがＨ、およ
    びＸがジメチルアミノである特許請求の範囲第２
    項に記載の化合物。 １６ 前記Ｒがジ―ｐ―アニシルフエニルメチ
    ル、Ｂが１―シトシニル、R1がメチル、ＡがＨ、
    およびＸがジメチルアミノである特許請求の範囲
    第２項に記載の化合物。 １７ 前記Ｒがジ―ｐ―アニシルフエニルメチ
    ル、Ｂが９―（Ｎ―６―ベンゾイルアデニニル）、
    R1がメチル、ＡがＨ、およびＸがピペリジノで
    ある特許請求の範囲第２項に記載の化合物。 １８ 前記Ｒがジ―ｐ―アニシルフエニルメチ
    ル、Ｂが９―グアニニル、R1がメチル、ＡがＨ、
    およびＸがジメチルアミノである特許請求の範囲
    第２項に記載の化合物。 １９ 前記Ｒがジ―ｐ―アニシルフエニルメチ
    ル、Ｂが９―（Ｎ―６―ベンゾイルアデニニル）、
    R1がメチル、ＡがＨ、およびＸがモルホリノで
    ある特許請求の範囲第２項に記載の化合物。 ２０ 前記Ｒがジ―ｐ―アニシルフエニルメチ
    ル、Ｂがチミニル、R1がメチル、ＡがＨ、およ
    びＸがモルホリノである特許請求の範囲第２項に
    記載の化合物。 ２１ 前記Ｒがジ―ｐ―アニシルフエニルメチ
    ル、Ｂが１―シトシニル、R1がメチル、ＡがＨ、
    およびＸがモルホリノである特許請求の範囲第２
    項に記載の化合物。 ２２ 前記Ｒがジ―ｐ―アニシルフエニルメチ
    ル、Ｂが９―グアニニル、R1がメチル、ＡがＨ、
    およびＸがモルホリノである特許請求の範囲第２
    項に記載の化合物。 ２３ 前記Ｂが１―（Ｎ―４―アセチルシトシ
    ン）、１―（Ｎ―４―ベンゾイルシトシン）また
    は１―（Ｎ―４―イソブチリルシトシン）である
    特許請求の範囲第１６項に記載の化合物。 ２４ 前記Ｂが９―（Ｎ―６―ベンゾイルグアニ
    ニル）、９―（Ｎ―６―アセチルグアニニル）ま
    たは９―（Ｎ―６―イソブチリルグアニニル）で
    ある特許請求の範囲第１８項に記載の化合物。 ２５ 前記Ｂが９―（Ｎ―６―アセチルアデニニ
    ル）または９―（Ｎ―６―イソブチリルアデニニ
    ル）である特許請求の範囲第１４項に記載の化合
    物。 ２６ 前記Ｂが９―（Ｎ―６―アセチルアデニニ
    ル）または９―（Ｎ―６―イソブチリルアデニニ
    ル）である特許請求の範囲第１７項に記載の化合
    物。 ２７ 前記Ｒがトリアリールメチル保護基である
    特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ２８ 前記トリアリールメチル保護基がトリチル
    基である特許請求の範囲第２７項に記載の化合
    物。 ２９ 前記トリアリールメチル保護基がジ―ｐ―
    アニシルフエニルメチルである特許請求の範囲第
    ２７項に記載の化合物。 ３０ 前記トリアリールメチル保護基がｐ―アニ
    シル―１―ナフチルフエニルメチルである特許請
    求の範囲第２７項に記載の化合物。 ３１ 前記トリアリールメチル保護基がジ―Ｏ―
    アニシル―１―ナフチルメチルである特許請求の
    範囲第２７項に記載の化合物。 ３２ 前記トリアリールメチル保護基がｐ―トリ
    ルジフエニルメチルである特許請求の範囲第２７
    項に記載の化合物。 ３３ 前記化合物が5′―Ｏ―ジ―ｐ―アニシルフ
    エニルメチル―Ｎ―イソブチリルデオキシグアノ
    シン―3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシホス
    フインである特許請求の範囲第１項に記載の化合
    物。 ３４ 前記化合物が5′―Ｏ―ｐ―アニシル―１―
    ナフチルフエニルメチルデオキシチミジン―3′―
    Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシホスフインであ
    る特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ３５ 前記化合物が5′―Ｏ―ジ―ｏ―アニシル―
    １―ナフチルメチル―Ｎ―ベンゾイルデオキシシ
    チジン―3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシホ
    スフインである特許請求の範囲第１項に記載の化
    合物。 ３６ 前記化合物が5′―Ｏ―ｐ―トリ（toly）ジ
    フエニルメチル―Ｎ―ベンゾイルデオキシアデノ
    シン―3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシホス
    フインである特許請求の範囲第１項に記載の化合
    物。 ３７ 前記化合物が5′―Ｏ―ジ―ｐ―アニシルフ
    エニルメチル―Ｎ―イソブチリルデオキシグアノ
    シン―3′―Ｎ，Ｎ―モルホリノメトキシホスフイ
    ンである特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ３８ 前記化合物が5′―Ｏ―ｐ―アニシル―１―
    ナフチルフエニルメチルデオキシチミジン―3′―
    Ｎ，Ｎ―モルホリノメトキシホスフインである特
    許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ３９ 前記化合物が5′―Ｏ―ジ―ｏ―アニシル―
    １―ナフチルメチル―Ｎ―ベンゾイルデオキシシ
    チジン―3′―Ｎ，Ｎ―モルホリノメトキシホスフ
    インである特許請求の範囲第１項に記載の化合
    物。 ４０ 前記化合物が5′―Ｏ―ｐ―トリ（toly）ジ
    フエニルメチル―Ｎ―ベンゾイルデオキシアデノ
    シン―3′―Ｎ，Ｎ―モルホリノメトキシホスフイ
    ンである特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ４１ 前記化合物が5′―Ｏ―ジ―ｐ―アニシルフ
    エニルメチル―Ｎ―アセチルデオキシグアノシン
    ―3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシホスフイ
    ンである特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ４２ 前記化合物が5′―Ｏ―ｐ―アニシルフエニ
    ルメチル―Ｎ―ベンゾイルデオキシグアノシン―
    3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシホスフイン
    である特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ４３ 前記化合物が5′―Ｏ―ジ―ｏ―アニシル―
    １―ナフチルメチル―Ｎ―アセチルデオキシシチ
    ジン―3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシホス
    フインである特許請求の範囲第１項に記載の化合
    物。 ４４ 前記化合物が5′―Ｏ―ジ―ｏ―アニシル―
    １―ナフチルメチル―Ｎ―イソブチリルデオキシ
    シチジン―3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシ
    ホスフインである特許請求の範囲第１項に記載の
    化合物。 ４５ 前記化合物が5′―Ｏ―ｐ―トリ（toly）ジ
    フエニルメチル―Ｎ―アセチルデオキシアデノシ
    ン―3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシホスフ
    インである特許請求の範囲第１項に記載の化合
    物。 ４６ 前記化合物が5′―Ｏ―ｐ―トリ（toly）ジ
    フエニルメチル―Ｎ―イソブチリルアデノシン―
    3′―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノメトキシホスフイン
    である特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ４７ 前記化合物が5′―Ｏ―ジ―ｐ―アニシルフ
    エニルメチル―Ｎ―アセチルデオキシグアノシン
    ―3′―Ｎ，Ｎ―モルホリノメトキシホスフインで
    ある特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ４８ 前記化合物が5′―Ｏ―ジ―ｐ―アニシルフ
    エニルメチル―Ｎ―ベンゾイルデオキシグアノシ
    ン―3′―Ｎ，Ｎ―モルホリノメトキシホスフイン
    である特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ４９ 前記化合物が5′―Ｏ―ジ―ｏ―アニシル―
    １―ナフチルメチル―Ｎ―イソブチリルデオキシ
    シチジン―3′―Ｎ，Ｎ―モルホリノメトキシホス
    フインである特許請求の範囲第１項に記載の化合
    物。 ５０ 前記化合物が5′―Ｏ―ジ―ｏ―アニシル―
    １―ナフチルメチル―Ｎ―アセチルデオキシシチ
    ジン―3′―Ｎ，Ｎ―モルホリノメトキシホスフイ
    ンである特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ５１ 前記化合物が5′―Ｏ―ｐ―トリ（toly）ジ
    フエニルメチル―Ｎ―アセチルデオキシアデノシ
    ン―3′―Ｎ，Ｎ―モルホリノメトキシホスフイン
    である特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ５２ 前記化合物が5′―Ｏ―ｐ―トリ（toly）ジ
    フエニルメチル―Ｎ―イソブチリルデオキシアデ
    ノシン―3′―Ｎ，Ｎ―モルホリノメトキシホスフ
    インである特許請求の範囲第１項に記載の化合
    物。
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