JPS63303825A - 原料供給装置 - Google Patents
原料供給装置Info
- Publication number
- JPS63303825A JPS63303825A JP13736987A JP13736987A JPS63303825A JP S63303825 A JPS63303825 A JP S63303825A JP 13736987 A JP13736987 A JP 13736987A JP 13736987 A JP13736987 A JP 13736987A JP S63303825 A JPS63303825 A JP S63303825A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- tank
- flow rate
- vaporization
- divided
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002994 raw material Substances 0.000 title claims abstract description 67
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims abstract description 18
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 13
- 238000010926 purge Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000004941 influx Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、液体原料を気化し、反応装置に送って所要の
反応を行わせるために用いられる原料供給装置に関する
ものである。
反応を行わせるために用いられる原料供給装置に関する
ものである。
従来の技術
光フアイバー用母材の製造においては１つの反応装置に
複数の多重管バーナを有するものが普通であり、これら
各バーナには原料を別々に供給しなければならず、この
場合は、原料タンクを格別に所要数備える必要から装置
全体は大型となり製造コストが高価となる不利がある。
複数の多重管バーナを有するものが普通であり、これら
各バーナには原料を別々に供給しなければならず、この
場合は、原料タンクを格別に所要数備える必要から装置
全体は大型となり製造コストが高価となる不利がある。
そのためできる限り簡略化を計った装置として次のよう
なものが使用されている。このものは、第４図に示すよ
うに、全体は１つの恒温槽ａに収容されているとともに
、原料タンクｂは多孔板により内部を上下室に区画され
下半部をヒーターを巻装した気化タンク部分ｄ、上半部
をドーム状の緩衝タンク部分に形成されている。この緩
衝タンク部分ｅの頂部は自動開閉弁ｆ、自動開閉弁ｇを
介して一方側をパージガスの管路りに接続され、他方側
は複７数列に分岐し′乙それぞれ質量流量制御装置ｉ−
１、自動開閉弁」・ｊを介して反応装置各所要のバーナ
に接続されている。次に下室である原料タンク部分すは
、調節弁ｋを介して原料液供給の管路１に接続されてお
り、この調節弁には荷重変換器ｍの検知により原料タン
クｂの重量が一定以下になると自動的に開かれ原料液を
供給するようになっている。そして原料液の送出にはガ
スによる圧送方式がとられている。なお、ｎは気化タン
クｂ内の液温をヒーターＣと連動して一定に保つための
測温センサー、ｐは原料タンクのドレインである。
なものが使用されている。このものは、第４図に示すよ
うに、全体は１つの恒温槽ａに収容されているとともに
、原料タンクｂは多孔板により内部を上下室に区画され
下半部をヒーターを巻装した気化タンク部分ｄ、上半部
をドーム状の緩衝タンク部分に形成されている。この緩
衝タンク部分ｅの頂部は自動開閉弁ｆ、自動開閉弁ｇを
介して一方側をパージガスの管路りに接続され、他方側
は複７数列に分岐し′乙それぞれ質量流量制御装置ｉ−
１、自動開閉弁」・ｊを介して反応装置各所要のバーナ
に接続されている。次に下室である原料タンク部分すは
、調節弁ｋを介して原料液供給の管路１に接続されてお
り、この調節弁には荷重変換器ｍの検知により原料タン
クｂの重量が一定以下になると自動的に開かれ原料液を
供給するようになっている。そして原料液の送出にはガ
スによる圧送方式がとられている。なお、ｎは気化タン
クｂ内の液温をヒーターＣと連動して一定に保つための
測温センサー、ｐは原料タンクのドレインである。
発明が解決しようとする問題点
上記第４図に示した装置は、多孔板を介して区画形成さ
れた緩衝タンク部分ｅにおいて原料ガスが、突沸液化等
により液体の状態で流出するのを防止し、質量流量制御
装置の制御を安定化させる働きを有するが、しかし上記
の自動開閉弁ｊ−ｊの別個のタイミングで作動させて供
給を行う場合等、発生する？！、激な一次圧の変動を完
全に抑止することはできない。これを解決するために緩
衝タンク部分ｅの容量を特に大きくしたり、緩衝タンク
を各ライン別々とする発明も近年なされている（例えば
特開昭６１−２５４２４２号公報）。しかし、この−人
工の急激な変動を完全におさえるために結果的には多数
個のタンク及びそれに付随した装置な要する状態となる
欠点がある。
れた緩衝タンク部分ｅにおいて原料ガスが、突沸液化等
により液体の状態で流出するのを防止し、質量流量制御
装置の制御を安定化させる働きを有するが、しかし上記
の自動開閉弁ｊ−ｊの別個のタイミングで作動させて供
給を行う場合等、発生する？！、激な一次圧の変動を完
全に抑止することはできない。これを解決するために緩
衝タンク部分ｅの容量を特に大きくしたり、緩衝タンク
を各ライン別々とする発明も近年なされている（例えば
特開昭６１−２５４２４２号公報）。しかし、この−人
工の急激な変動を完全におさえるために結果的には多数
個のタンク及びそれに付随した装置な要する状態となる
欠点がある。
本発明は、このような従来の緩衝タンクを用いた装置の
欠点を克服し、単一の原料タンクを用い、しかも供給原
料の制御を安定に行いうる原料供給装置を提供すること
を目的としてなされたものである。
欠点を克服し、単一の原料タンクを用い、しかも供給原
料の制御を安定に行いうる原料供給装置を提供すること
を目的としてなされたものである。
問題点を解決するための手段
本発明者らは、液体原料を気化して反応装置に供給する
ための効率のよい原料供給装置を開発するために鋭意研
究を重ねた結果、原料タンク内を′上下に区画して上部
を緩衝タンク部分に形成するとともに原料タンク全体を
予め仕切壁を介して数個の独立した室に縦割して、これ
らの室の上部がそれぞれ独立した緩衝タンク部分となる
構造とすればよいことを見出し、この知見に基づいて本
発明をなすに至った。
ための効率のよい原料供給装置を開発するために鋭意研
究を重ねた結果、原料タンク内を′上下に区画して上部
を緩衝タンク部分に形成するとともに原料タンク全体を
予め仕切壁を介して数個の独立した室に縦割して、これ
らの室の上部がそれぞれ独立した緩衝タンク部分となる
構造とすればよいことを見出し、この知見に基づいて本
発明をなすに至った。
すなわち、本発明は原料液を、下半部を気化タンク部分
、上半部を緩衝タンク部分に分割形成された原料タンク
に収容して加熱気化し、気化された原料ガスを開閉弁お
よび流量制御機構を介して反応装置に導く配管を備えた
装置において、上記原料タンクは、密閉円筒容器の内部
を下端が相互に連通する縦方向の仕切壁により複数個の
区画室に分割するとともに、この仕切壁を水平に横切る
多孔板を介して分割され、それぞれ複数個の緩衝タンク
部分および気化タンク部分に形成されている原料供給装
置を提供するものである。
、上半部を緩衝タンク部分に分割形成された原料タンク
に収容して加熱気化し、気化された原料ガスを開閉弁お
よび流量制御機構を介して反応装置に導く配管を備えた
装置において、上記原料タンクは、密閉円筒容器の内部
を下端が相互に連通する縦方向の仕切壁により複数個の
区画室に分割するとともに、この仕切壁を水平に横切る
多孔板を介して分割され、それぞれ複数個の緩衝タンク
部分および気化タンク部分に形成されている原料供給装
置を提供するものである。
実施例
次に、本発明の装置の詳細を添付図面に従って説明する
。
。
第１図は本発明における原料タンクの一例を示す、斜視
説明図であってこの原料タンク１は、密閉円筒容器状に
作られ、内部を直径に沿う平板状の仕切壁２，２を以て
４個の流量に見合った容積の扇形状の区画室に分割形成
され、かつこれら仕切壁２，２を水平に横切る円板状の
多孔板３により上下に分割され、それぞれ４個の緩衝タ
ンク部分４・・・ならびに４個の気化タンク部分５・・
・に形成されている。
説明図であってこの原料タンク１は、密閉円筒容器状に
作られ、内部を直径に沿う平板状の仕切壁２，２を以て
４個の流量に見合った容積の扇形状の区画室に分割形成
され、かつこれら仕切壁２，２を水平に横切る円板状の
多孔板３により上下に分割され、それぞれ４個の緩衝タ
ンク部分４・・・ならびに４個の気化タンク部分５・・
・に形成されている。
この気化タンク部分５・・・内には原料タンク１を貫い
て各室ごとに設けられた棒状のヒーター６・・・、同じ
く棒状の測温センサー７・・・が位置しており、また気
化タンク部分５・・・の内の任意の一室内に原料供給管
８が開口している。これら気化タンク部分５・・・は仕
切壁２，２の下端に設けられた切欠部９・・・を介して
相互に連通しており、原料供給管８により供給された原
料液が各室に流入するようになっている。さらに、気化
タンク部分５・・・の下面にはタンク底板な介して原料
液を加熱するヒーター１０が添着されている。
て各室ごとに設けられた棒状のヒーター６・・・、同じ
く棒状の測温センサー７・・・が位置しており、また気
化タンク部分５・・・の内の任意の一室内に原料供給管
８が開口している。これら気化タンク部分５・・・は仕
切壁２，２の下端に設けられた切欠部９・・・を介して
相互に連通しており、原料供給管８により供給された原
料液が各室に流入するようになっている。さらに、気化
タンク部分５・・・の下面にはタンク底板な介して原料
液を加熱するヒーター１０が添着されている。
第２図は、上記原料タンク１を組み込んだ装置全体を系
統的に示したものであって、全体は恒温槽１１内に収め
られている。
統的に示したものであって、全体は恒温槽１１内に収め
られている。
原料導入口１２から調節弁１３を経て原料供給管８によ
り原料タンク１の気化タンク部分５・・・に導入された
原料は、各室に設けられたヒーター６・・・、測温セン
サー７・・・により加熱気化され、この原料ガスは多孔
板３の小孔を通って各気化タンク部分５ごとに上昇し、
各緩衝タンク部分４・・・に一定圧力に保たれるととも
に、これらｖｃ衝タンク部分４・・・ごとに設けられた
管路を介してそれぞれ自動開閉弁１４を経て質量流量制
御装置などの流量調節計１５に入り自動開閉弁１６及び
ガス出ロ１７を経て前記反応装置のバー六等に送られる
。
り原料タンク１の気化タンク部分５・・・に導入された
原料は、各室に設けられたヒーター６・・・、測温セン
サー７・・・により加熱気化され、この原料ガスは多孔
板３の小孔を通って各気化タンク部分５ごとに上昇し、
各緩衝タンク部分４・・・に一定圧力に保たれるととも
に、これらｖｃ衝タンク部分４・・・ごとに設けられた
管路を介してそれぞれ自動開閉弁１４を経て質量流量制
御装置などの流量調節計１５に入り自動開閉弁１６及び
ガス出ロ１７を経て前記反応装置のバー六等に送られる
。
また自動開閉弁１４と流量調節計１５との間には自動開
閉弁１８を介してパージガス導入口１９に通ずる管路が
形成されている。なお、２０は原料タンク１内の原料液
の量を計る荷重変換器であって、この荷重変換器の出力
をもとにして調節弁１３は自動的に開閉される。これら
は前記した第４図の機構と同様である。
閉弁１８を介してパージガス導入口１９に通ずる管路が
形成されている。なお、２０は原料タンク１内の原料液
の量を計る荷重変換器であって、この荷重変換器の出力
をもとにして調節弁１３は自動的に開閉される。これら
は前記した第４図の機構と同様である。
次に、第３図は第１図の変形例を示す。この実施例にお
いては原料タンク１内は複数個の同心円筒に形成された
仕切壁２・・・により区画され、さらにこれらを水平に
横切る多孔板３を介して上方を緩衝タンク部分４・・・
、下方を気化タンク部分５・・・に区画形成されている
。６・・・は原料タンクの天板お上り多孔板３を貫いて
下端が気化タンク部分５・・・内に位置するヒーターで
あり、その他の部分は第１図と同様である。
いては原料タンク１内は複数個の同心円筒に形成された
仕切壁２・・・により区画され、さらにこれらを水平に
横切る多孔板３を介して上方を緩衝タンク部分４・・・
、下方を気化タンク部分５・・・に区画形成されている
。６・・・は原料タンクの天板お上り多孔板３を貫いて
下端が気化タンク部分５・・・内に位置するヒーターで
あり、その他の部分は第１図と同様である。
発明の効果
本発明は上記の構成であって、特に原料タンク１の内部
を、仕切壁２・・・により複数個に区画するとともに、
この仕切壁２を横切る多孔板３を介して上下に分割し、
それぞれ複数個の緩衝タンク部分４・・・、原料タンク
部分５・・・を形成したから、複数の原料がスラインを
１個のタンクで同時に制御することができ、この場合１
つのタンク内を分割したため緩衝タンク部分４・・・内
における原料ブスの圧力変動が生じることがなく、個々
のラインにおける流量の相互干渉がないから安定した原
料〃大供給を持続することができる。また、従来がらの
特徴である原料液体の配管への流出も同様に防止できる
。
を、仕切壁２・・・により複数個に区画するとともに、
この仕切壁２を横切る多孔板３を介して上下に分割し、
それぞれ複数個の緩衝タンク部分４・・・、原料タンク
部分５・・・を形成したから、複数の原料がスラインを
１個のタンクで同時に制御することができ、この場合１
つのタンク内を分割したため緩衝タンク部分４・・・内
における原料ブスの圧力変動が生じることがなく、個々
のラインにおける流量の相互干渉がないから安定した原
料〃大供給を持続することができる。また、従来がらの
特徴である原料液体の配管への流出も同様に防止できる
。
したがって、本発明装置は、活性の高い加熱気化させる
液体原料の原料供給装置として好適である。
液体原料の原料供給装置として好適である。
第１図ないし第３図は本発明の実施例を示し、第１図は
原料タンクの説明斜面図、第２図はこの原料タンクを組
み込んだ系統説明図、第３図は第１図の変形例を示す説
明斜面図、第４図はそれぞれ従来の装置の系統説明図で
ある。 １・・・原料タンク、２・・・仕切壁、３・・・多孔板
、４・・・緩衝タンク部分、５・・・気化タンク部分、
６，１０・・・ヒーター、７・・・測温センサー、８・
・・原料供給管、９・・・切欠部、１１・・・恒温槽、
１２・・・原料導入口、１３・・・調節弁、１４，１６
．ＩＩ・・・自動開閉弁、１５・・・流量調節計、１７
・・・ブス出口、１９・・・パージ〃入導入口、２０・
・・荷重変換器
原料タンクの説明斜面図、第２図はこの原料タンクを組
み込んだ系統説明図、第３図は第１図の変形例を示す説
明斜面図、第４図はそれぞれ従来の装置の系統説明図で
ある。 １・・・原料タンク、２・・・仕切壁、３・・・多孔板
、４・・・緩衝タンク部分、５・・・気化タンク部分、
６，１０・・・ヒーター、７・・・測温センサー、８・
・・原料供給管、９・・・切欠部、１１・・・恒温槽、
１２・・・原料導入口、１３・・・調節弁、１４，１６
．ＩＩ・・・自動開閉弁、１５・・・流量調節計、１７
・・・ブス出口、１９・・・パージ〃入導入口、２０・
・・荷重変換器
Claims (1)
- １ 原料液を、下部を気化タンク部分、上部を緩衝タン
ク部分に分割形成された原料タンクに収容して加熱気化
し、気化された原料ガスを開閉弁および流量制御機構を
介して反応装置に導く配管を備えた装置において、上記
原料タンクは、密閉円筒容器の内部を下端が相互に連通
する縦方向の仕切壁により複数個の区画室に分割すると
ともに、この仕切壁を横切る多孔板を介して上下に分割
され、それぞれ複数個の緩衝タンク部分および気化タン
ク部分に形成されている原料供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13736987A JPH0674149B2 (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | 原料供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13736987A JPH0674149B2 (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | 原料供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63303825A true JPS63303825A (ja) | 1988-12-12 |
| JPH0674149B2 JPH0674149B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=15197071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13736987A Expired - Fee Related JPH0674149B2 (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | 原料供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0674149B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101055979B1 (ko) * | 2007-12-31 | 2011-08-11 | (주)에이디에스 | 원료 공급 장치와 원료 공급 방법 및 박막 증착 장치 |
| WO2013046517A1 (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | 株式会社フジキン | 気化器 |
| US8724974B2 (en) | 2011-09-30 | 2014-05-13 | Fujikin Incorporated | Vaporizer |
| CN105632970A (zh) * | 2014-11-13 | 2016-06-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 进气系统及半导体加工设备 |
-
1987
- 1987-05-30 JP JP13736987A patent/JPH0674149B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101055979B1 (ko) * | 2007-12-31 | 2011-08-11 | (주)에이디에스 | 원료 공급 장치와 원료 공급 방법 및 박막 증착 장치 |
| WO2013046517A1 (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | 株式会社フジキン | 気化器 |
| JP2013077710A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Tohoku Univ | 気化器 |
| US8724974B2 (en) | 2011-09-30 | 2014-05-13 | Fujikin Incorporated | Vaporizer |
| CN103858212A (zh) * | 2011-09-30 | 2014-06-11 | 株式会社富士金 | 气化器 |
| TWI474865B (zh) * | 2011-09-30 | 2015-03-01 | 國立大學法人東北大學 | Gasifier |
| CN105632970A (zh) * | 2014-11-13 | 2016-06-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 进气系统及半导体加工设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0674149B2 (ja) | 1994-09-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3241548A (en) | Submerged combustion apparatus embodying a shallow, closed, rectilinear tank and upstanding liquid separation chamber at one end thereof | |
| KR920009064B1 (ko) | 광학 예비 성형물 제조의 증기 이송 제어 방법 및 장치 | |
| KR890001122B1 (ko) | 원료액 보급장치 | |
| KR840002182Y1 (ko) | 실리콘 웨이퍼의 화학적 필름 증착장치 | |
| EP0817989B1 (en) | Method and apparatus for supplying liquid cryogen | |
| EP0498622B1 (en) | Liquid vaporizer-feeder | |
| US7730747B2 (en) | Method for vaporizing a liquid reactant in manufacturing a glass preform | |
| US20030217697A1 (en) | Liquid material evaporation supply apparatus | |
| JP3200464B2 (ja) | 液体材料気化供給装置 | |
| JPS61254242A (ja) | 原料供給装置 | |
| JPS63303825A (ja) | 原料供給装置 | |
| US4535222A (en) | Temperature control system | |
| US5440887A (en) | Liquid vaporizer-feeder | |
| US6615914B1 (en) | Programmable, heatable, coolable reaction vessel utilizing phase change refrigeration | |
| JPH0450895Y2 (ja) | ||
| JP3074871B2 (ja) | Ｃｖｄ用原料蒸発器 | |
| US3192920A (en) | Combustion apparatus and control system therefor | |
| JPS63291601A (ja) | 液体材料制御装置 | |
| US523071A (en) | Water-heater | |
| JPS62169410A (ja) | 気相成長装置 | |
| US2049949A (en) | Apparatus for producing sudoriferous vapor baths | |
| SU848510A1 (ru) | Устройство дл влажно-тепловойОбРАбОТКи шВЕйНыХ издЕлий | |
| JP3707104B2 (ja) | 原料供給装置及び原料供給方法 | |
| JPH05192501A (ja) | 液体材料気化供給装置 | |
| JPS6435476A (en) | Controller for amount of sweating |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |