JPS63307280A - 表面処理装置 - Google Patents
表面処理装置Info
- Publication number
- JPS63307280A JPS63307280A JP14096687A JP14096687A JPS63307280A JP S63307280 A JPS63307280 A JP S63307280A JP 14096687 A JP14096687 A JP 14096687A JP 14096687 A JP14096687 A JP 14096687A JP S63307280 A JPS63307280 A JP S63307280A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface treatment
- treatment liquid
- flow
- bottom plate
- inlet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はメッキ、洗浄等表面処理に用いる表面処理装置
に関する。
に関する。
従来の表面処理装置は第２同断面図に示すように槽本体
４の底板３の中央に表面処理液２の導入口１を設け、導
入口１の前面に小孔を設けた目皿板１１を置き、槽本体
４の上端面６の周囲にオーバーフロ一部５を設け、まず
導入口１から導入された加熱された表面処理２は目皿板
１１の小孔を通過して更に上昇し上端面６に達する。更
に導入口１から導入される表面処理液２の増加により上
端面６から溢れた表面処理液２は上端面６の周囲に設け
られたオーバーフロ一部５に流れ落ち戻り管１２から第
１図記載外のタンクへ戻る。前記の状態において被表面
処理物７は治具８に引掛けられて目皿板１１と上端面６
の間に投入、浸漬、引上げられることにより表面処理が
行なわれることが知られている。
４の底板３の中央に表面処理液２の導入口１を設け、導
入口１の前面に小孔を設けた目皿板１１を置き、槽本体
４の上端面６の周囲にオーバーフロ一部５を設け、まず
導入口１から導入された加熱された表面処理２は目皿板
１１の小孔を通過して更に上昇し上端面６に達する。更
に導入口１から導入される表面処理液２の増加により上
端面６から溢れた表面処理液２は上端面６の周囲に設け
られたオーバーフロ一部５に流れ落ち戻り管１２から第
１図記載外のタンクへ戻る。前記の状態において被表面
処理物７は治具８に引掛けられて目皿板１１と上端面６
の間に投入、浸漬、引上げられることにより表面処理が
行なわれることが知られている。
しかし従来の表面処理装置は被表面処理物７に対する表
面処理液２は表面処理液流９に示す通り導入口１から導
入された表面処理液２は目皿板１１のために導入口１の
真正面ばかりでなく目皿板１１全体に広がり、更に目皿
板１１の小孔を通過し上昇するが、槽、本体４に近い外
周部分は壁面流と言われている壁面に添って表面処理液
流９は順調に上昇するものの、中央部分の表面処理液流
９は上端面６付近で外側から内側へ入り込むこととなり
下降流となって目皿板１１の近くへ戻り、再度槽本体４
の壁面に添って上昇する回遊流となる。また導入口１か
らの導入量を増加又は減少させた場合は目皿板１１の小
孔から噴出する表面処理液２のスピードが速く又は遅く
なるため前記の様な壁面流、中央部分での下降流は著し
く混乱した状態となり、表面処理液流９は安定したパタ
ーンにならず槽本体４の中の表面処理液２の流速、液温
は一定にならない。このため表面処理液２として無電解
メッキ液′、エツチング液、洗浄のための酸、アルカリ
液等の場合は被表面処理物７の表面との通過速度が即品
質に影響を与えるため、メッキ厚み、エツチング深さ洗
浄のバラツキが大きくなってしまう。
面処理液２は表面処理液流９に示す通り導入口１から導
入された表面処理液２は目皿板１１のために導入口１の
真正面ばかりでなく目皿板１１全体に広がり、更に目皿
板１１の小孔を通過し上昇するが、槽、本体４に近い外
周部分は壁面流と言われている壁面に添って表面処理液
流９は順調に上昇するものの、中央部分の表面処理液流
９は上端面６付近で外側から内側へ入り込むこととなり
下降流となって目皿板１１の近くへ戻り、再度槽本体４
の壁面に添って上昇する回遊流となる。また導入口１か
らの導入量を増加又は減少させた場合は目皿板１１の小
孔から噴出する表面処理液２のスピードが速く又は遅く
なるため前記の様な壁面流、中央部分での下降流は著し
く混乱した状態となり、表面処理液流９は安定したパタ
ーンにならず槽本体４の中の表面処理液２の流速、液温
は一定にならない。このため表面処理液２として無電解
メッキ液′、エツチング液、洗浄のための酸、アルカリ
液等の場合は被表面処理物７の表面との通過速度が即品
質に影響を与えるため、メッキ厚み、エツチング深さ洗
浄のバラツキが大きくなってしまう。
更に前記の様な表面処理液流９の上昇流、下降流９回遊
流のために被表面処理物７．治具８、または上端面６か
ら表面処理液２中へ持込まれた微細なゴミ、チリ類は速
やかにオーバーフロ一部５へ排出されず槽本体４の中を
回遊するため無電解メッキ液の場合は被表面処理物７０
表面に白物となり、エツチング液の場合はエツチング残
り、洗浄の場合は異物の付着となって顕在化し、安定し
た表面処理品質が得られない。更に無電解メッキ液中の
微細なチリ、ゴミ、微粒子金属等は各々を核として金属
の析出が始まり徐々に重量を増し底板３の表面に微粒子
１０としてたい積し、無電解メッキ液の寿命を著しく短
かくする等の問題点があった。
流のために被表面処理物７．治具８、または上端面６か
ら表面処理液２中へ持込まれた微細なゴミ、チリ類は速
やかにオーバーフロ一部５へ排出されず槽本体４の中を
回遊するため無電解メッキ液の場合は被表面処理物７０
表面に白物となり、エツチング液の場合はエツチング残
り、洗浄の場合は異物の付着となって顕在化し、安定し
た表面処理品質が得られない。更に無電解メッキ液中の
微細なチリ、ゴミ、微粒子金属等は各々を核として金属
の析出が始まり徐々に重量を増し底板３の表面に微粒子
１０としてたい積し、無電解メッキ液の寿命を著しく短
かくする等の問題点があった。
そこで本発明は従来のこのような問題点を解決するため
、すくなくとも被表面処理物を浸漬する範囲内の表面処
理液流速をより一定にし、回遊流を少なくするとともに
、析出金属微細なチリ、ゴミを含む微粒子１０等を速や
かに槽本体外に排出することを目的とする。
、すくなくとも被表面処理物を浸漬する範囲内の表面処
理液流速をより一定にし、回遊流を少なくするとともに
、析出金属微細なチリ、ゴミを含む微粒子１０等を速や
かに槽本体外に排出することを目的とする。
上記問題点を解決するために本発明の表面処理装置は底
板外局部分から始まり、槽の上端面より下がった位置に
開口部を有する流路な設けたことを特徴とする。
板外局部分から始まり、槽の上端面より下がった位置に
開口部を有する流路な設けたことを特徴とする。
上記のように構成された表面処理装置の導入口から表面
処理液を導入し表面処理液が槽の上端面からオーバーフ
ローをする状態となると、底板外局部分から槽の上端面
より下がった位置に開口している流路を表面処理液が上
昇し、開口部から勢よく排液する。この排液作用により
底板部分にたい積しようとしている微細な金属粒、ゴミ
等微粒子を槽外に速やかに排出する・ことができるので
ある。
処理液を導入し表面処理液が槽の上端面からオーバーフ
ローをする状態となると、底板外局部分から槽の上端面
より下がった位置に開口している流路を表面処理液が上
昇し、開口部から勢よく排液する。この排液作用により
底板部分にたい積しようとしている微細な金属粒、ゴミ
等微粒子を槽外に速やかに排出する・ことができるので
ある。
以下に本発明の実施例を図面にもとづいて説明する。第
１図において導入口１〜戻り管１２は第２同断面図に示
す従来例と同様であるが（但し、微粒子１０は除外する
）底板３の外周部分に流路１３の入口を設け、一方の開
口部はオーバーフロ一部５をくぐり、上端部６より下の
位置とする。
１図において導入口１〜戻り管１２は第２同断面図に示
す従来例と同様であるが（但し、微粒子１０は除外する
）底板３の外周部分に流路１３の入口を設け、一方の開
口部はオーバーフロ一部５をくぐり、上端部６より下の
位置とする。
このような状態において表面処理液２を導入口１から送
給すると、その多くの表面処理液２は槽本体４の内部を
上昇するが底板３の外周部分の表面処理液２は流路１３
に入り流路１５を上昇しオーバーフロ一部５へ直接排出
される。この流路１３の開口部高さは上端部６より低い
位置に設定しであるために上端部６と開口部の高さの差
が流路１３の押上げ圧となる。したがって無電解メッキ
液中に含まれる金属微粒子、ゴミ、金属粉等は槽本体４
の内部を回遊し、更に自重で底板３に落下すると同時に
底板３に設けられた流路１３から速やかに槽本体４外に
排出されることとなる。流路１３の設置数、径、形状等
は槽本体４の大きさ、表面処理液２の供給量等により決
めなければならないが、流路１３を流れる表面処理液２
の流速を１″／又は１″／以上に設定することによりそ
ｅｃｓｅｃ の効果を十分に発揮できることとなる。
給すると、その多くの表面処理液２は槽本体４の内部を
上昇するが底板３の外周部分の表面処理液２は流路１３
に入り流路１５を上昇しオーバーフロ一部５へ直接排出
される。この流路１３の開口部高さは上端部６より低い
位置に設定しであるために上端部６と開口部の高さの差
が流路１３の押上げ圧となる。したがって無電解メッキ
液中に含まれる金属微粒子、ゴミ、金属粉等は槽本体４
の内部を回遊し、更に自重で底板３に落下すると同時に
底板３に設けられた流路１３から速やかに槽本体４外に
排出されることとなる。流路１３の設置数、径、形状等
は槽本体４の大きさ、表面処理液２の供給量等により決
めなければならないが、流路１３を流れる表面処理液２
の流速を１″／又は１″／以上に設定することによりそ
ｅｃｓｅｃ の効果を十分に発揮できることとなる。
本発明は以上説明したように、底板外周部分から始まり
檜の上端部より下がった位置に開口部を有する流路な設
けたという簡単な構造によって表面処理液流を安定した
ものとするほか、表面処理液中に混入したチリ、ゴミ、
金属粉等を槽外に速やかに排出することにより表面処理
液の劣化を防止し、更に被表面処理物の品質を向上する
効果がある。
檜の上端部より下がった位置に開口部を有する流路な設
けたという簡単な構造によって表面処理液流を安定した
ものとするほか、表面処理液中に混入したチリ、ゴミ、
金属粉等を槽外に速やかに排出することにより表面処理
液の劣化を防止し、更に被表面処理物の品質を向上する
効果がある。
第１図は本発明にかかる表面処理装置の断面図、第２図
は従来の表面処理装置の断面図である。 １・・・・・・・・・導入口 ２・・・・・・・・・表面処理液 ３・・・・・・・・・底 板 ９・・・・・・・・・表面処理液流 １３・・・・・・流 路 拓１１力
は従来の表面処理装置の断面図である。 １・・・・・・・・・導入口 ２・・・・・・・・・表面処理液 ３・・・・・・・・・底 板 ９・・・・・・・・・表面処理液流 １３・・・・・・流 路 拓１１力
Claims (1)
- 底板外周部分から始まり、槽の上端部より下がった位置
に開口部を有する流路を設けたことを特徴とする表面処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14096687A JPS63307280A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14096687A JPS63307280A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 表面処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63307280A true JPS63307280A (ja) | 1988-12-14 |
Family
ID=15280962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14096687A Pending JPS63307280A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 表面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63307280A (ja) |
-
1987
- 1987-06-05 JP JP14096687A patent/JPS63307280A/ja active Pending
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