JPS63309A - Epoxy resin composition for sealing semiconductor - Google Patents

Epoxy resin composition for sealing semiconductor

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JPS63309A
JPS63309A JP14139386A JP14139386A JPS63309A JP S63309 A JPS63309 A JP S63309A JP 14139386 A JP14139386 A JP 14139386A JP 14139386 A JP14139386 A JP 14139386A JP S63309 A JPS63309 A JP S63309A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin
resin composition
fluorocarbon
composition
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Pending
Application number
JP14139386A
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Japanese (ja)
Inventor
Kota Nishii
耕太 西井
Azuma Matsuura
東 松浦
Yukio Takigawa
幸雄 瀧川
Yoshihiro Nakada
義弘 中田
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPS63309A publication Critical patent/JPS63309A/en
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the title composition which can give a resin-sealed semiconductor device of improved reliability of moisture resistance, by incorporating therein a fluorocarbon-containing epoxy resin in addition to an epoxy resin as the principal component. CONSTITUTION:An epoxy resin composition formed by adding a fluorocarbon- containing epoxy resin to a resin composition containing an epoxy resin as the principal component. An example of a resin which is particularly useful among the fluorocarbon-containing epoxy resins is an epoxy resin of the formula 9wherein part of F atoms may be replaced by H atoms or halogen atoms). The epoxy resin of said formula can be advantageously used in an amount of 3-30wt%, based on the total weight of the composition. When this amount is below 3wt%, neither high-temperature electrical property nor moisture resistance can be improved, while when it is above 30wt%, the high-temperature electrical property and moisture resistance are impaired.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 半導体装置やその他の電子回路部品(以下、総称的に“
半導体”と呼ぶ)を封止するためのエポキシ樹脂組成物
が開示される。この本発明の封止用エポキシ樹脂組成物
は、その1成分としてフン化カーボン含有エポキシ樹脂
を含むことを特徴とする。本発明によれば、高温多湿状
態に長時間放置後も信頼性の高い電子部品を提供するこ
とができる。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] Semiconductor devices and other electronic circuit components (hereinafter collectively referred to as “
Disclosed is an epoxy resin composition for encapsulating a semiconductor (referred to as "semiconductor"). The epoxy resin composition for encapsulation of the present invention is characterized in that it contains a fluorinated carbon-containing epoxy resin as one of its components. According to the present invention, it is possible to provide an electronic component that is highly reliable even after being left in a hot and humid state for a long time.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は半導体封止用組成物に関する。本発明は、さら
に詳しく述べると、主成分としてのエポキシ樹脂に加え
て、フン化カーボン含有エポキシ樹脂を少なくとも含ん
でなる半導体封止用エポキシ樹脂組成物に関する。本発
明の封止組成物は、高密度化、高信頼度化の要求が強い
半導体装置や電子回路部品の分野において封止用樹脂と
して有利に使用することができる。
The present invention relates to a composition for semiconductor encapsulation. More specifically, the present invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, which contains at least an epoxy resin containing fluorinated carbon in addition to an epoxy resin as a main component. The encapsulating composition of the present invention can be advantageously used as a encapsulating resin in the field of semiconductor devices and electronic circuit components, where demands for higher density and higher reliability are strong.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、例えばIC,LSIなどの半導体装置やその他の
電子回路部品を封止するため、エポキシ樹脂が広く封止
用樹脂として用いられている。それというのも、エポキ
シ樹脂は、一般に、アミン類、酸無水物、フェノール樹
脂などの硬化剤を用いて硬化させると、電気的、機械的
、そして熱的にすぐれた性質を奏するようになるからで
ある。
Conventionally, epoxy resin has been widely used as a sealing resin for sealing semiconductor devices such as ICs and LSIs and other electronic circuit components. This is because epoxy resins generally exhibit superior electrical, mechanical, and thermal properties when cured using curing agents such as amines, acid anhydrides, and phenolic resins. It is.

ところで、樹脂封止されてなる電子部品が高温多湿状態
に長時間放置されると、樹脂バルク中や、樹脂とリード
線、素子との隙間を通じて、外部の水がパフケージ内部
に浸入し、素子上のアルミニウム配線、ポンディングパ
ッド部のアルミニウムを腐食し、断線をひきおこす問題
がある。このような問題の対策として、例えば、素子表
面のカップリング剤処理がある。カンプリング剤として
は、エポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、3−
グリシドキシプロビルトリメトキシシランなどが用いら
れている。あるいは、このカップリング剤処理に代えて
、素材の高純度化、樹脂の低応力化などが図られている
By the way, if electronic components sealed with resin are left in high temperature and high humidity conditions for a long period of time, water from the outside can enter the puff cage through the resin bulk and gaps between the resin, lead wires, and elements, causing damage to the elements. There is a problem in that the aluminum wiring and the aluminum in the bonding pad part corrode, causing wire breakage. As a countermeasure for such a problem, for example, there is a coupling agent treatment on the surface of the element. Camping agents include epoxysilane, methyltrimethoxysilane, 3-
Glycidoxyprobyltrimethoxysilane and the like are used. Alternatively, instead of this coupling agent treatment, efforts are being made to improve the purity of the raw material and reduce the stress of the resin.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記した対策は、しかし、高温多湿状態に長時間放置後
も信頬性の高い電子部品を提供するうえで完全とは認め
がたい。なかんずく、樹脂バルク中の透湿水、吸湿水に
対する抑制は十分とは言えない。この対策は、したがっ
て、樹脂封止型半導体装置の耐湿信頬性向上を図るうえ
で、非常に重要な課題となってきている。
However, the above-mentioned measures cannot be considered perfect in providing electronic components with high reliability even after being left in high temperature and high humidity conditions for a long time. Above all, the suppression of moisture permeable water and moisture absorption in the resin bulk cannot be said to be sufficient. Therefore, countermeasures against this problem have become a very important issue in improving the moisture resistance of resin-sealed semiconductor devices.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記した問題点は、本発明によれば、フッ化カーボン含
有エポキシ樹脂を追加的に含むことを特徴とする、エポ
キシ樹脂を主成分として有する半導体封止用エポキシ樹
脂組成物によって解決することができる。
According to the present invention, the above-mentioned problems can be solved by an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation having an epoxy resin as a main component and additionally containing a fluorocarbon-containing epoxy resin. .

本発明のエポキシ樹脂組成物において用いられるフン化
カーボン含有エポキシ樹脂は、それがフン化カーボン(
CF)n(式中のnは自然数である)を含有しかつ所期
の効果を奏する限りにおいて特に限定されるものではな
い。とりわけ有用なフン化カーボン含有エポキシ樹脂の
一例として、次式(): (式中、Fは、部分的に水素又は他のハロゲン原子で置
換されていてもよい)をあげることができる。この式(
1)のエポキシ樹脂は、組成物全量の3〜30重量%の
量で有利に使用することができる。もしもエポキシ樹脂
の量が3重量%未満であるとすると、高温電気特性も耐
湿性も向上しないであろうし、また、もしもエポキシ樹
脂の量が30重量%を土建るとすると、逆に高温電気特
性、耐湿性等が阻害されるであろう。
The fluorinated carbon-containing epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention is characterized in that it contains fluorinated carbon (
CF) n (in the formula, n is a natural number) and is not particularly limited as long as it provides the desired effect. An example of a particularly useful fluorinated carbon-containing epoxy resin is the following formula (): where F may be partially substituted with hydrogen or other halogen atoms. This formula (
The epoxy resin of 1) can be advantageously used in an amount of 3 to 30% by weight based on the total weight of the composition. If the amount of epoxy resin is less than 3% by weight, neither the high temperature electrical properties nor the moisture resistance will improve; if the amount of epoxy resin is 30% by weight, the high temperature electrical properties will not improve. , moisture resistance, etc. will be impaired.

本発明において用いられるエポキシ樹脂は通常知られて
いるものであり、特に限定されない。有利に使用しうる
エポキシ樹脂の一例として、ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂、フェノール−ノボラック型エポキシ樹脂、タレ
ゾール−ノボランク型エポキシ樹脂などのグリシジルエ
ーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ
樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、環状脂肪族型エポキシ
樹脂、複素環型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂
など、分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹
脂を挙げることができる。これらのエポキシ樹脂は、単
独で使用しても、あるいは2種以上の混合系で使用して
もよい。また、これらのエポキシ樹脂は、塩素イオンの
含有量が0.1重量%以下のものが好ましい。上記した
エポキシ樹脂群のなかでも、グリシジルエーテル型エポ
キシ樹脂がとりわけ好ましく、また、特にエポキシ当量
170〜300のノボラック型エポキシ樹脂を用いた場
合には、重合反応を進め易くかつ最もすぐれた特性を得
ることができる。
The epoxy resin used in the present invention is commonly known and is not particularly limited. Examples of epoxy resins that can be advantageously used include glycidyl ether type epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins, linear aliphatic epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resins, phenol-novolac type epoxy resins, and talesol-novolank type epoxy resins. Examples include epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule, such as cycloaliphatic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, and halogenated epoxy resins. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these epoxy resins preferably have a chlorine ion content of 0.1% by weight or less. Among the above-mentioned epoxy resin groups, glycidyl ether type epoxy resins are particularly preferred, and when novolak type epoxy resins having an epoxy equivalent of 170 to 300 are used, the polymerization reaction can proceed easily and the most excellent properties can be obtained. be able to.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記した主成分として
のエポキシ樹脂及び添加剤としてのフソ化カーボン含有
エポキシ樹脂のほか、硬化剤、好ましくはフェノール性
水酸基を有するエポキシ樹脂用硬化剤、及び硬化促進剤
を有利にかつ通常必ず含有することができる。有用な硬
化剤は、フェノール樹脂や多価フェノール化合物、具体
的にはフェノールノボラック樹脂、タレゾールノボラッ
ク樹脂などのノボラック型フェノール樹脂、クレゾール
型フェノール樹脂、ビスフェノールAなどである。この
なかでも、ノボラック型フェノール樹脂がエポキシ樹脂
と重合反応する上で最も好ましい。また、有用な硬化促
進剤は、一般に第三級アミン類、イミダゾール類、有機
ホスフィン化合物、金属キレートaなどである。このう
ち、有機ホスフィン化合物が硬化促進剤として最も有用
である。これらの硬化促進剤は、単独で使用することも
、2種以上を併用することもできる。これらの硬化促進
剤は、エポキシ樹脂100重量部に対して、重量比で0
.01〜10の範囲の量で用いるのが有利である。
The epoxy resin composition of the present invention includes, in addition to the above-described epoxy resin as the main component and the fluorinated carbon-containing epoxy resin as an additive, a curing agent, preferably a curing agent for epoxy resin having a phenolic hydroxyl group, and a curing accelerator. Advantageously and usually necessarily included. Useful curing agents include phenolic resins and polyhydric phenol compounds, specifically novolac-type phenolic resins such as phenol novolac resins and Talesol novolak resins, cresol-type phenolic resins, bisphenol A, and the like. Among these, novolak type phenol resin is most preferred since it undergoes a polymerization reaction with epoxy resin. Additionally, useful curing accelerators generally include tertiary amines, imidazoles, organic phosphine compounds, metal chelates a, and the like. Among these, organic phosphine compounds are most useful as curing accelerators. These curing accelerators can be used alone or in combination of two or more. These curing accelerators are used in a weight ratio of 0 to 100 parts by weight of the epoxy resin.
.. Advantageously, amounts in the range from 0.01 to 10.0 are used.

さらに、本発明においては、その用途、使用目的に応じ
て、シリカ、アルミナ、チタニア炭酸カルシウム、ケイ
酸アルミニウム、ケイ酸ジルコニウム、ガラス、マイカ
、カーボンなどの粉末や短繊維充填剤、脂肪酸及びワッ
クス類等の離型剤、エポキシシラン、アミノシラン、ア
ルキルチタネート系化合物等のカップリング剤、さらに
アンチモンやリンの化合物、及びハロゲン含有化合物の
ような難燃剤を組成物に加えることができる。
Furthermore, in the present invention, powders such as silica, alumina, titania calcium carbonate, aluminum silicate, zirconium silicate, glass, mica, and carbon, short fiber fillers, fatty acids, and waxes may be used depending on the purpose of use. Coupling agents such as epoxysilanes, aminosilanes, alkyl titanate compounds, and flame retardants such as antimony and phosphorus compounds and halogen-containing compounds can be added to the composition.

本発明の半導体封止用樹脂組成物は、上記した成分を、
ロール、ニーダ−、コニーダ等の常用の手段を用いて、
約60〜80°Cの温度で加熱混練することによって調
製することができる。このようにして得られる組成物は
、約160〜190℃の温度で短時間に硬化することが
できる。
The resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention contains the above-mentioned components,
Using common means such as rolls, kneaders, co-kneaders, etc.
It can be prepared by heating and kneading at a temperature of about 60 to 80°C. The composition thus obtained can be cured in a short time at temperatures of about 160-190°C.

〔実施例〕〔Example〕

本発明の効果を確認するため、下記の第1表に記載の4
種の例を実施した。
In order to confirm the effects of the present invention, the following four
Examples of species were carried out.

0−タレゾールノボランク型エポキシ樹脂(エポキシ当
11200)、硬化剤としてのノボラック型フェノール
樹脂(水酸基当量103)、充填剤としてのシリカ粉末
、硬化促進剤としてのトリフェニルホスフィン、難燃剤
としての赤リン、着色剤としてのカーボンブラック、離
型剤としてのエステルワックス、ヘキストワンクスE(
商品名)、そしてカンプリング剤としてのエポキシシラ
ンをそれぞれ次の第1表に記載の所定量で配合し、4種
類の配合物を得た。
0-Taresol novolanc type epoxy resin (epoxy equivalent: 11200), novolak type phenol resin (hydroxyl equivalent: 103) as a hardening agent, silica powder as a filler, triphenylphosphine as a curing accelerator, red as a flame retardant. phosphorus, carbon black as a coloring agent, ester wax as a mold release agent, Hoechstwanx E (
(trade name) and epoxysilane as a camping agent were blended in the predetermined amounts shown in Table 1 below to obtain four types of blends.

以下余白 男−二り一表 配合成分        配合量(重量部)実施皿上 
実詣±1 上校拠土 ル較阻叢シリカ粉末   400
   400   400   400トリフエニルネ
スフイン       2        2    
    2        2赤リン     5  
 5   5   5カーボンブラツク       
   1         1        1  
       1エポキシシラン  2   2   
2   2次いで、上記の配合物を70〜80°Cの2
本ロールで7〜8分間にわたって加熱混練を行った後、
冷却し粗粉砕して目的の半導体封止用樹脂組成物を得た
。上記のそれぞれの樹脂組成物を用いて、256ビソト
ダイナミンク・RAMメモリ用LSI(16ピン)をト
ランスファ成形機で封止した。
Below is the blank space - Table 2 Ingredients Compounding amount (parts by weight) on the plate
Practical Pilgrimage ±1 High School Base Le Comparison Block Silica Powder 400
400 400 400 triphenylnesfine 2 2
2 2 red phosphorus 5
5 5 5 carbon black
1 1 1
1 epoxy silane 2 2
2 2 The above formulation was then heated at 70-80°C.
After heating and kneading with this roll for 7 to 8 minutes,
It was cooled and coarsely pulverized to obtain the desired resin composition for semiconductor encapsulation. Using each of the above resin compositions, a 256 Bisoto Dynamink RAM memory LSI (16 pins) was sealed using a transfer molding machine.

成形条件は、175℃、2.5分間、70kg/CrA
であった。次いで、得られたLSI封止品をプッシャー
クツカーバイアステスト(以下、PCT試験と記す)に
供した。PCT試験は、LSI封止品を121°C,?
気圧、100%RH(相対湿度)下のPCT釜に投入し
、所定の放置時間後に取り出し、LSIの電気的導通チ
ェックを行い、素子上のアルミニウム配線の腐食断線の
有無を確認した。次の第2表に記載のような結果が得ら
れた。なお、本試験の場合、それぞれの封止品について
100個の試験片を作成した。表中の数値は、記載の放
置時間後のアルミニウム配線の腐食断線個数を指してい
る。
Molding conditions were 175°C, 2.5 minutes, 70kg/CrA.
Met. Next, the obtained LSI sealed product was subjected to a Pusher-Kutsker bias test (hereinafter referred to as PCT test). The PCT test is performed on LSI sealed products at 121°C.
It was placed in a PCT pot under atmospheric pressure and 100% RH (relative humidity), and after a predetermined standing time, it was taken out and the electrical continuity of the LSI was checked to see if there was any corrosion or breakage of the aluminum wiring on the device. The results shown in Table 2 below were obtained. In addition, in the case of this test, 100 test pieces were created for each sealed product. The numerical values in the table indicate the number of corrosion breaks in the aluminum wiring after the stated standing time.

以下余日 芽ユ」L−表 上記第2表の結果は、本発明による半導体封止用樹脂組
成物は優れて斉い耐湿信顛性を有していることを立証し
ている。
The results in Table 2 above prove that the resin composition for semiconductor encapsulation according to the present invention has excellent moisture resistance.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、高温多湿状態に長時間放置後も信頼性
の高い電子部品が得られる。
According to the present invention, highly reliable electronic components can be obtained even after being left in high temperature and high humidity conditions for a long time.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、フッ化カーボン含有エポキシ樹脂を追加的に含むこ
とを特徴とする、エポキシ樹脂を主成分として有する半
導体封止用エポキシ樹脂組成物。 2、前記フッ化カーボン含有エポキシ樹脂が次式( I
)により表わされる、特許請求の範囲第1項に記載のエ
ポキシ樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼…( I ) (式中、Fは、部分的に水素又は他のハロゲン原子で置
換されていてもよい) 3、前記フッ化カーボン含有エポキシ樹脂が3〜30重
量%の量で含まれる、特許請求の範囲第2項に記載のエ
ポキシ樹脂組成物。
[Scope of Claims] 1. An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation having an epoxy resin as a main component, which additionally contains a fluorocarbon-containing epoxy resin. 2. The fluorocarbon-containing epoxy resin has the following formula (I
), the epoxy resin composition according to claim 1. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(I) (In the formula, F may be partially substituted with hydrogen or other halogen atoms) 3. The fluorocarbon-containing epoxy resin is 3- Epoxy resin composition according to claim 2, in an amount of 30% by weight.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01267498A (en) * 1988-04-19 1989-10-25 Toshiba Corp Condensate storage facility of nuclear power plant
JPH02688A (en) * 1987-12-08 1990-01-05 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Adhesive composition
US6436158B1 (en) 1998-04-30 2002-08-20 Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Coal reforming process and apparatus therefor

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