JPS63310971A - 懸垂状態の物体に金属を析出する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明が懸垂状態にある物体に金属を析出させるための
装置に関する次の技術的報告に対する序論として考慮さ
れなければならないことは、ある工業的プロセスは慣例
的な仕方で行われ得ることが認められるけれども、これ
が研究される過程において非常な複雑さを示すことなし
に、正しいことを証明する新しい情況と新しい配置に導
くことがあり、そしてそれにも拘わらずそれらはその産
業が受ける進化的プロセスに完全に順応するということ
である。

従来技術および発明が解決しようとする問題点既知であ
りかつこの反映の例として使用されるような事例は全く
少ないが、その１つは塗料の例である。数世紀の間考え
られてきたことは、塗料は基材として油をまたは塗膜形
成要素として樹脂を有しなければならないこと、および
より良き塗装をなし得るためには、塗料概念は常に溶媒
または希釈剤の概念と結合されていたことである。化学
工業が発達し始めそして天然Ｍ物が分析されるにしたが
って、人工的尉脂が出現し、そして遂に多数の製品が合
成されて、さらにそれ’）は特定の目的を考慮して研究
されたので天然および人工の製品より良いことを証明し
た。大きな変化が６０年代に始まり、そしてこの分野に
おける革新は２つの異なる方向をとった。すなわち、希
釈剤として水を使用する塗料および希釈剤なしの塗料の
研究である。

すべてこの技術上の発展はさらに品質における改良、お
よびこれらの新規な塗料を自動的に塗布する可能性を意
味し、そのため自動ピストルが開発されねばならなかっ
たし、そして真のロボットになることによって終った。

安全基準もまた、衛生と安全の両方の見地から、可燃性
有機溶媒を除去する上で重要な役を果した。

粉体塗料とフェスの使用もまたそれらの中に熱い金属部
品を浸漬することにより行なわれることができたが、し
かしその部品が同一の厚さを受けるためには流動床技術
が出現しなければならなかった。

鋼鉄の焼入れにおいて、溶融塩はその酸化力のために制
御が難かしいので、調節された雰囲気の炉によって置き
かえられた。最近に、工ＴＥＢにおいて、プロパンによ
り加熱される炉が使用された。

それはこの目的に使用するに十分な還元性の雰囲気を得
ることができるからである。もつとも、この炉はセラミ
ックス用に設計されたものであった。

焼入れの際にある物体が制御された方法で冷却される場
合に、流動床に高い熱発生率の固体粒子と共に使用され
る。

いいかえれば、多くの製品を使用する新しい可能性に道
を開く莫大な技術上の可能性が存在し、そして新しい製
品が新しい技術により使用されるために出現する。

この短い序論は、他の多くの公知の事例に拡張され得た
ものであるが、ただ当研究協会（Ｒｅ５ｅａｒｃｈＡｓ
ｓｏｃｉａｔｉｏｎ　）の固有の活動範囲内の、模造宝
石部門（工ｍ１ｔａｔｉｏｎ　Ｊｅｗｅｌｒｙ　５ｅｃ
ｔｏｒ　）における革新的アイディアを紹介することに
よる支持と正当化に過ぎない。この部門は改良を研究せ
んとするときはまったく無関心であるが、ひとたびその
改良の収益性が証明されたならば速やかにそれを受入れ
るものである。

ある金属の物体に金の層を被せる際に含まれるいろいろ
な段階を示すとぎ、忘れてならないことは、そのプロセ
スを合理化する試みに加えて、完成品の部分として金の
膜が市場に地位を見出すために持たなければならない緒
特性を考慮しなければならない。

このようにして、金めつぎ物の世界市場、模造装身具類
の分野により提供されるいろいろな可能性およびその良
き分は前を得ろ助けとなり得る因子について考察した。

金めつぎ工程はより良く自動化されなければならないし
、またその品質は薄、い層（１μｍ以下ンにおいて第１
級でなければならない。

この確信によりまたその結果としてわれわれはこれら２
つの目標の研究を、その全体でなく、特定の行動におい
て、試みようとしている。われわれ（工かなりの量の人
力を消費する手作業を除く方法を研究し、それと同時に
析出された金の品質の改良を試みようとしている。さら
に明瞭にするため、模造装身具類のために金めつき部品
において行なわれている若干の工程を思い起すべきであ
ろうＯ 電気めっき工程において、各部品は浴の中につるされ、
この部品と陰極の間の電気接続を可能にする装置を使用
しなければならない。これはラックと呼ばれる枠の中に
それらの部品を置くことにより行われるが、そのラック
にはその上に金属の析出を避けるため絶縁物の被覆が、
その腕の端（裸の金属］を除いて、施しである。

非常に多くの種類の形と大きさの部品およびその他の物
品が、電気めっき浴を形成する金属塩から析出される金
属を使用して保護されるが、それらは２つの方法を用い
ることを必要にした。

それらの部品が機械的手段により容易に保持するために
は難かしい形または大きさのものである場合に、網目の
壁または多孔板を有するプラスチックの回転ドラムの中
にそれらを入れることによりメタライズされる。そうす
ると、一度にすべての部品が浴に浸漬されて、すべてが
浴と接触する。

ドラムの内側に陰極と接続する電気接点があるので、ド
ラムの中で回転する部品はすべて互いに電気的接触があ
るが、電流が通る点を常に変え、そして連続的かつ均一
な金属析出が得られろ。

このような方法で、被ｇした異なる金属のいろいろな金
属層を得ることができる。

ある幾何学的形状は、同一の区域で長い時間の電気接触
を維持して互いにくっつき、そしてでこぼこや表面のき
すを生ずるので、この方法を用いて被覆することが蕪か
しい。これらの小部品、ならびに大ぎなドラムを必要と
するようなその他のより大きな物品は、個別に前記のラ
ックの中に保持される。ある種の部品は、浴の攪拌運動
または単にそれら部品の移行運動のためにラックから離
れないための十分な保証をもってラックの腕の端からつ
るされることができるものもあるが、これらの大多数は
部品毎に導ＩＱ（普通は真ちゅう線］によりラックに固
定される必要がある。

この多数の小部品を固定する工程はかなりの量の前動を
消費するので、これを少なくするように努力すべきであ
る。このことはこの新しい「プロジェクト」および次の
事実に基づ〈発明の基本的目標である。

ａ】　化学浴および自触媒浴はある金属を他の金属の上
に析出させるために外部からの電流を必要としないので
、したがってわれわれの開発に使用するため適当である
。

自触媒浴とは、還元剤が溶液中で有する組成を意味し、
そしてその上に析出が望まれる金属はそのように作用し
ない。金浴はそれが金の表面に金を析出するとぎ自触媒
的である。

ｂ）静止流体の中および運動している流体の中における
固体の落下の研究は、われわれの目的が実施され得る装
置を設計しそして組立てるために助けとなるであろう。

次の仮定をたてよう。

水（ρ。＝１ンで満たされたある管の中で、半径γと密
度ρ＝１を有する球をその表面に置こう。

速度Ｖ＝Ｏで置かれた球は懸垂して留まるであろうが、
もしその密度ρがより大きければもつと速やかに底に向
って行くであろう。

流体力学はこれらの現象を「流体内の固体の運動」とい
う特定の一章で研究しており、そして問題の解析の際に
、より簡単に考えるため、例えば球のような規則正しい
形を有する固体が取り上げられろ。しかし、大多数の場
合に、不規則な形の固体が使用されるので、理論方程式
は、もしそれが真の事実を表わすことをわれわれが望む
なら、＋ｆ、補正されなければならない。これらの補正
率は数学的計算により見いだすことが難しく、大いに固
ｉ体の°形に関係する。

固体の形状が複雑であるほど、垂直落下においては、液
体の示す抵抗がますます大になり、したかって同一の距
離を通る落下時間もまたそれだけ大になる。

提示される簡単な例において、固体の落下は、一般に、
表面／重量比が大きい場合に実験されることになり、し
たがってその落下を支配してこの事実に適合する法則を
適用することが必要であるう。

この研究は液体内部における固体の垂直運動に含まれ、
われわれは摩擦が存在しないと考えることにより出発す
る。

もし密度ρを有するある固体が、ρ　くρであるような
密度ρ。を有する液体の中を落下することを許されるな
らば、作用する力は次の通りである。

重量＝ｑ″Ｖ＃ｇ　　　スラスト！Ｖρｇ力学の基本方
程式は次のことを要求する。

Ｆ　−ｍａ　＝　Ｖｐｈ−重童一スラストすなわち１ これはその固体が落下すゐときの加速度になるであろう
。

この場合に、問題は等加速運動の方程式を応用すること
に帰する。

抵抗性の媒体中における固体の落下の場合にレエ、これ
は落下速度に関係している〜・ろな角度力・ら研究され
ている。

■　速度に比例する抵抗 ■　速度の２乗に比例する抵抗 ■　速度の２より大きいべき数に比例する抵抗この第３
の場合は特に高速度の固体の運動、例えば空気中の発射
体に当てはまり、そして次の標準式により支配されろ。

Ｒ＝　Ｋ　ｖ” 上式中、音の速さのような速度につ℃・て＆Ｘ　ｎ　＝
５である。

この可能性■を考えないで、■と■Ｃ（つ（〜ての、み
述べる。

抵抗が速度に比例する場合、例えば、小さい速度の場合
には運動の方程式は次のようになる。

ａｖ ｍ　＝−ｉ−＝　ｍｇ　−ａｖ 上式中、ａはａ　＝　ｍｋＱ形を有することのある定数
である。

ａｖ −＝　ｇ　−ｋｖ ｔ そしてその積分値は、 ＝１＋（Ｖ−工）　ｅ−”　（２） ｋ　　　　　　　　　　　ｏｋ 上式中、Ｖは初めの時ｔｗｏにおける速度である。

ｔの大ぎな値について、その極限速度Ｖは次の値を有す
ると言えるであろう。

■−−エー　　　　　　　　　　　（３）時間ｔの終り
に物体により占められた空間は次のようになろう。

■。−■ ｅ＝Ｖｊ＋、　　　　　　　（１−ｅ　　　　）　　　
　　（４７に 半径ｒの球に戻ることにする。それが等速度でかつ非常
に、小さい速度Ｖで、速度係数ηを有する流体の内部を
運動する場合に、これが運動に与える抵抗Ｆ　＆Ｘ、ま
ったく近似的に、次のストークスの式により計算される
ことができよう。

Ｆ’＝６πηｒｖ　　　　　　　　　　　　　（５）こ
の方程式の適用はＲｅ　（１であることを必要とする。

もしある球がある流体中を落下させられると、その速度
は徐々に増して、遂にある限界値に到る。

この速度の計算は、球の重量、スラストおよび抵抗Ｆの
間に次の関係があることを考慮してなすことができる。

一πｒ３ρｇ　＝　　　ｒ３πρρ　＋６πηｒｖ３　
　　　３　　　。

上式中、 ストークスの式の有効な場についてレイノルズ数に課せ
られた条件は、その球が非常に小さいことを要求する。

比較的大きな物体については、抵抗はもはや速度に比例
しない。すなわち、ス）　−クスの法則はもはや有効で
なく、そしてニュートンの法則により、抵抗は速度の２
乗に比例する。

これは■の場合に相当する。

それ数次の結論を引き出すことができろ。われわれは抵
抗が速度に比例する系から、抵抗が速度の２乗に比例す
る他の１つの系へ移る。なぜなら、球の半径は値を増加
すると考えられるからである。

もつとも同じ理由で、球の密度がその直径が増すとして
も減少するとき、Ｖが一定にまたはスト−クスの式を満
足させるため有効である値で維持されるとき、このこと
は起り得ないだろうと言うことができる。

もし球の例を変えて、その球を同じ直径と材料の円板に
取り替えるならば、それは落下の時に存在する面積に従
って、可変の速度で水の中を落下するであろう。そして
その経路は点線により表わされることになろう。

この前提をたてたことにより、水中における金属の円板
の落下をいかなる数学式が支配するかを知ることは不可
欠ではなくて、むしろそれがいかなる見かけの速度に到
達するかが問題である。

同様な２つの可能性の範囲内で、ある流体がねれわれの
プロジェクトの管の中を流されろ場合に、落下の方向と
反対の方向のみが考慮に入れられるであろう。そして平
衡速度を得ようと試みよケ。

この系の当面の目的は次の事実に基づいている。

１、−ある金属の円板が高さＬの所から時間ｔの・１■
■■■−喝■■■■ｉ 落下をした後に到達した管の底に置かれていたとき、わ
れわれはその平均速度は であったと言うことができる。なぜならば、その落下は
等加速運動により起らなかったし、また直線行路で落ち
たのでもなかったからである。

もし管の中にＶ以下の速度で水の流れを起させろならば
、円板は論理的には連続運動で上ったり下りたりし、そ
して理論的にはある特定の速度Ｖについて円板は実際上
懸垂状態に留まり、管の底に触れることもなく、あるい
は頂部から浮び上ることもないであろう。

２、−あろ特定の速度Ｖ　について、上向きの流豆 れは円板を管の頂部を経由して浮び上らせろであろう。

実際には、長さしがその長さ全体に亘り円板を懸垂状態
に保つため十分ではないことは許容されよう。これは、
管の長さＬが実施されろことになる種類の試験のため十
分でな（・こと、計算された速度がその流体中における
円板の限界速度以下であることおよびＬより大ぎい値が
用いられるべきであることを意味する。

しかし目標はできろだけ最小の空間りの中に円板を懸垂
状態に留めようと試みろことであるから、現在までに考
慮に入れなかった他の因子を考えなければならない。こ
れらのうちもつとも重要なものの１つは、その若干の部
分に可変部を有する管を使用することである。

非常に特定の条件の下に流体中の固体の落下を支配する
法則を知って、これらの特定の条件が幾何学的形状、温
度、密度および流体の粘度の変化により満足されない場
合には実験が情報の手段として用いられなければならな
い。

もし金属の等級別がその電気化学的作用により考えられ
ろならば、この最上級に位置する金属はその下に位置す
る他の１つの金属により被覆されることができろ。

この明白な例は硫酸銅の酸性溶液中におけろ鉄の上への
銅の析出である。２種の反応が起り、その１つは陽極的
であり、他の１つは陰極的で、同時に鉄の表面上で次の
ように起る。

Ｆｅ　−→Ｆｅ　　＋２ｅ　（陽極的）　Ｅ−−−０，
４４ＶＣｕ　　−）−２ｅ−→Ｃ！ｕ　（陰極的）　ｍ
−＝　　０．３３７Ｖひとたび鉄が銅の層により完全に
被覆すれろと、このプロセスは止まり、そしてその後厚
さの増加はない。析出層は通常薄＜Ｃ＜１．ＯＩ’ｍ）
、そしてその鉄への付着に良くない。

ある機械部品（Ｍ）がそれより低級の金属の他の１つの
部品（Ｍ＋）と結合されていたとする。

その両者をさらに低級なある金属Ｍ２のイオン（Ｍｚ”
　）を含有する析出液中に浸漬すると、低級金属Ｍｔの
溶解（＠極的）が起って、溶液中に移り、そして金属Ｍ
２がその機械部品の上に析出される。

Ｍ　Ｉ　　　　　ＭＨ＋　　”　ｅ Ｊ−）−ｎｅ−一→Ｍ、− この場合に、金属被Ｎは陽極Ｍ１の溶解が起っている間
続くことができよう。市場には金の溶液が販売されてお
り、これは銀、銅、真ちゅう、ニッケルおよびスズの母
材の上に２．５μｍの厚さを与えろことができる。それ
らのプロセスは、原理において、接触による金めつきと
似ている。電子を失うことと得ることが上述のプロセス
の基本的部分であり、それ（工実際にすべての水析出プ
ロセスにお℃・て同じである。

混乱を避けろために、用語電流なしの析出を横斜オ１ｒ
ｂ層１天可ル弔−入−１すθ）雷ニジ牛へ、ンとは不可
欠であるから、析出の際われわれの手段を、化学的方法 １、置換反応 ２、電気溶解反応 でもなく、また電気的方法、例えば、よく用いられる電
気析出法、でもない他の方法に基づくべきである。

次のことは電流なしの析出のいかなるプロセスにおいて
も満足されなければならない。

ａ）溶液は電子供与体として働く化学還元剤を有しなけ
ればならない。

ｂ）プロセスは析出された金属による触媒作用を受けて
継続される。

したがって、基材の表面が金属析出物により被覆された
とき・プロセスの継続は析出された金属の触媒能に依存
する。

用語「自触媒的」はこの型のプロセスに適用され、そし
て用語「無電解」と同じ混乱を受けたことがない。

金の析出プロセスが自触媒的として述べられる前に、そ
のプロセスは必然的に全下地の上に金を析出できなくて
（工ならない。

さて今われわれが関係している特定の場合を、すなわち
、金の析出のための自触媒的配合により与えられろ可能
性を知るために論じよう。加工物が不導体であるかまた
は非常に複雑な形状を有する場合でなければ従来慣用の
金めつき法を用いることが最善である。

標準の電気析出法を用いろことを勧める理由は、自触媒
浴が 工、比較的小さい析出速度。

２、電気析出の諸条件が注意深く管理されなければなら
ない。

３、基材は非常に清潔でなければならない。

４、浴は比較的限られた持続時間を有する。

５、析出物の厚さの分布は攪拌条件に大いに依存する。

以上の要件を示すという事実に基づいている。

このプロセスに使用することのできろ若干の配合を詳細
に論する前に、含まれる反応の機構な理解することが最
も良い。ある系の最良の実行可能性を選ぶ助けとなるた
め反応の動力学の概論が必要である。もつとも適切な証
明を与えるために実験が必要である事実を除外すること
はできない。

自触媒的析出においては、基材が析出液の中へ浸漬され
、その際反応が直ちに始まり、そして金属が基材の表面
に析出される。この金属は反応に触媒作用して、析出の
継続を促進する。

この種の浴におけろ２つの最も本質的な成分は析出され
るべき金属のイオンＭｒ１＋と還元剤（Ｒｅｄ、　）で
ある。析出反応は次のようである。

金属のまたは金属被覆された基材の表面上では還元−醸
化反応が起つ、一方電子を与える還元剤はその酸化物形
（Ｏｘ、　）に変換される。したがって、反応は次の２
つの半レドックス反応として考えられてよい。

Ｍ”　　−１−ｎ　ｅ　　−□　　Ｍ”’および Ｒｅｄ　　　−ｎ　　ｅ　　　−一→　Ｏｘ金属の電極
の平衡電位Ｅｍ　（Ｍ　　／　Ｍ　）および還元剤のそ
れＥｕ　（Ｒｅ　ｄ　／　ＯＸ　）　ＧＸネルンストの
方程式および表の電位Ｅ−（酸化−還元標準電位］を使
用することにより得ることができよう。

両電位は溶液の温度およびイオン濃度、さらにまた使用
される化合物の性質に関係する。したがって、Ｅ　の値
は溶液のｐＨにより強く影響される。

Ｅ−とＥ−の間の差そして、より正確には、ｍ、Ｒ Ｅ　とＥ　の間の差はある種の還元剤の有効性を判ｍ　
　　　　Ｒ 定するための予備的選択において助けとなることができ
よう。もしその差が余りに小さければ【または負であれ
ばン、金属の還元は起らないこともある。一方、もし余
りに大きければ、溶液の自然分解があり得る。

酸化−還元反応は基材の表面上で起るから、それらが起
る電位はＥ、ＩｎとＥ８の間の値に落ちて、混合電位Ｅ
　として考えられる。析出速度は電位のＰＭ 変化（Ｅ　−→Ｅ　）から得られろ。

ｍ　　　　　　　　ＰＭ ２つの方法が混合理論電位を用いて析出速度を決定する
ために使用できよう。それらは次の方法である。

ａ）ター７工ル曲線の外挿（または内挿）の方法、また
は １３）分極抵抗の方法（時には線状分極と呼ばれる　ン
　。

第１の方法は陽極のおよび／または陰極の分極測定にお
いて得られるデータを使用する。電位曲線（陽極または
陰極の）は混合電位”ＰＭを横切り、相当する強度１　
　が析出速度を決定するためにｅｐ 取られる。陽極および陰極の電流は電位Ｅ　に等Ｍ しい、すなわち、金８イオンの金属への還元速度は還元
剤の酸化速度に等しい。

第２の方法では、分極抵抗の方法に基づき、測定が±１
０　ｍｖの、混合電位ＥＰＭに維持される限り、適用さ
れる電流密度は近似的に電極の電位の線状関数であると
いう、腐食過程において観察される、事実に基づいてい
る。しかしその他の動力学的パラメーターは陽極および
陰極反応についである独立の方法、特にター７エル勾配
によって得られるベきである。

実施例 すべてこれをより良く理解するために、そしてそれはけ
して限定的でない例をただ示すことにより理解を助けろ
ために、別紙の図面を添付する。

第１図は機能的装置の線図である。この図は工業的実施
装置を線図で表現するものであって、説明のためにのみ
ここに含まれるのであり、したがって流体中を移動する
固体素子の実際的研究をけして制限しない。それらの固
体素子が懸垂される装置は、固体素子の形、重量および
流体に与えられる速度（重力の作用による垂直落下方向
と反対の方向にンにより提示されかつ展開される。

化学的または自触媒的浴により満されている管の内部に
おける物体の自由落下は、適当な温度の浴での落下時間
が所要量の金属を析出するために十分であるならば、最
も簡単なメタライジングの装置を構成するであろう。

金の小片の回収、浴の組成とその温度の均一性を維持す
ること、ならびに管の長さのような極めて単純な理由が
、この種の装置を使用することが殆ど不可能であること
を意味する。しかし、もし固体素子の自然落下が、同一
方向または反対方向に移動している流体と組合されるな
らば、これを用いろことができよう。

第１図に示される装置において、前によく研究された２
つの原理を組合すことにより固体素子をメタライズする
ことができる。

まず、もしこの装置がある適当な流体で満されており、
そしてその流体が遠心ポンプ（５ンにより管（１ンの方
に循環されているならば、流体の流れが形成され、その
速度はポンプの吐出し量とこの装置の他の部分により決
定されよう。この速度はフローバルブ（１２）を使用す
ることにより変えることができる。また電子機構により
変速機と連結されているロータメーター（８）によりポ
ンプの電動機に電子式変速機を適用することもできる。

ひとたび流体の運動が、管（１）に沿って上の方向に確
立されると、流体の温度はチタンで被覆された加熱装置
（１０）を使用することにより修正することができる。

温度はディジタル温度計により制御され、その温度計の
保護管が（１３）に配置されている。

流体の温度の安定に１　（１０）と（１３）を組合せて
自動調温装置を使用することにより得られる。

流体のある性質、例えば、ｐＨ１あるイオンの消費量、
は駆動装置（５）を有する戻り管（６）の上の（７ンと
（９ンに設備された電極により測定される。

安全要素として、保護スクリーン（４）は、固体素子が
（５）の上に落ちることを防ぐために、またフィルター
（１１）は装置内を循環する、あり得ろ固体不純物を留
め置くために使用される。管（１］は、流体のあり得る
噴出を避けるためおよび異物が管（１）の中に落ちるこ
とを防ぐために閉じ蓋（３）を有する。

さて今までのところ、＄１図の装置を通して可変の速度
で流体を循環させたが、その結果もしこれが適当に確立
されると、固体素子を管（１）の装入口（２）を経由し
て導入することができ、適切な速度の流体中に懸垂状態
に固体素子が維持される。固体素子はまた流体が静止状
態にあるときに装入口（２］を通して管の中へ導入され
、保護スクリーン（４）により支えられてもよい。流体
に適当な速度が与えられると、懸垂が生じろ。

固体要素が管（１）内へ放漫に導入される場合には、固
体素子は流体の速度を懸垂速度以上に増すことにより管
から取り出されろこともあり、その場合この目的のため
に準備されたバスケット（１４）の中に集められる。

固体素子が管（１ンの中でその壁に良く適合した、孔を
あけたバスケットの中へ導入される場合には、懸垂はそ
のバスケットの中で生じ、そしてこれはまた物体を取出
して管を空にする助けにもなる。

既に述べたように、化学的または自触媒的浴は、適当に
準備された表面の上に特定の金属を、その浴の温度と組
成に応する量に析出させる性質を有する。第１図の装置
が化学的または自触媒的浴により満たされ、かつ適当な
速度、ｐＨおよび温度の諸条件が確立されるならば、そ
の表面を適当に処理されている固体素子は流体内の懸垂
に入ると同時にメタライズされることができる。予め計
算された時間が経過すると、それは前記の方法で取り出
される。工業的規模においては、多数の物体が導入され
ることもあり得るが、懸垂状態において得られろ絶えざ
る運動のお陰で、それらの物体は常に互いに接触して金
属析出層の上に欠陥と不規則性を生じさせることがない
。

【図面の簡単な説明】

第１図に機能的装置の線図である。 この図における主な構成部分は次の通りである。 １・・・懸垂管 ２・・・装入口 ３・・・閉じ蓋 ４・・・保獲スクリーン ５・・・駆動装置 ６・・・戻り管 ７・・・ｐＨ液制御 ８・・・自動調温装置付きロータメーター９・・・イオ
ン消費制御 １０・・・加熱装置 １１・・・濾過器 １２・・・フローバルブ １３・・・ディジタル温度計付き流量制御器１４・・・
バスケット １５・・・放出バルブ

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. （１）管の内部における流体の向流により、メタライズ
   されるべき物体の懸垂を生じさせることを特徴とする、
   懸垂状態にある物体に金属を析出させるための装置。
2. （２）管の上部が閉じ蓋付きの装入口を有しかつ流体の
   駆動装置と連絡する底部に保護スクリーンを有し、そし
   てメタライズされるべき物体は装入口に導入されて、流
   体よりも密度が大きいけれども、駆動装置が管の内部で
   上方向にかつ重力により落下する物体と反対の方向に起
   させる流体の流れのおかげで懸垂状態に維持されること
   をさらに特徴とする、特許請求の範囲第１項に記載の装
   置。
3. （３）メタライズされるべき物体が流体よりも小さい密
   度を有する場合に、管および流体の流れの方向が、向流
   による懸濁状態を維持するために逆転されることをさら
   に特徴とする、特許請求の範囲第１項または第２項に記
   載の装置。
4. （４）各サイクルにおいて使用される流体が化学的また
   は自触媒的反応により金属の析出をひき起すのであつて
   、電気化学的反応をひき起すために必要である外部から
   の電流を使用しないことをさらに特徴とする、特許請求
   の範囲第１項より第３項までのいずれか１項に記載の装
   置。
5. （５）戻り導管が一端で特許請求の範囲第１項に記載の
   管と連絡しかつ他端で駆動装置と連絡しており、そして
   駆動装置はまた前記の管と連絡しているので、駆動装置
   が戻り導管と連絡することにより流体の回路を閉じてい
   ることをさらに特徴とする、特許請求の範囲第１項より
   第４項までのいずれか１項に記載の装置。
6. （６）メタライズされるべき物体が管の装入口を経由し
   て多孔バスケットの中に導入され、そのバスケットはま
   たメタライズ工程の終りに物体を取り出すために使用さ
   れ、しかしもし駆動装置を通つて管内を循環しなければ
   ならない流体の流れが最大に増加されるならば、多孔バ
   スケットを使用する必要なく、物体は戻り導管内の受容
   器の中に集められ、そして流体から分離されることもで
   きることをさらに特徴とする、特許請求の範囲第１項よ
   り第５項までのいずれか１項に記載の装置。
7. （７）戻り導管が流量、ｐＨ、選択性イオンの制御装置
   、回路中の流体の流れを変更することのできるフローバ
   ルブ、および各工程において適当な温度で作業できるよ
   うにかつ金属の析出速度を変更できるための加熱装置、
   それに加えて循環する流体に懸垂している無関係な成分
   を除くためのフィルターを含むことをさらに特徴とする
   、特許請求の範囲第１項より第６項までのいずれか１項
   に記載の装置。
8. （８）駆動装置とパイプ保護スクリーンとの間にはめ込
   まれた温度調節器と流量調節器があることをさらに特徴
   とする、特許請求の範囲第１項より第７項までのいずれ
   か１項に記載の装置。
9. （９）戻り導管の底部にそしてそれが駆動装置に入る直
   ぐ前に流体の排出用のバルブを取りつけられたパイプが
   あることをさらに特徴とする、特許請求の範囲第１項よ
   り第８項までのいずれか１項に記載の装置。
10. （１０）遅い速度で流体を流れさせることによりメタラ
    イズ工程が開始され、駆動装置の始動に続いて加熱装置
    を始動させ、作業温度を設定すると、その温度はサーモ
    スタットにより自動的に安定化されることをさらに特徴
    とする、特許請求の範囲第１項より第９項までのいずれ
    か１項に記載の装置。
11. （１１）流体の流れを最小速度まで減ずることにより、
    メタライズされるべき物体が管の内部で多孔バスケット
    により、または底部に位置するスクリーン上に配置され
    、そして徐々に流速を増加させ、所望の懸垂が得られる
    までに到らしめ、あらかじめ設定された時間が経過する
    とクロノグラフが駆動装置の電流を切るまで運転を維持
    することをさらに特徴とする、特許請求の範囲第１項よ
    り第１０項までのいずれか１項に記載の装置。
12. （１２）流体の速度を最大まで増加させることにより、
    特許請求の範囲第６項に記載のように、管は金属物体を
    すつかり排出してしまい、後者は戻り導管の受容器から
    採集され、かくして装置は懸垂状態にある新しい物体に
    メタライズするまたは金属を析出させる新しいサイクル
    を始める状態に残されることをさらに特徴とする、特許
    請求の範囲第１項より第１１項までのいずれか１項に記
    載の装置。