JPS6331494B2 - - Google Patents

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JPS6331494B2
JPS6331494B2 JP60504529A JP50452985A JPS6331494B2 JP S6331494 B2 JPS6331494 B2 JP S6331494B2 JP 60504529 A JP60504529 A JP 60504529A JP 50452985 A JP50452985 A JP 50452985A JP S6331494 B2 JPS6331494 B2 JP S6331494B2
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JP
Japan
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formula
component
general formula
carbon atoms
epoxy resin
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Application number
JP60504529A
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Japanese (ja)
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JPS61501712A (en
Inventor
Kurisuchiinu Shii Baakufueruto
Jodeii Aaru Baaman
Deeru Jei Arudoritsuchi
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Dow Chemical Co
Original Assignee
Dow Chemical Co
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Filing date
Publication date
Application filed by Dow Chemical Co filed Critical Dow Chemical Co
Publication of JPS61501712A publication Critical patent/JPS61501712A/en
Publication of JPS6331494B2 publication Critical patent/JPS6331494B2/ja
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)

Description

請求の範囲  (1) 䞀般匏 䞀般匏 䞀般匏 䞀般匏 䞀般匏 又は 䞀般匏 各およびA′が、独立に〜12個の炭玠
原子を有する二䟡のヒドロカルビル基、―
―、―――、
Claim 1 A(1) General formula general formula general formula general formula general formula or general formula (Each A and A' is independently a divalent hydrocarbyl group having 1 to 12 carbon atoms, -S
--, --S-S-,

【匏】【formula】 【匏】【formula】

【匏】 あるいは――であり各が独立に䞀般匏【formula】 Or -O-; each B independently has the general formula

【匏】 により衚わされ各B′が独立に䞀般匏【formula】 is represented by; each B′ is independently a general formula

【匏】 により衚わされ各B″が独立に䞀般匏【formula】 is represented by; each B″ is independently a general formula

【匏】 により衚わされ各が独立に氎玠あるいは
〜個の炭玠原子を有するアルキル基であ
り各が独立に氎玠あるいは〜10個の炭
玠原子を有するヒドロカルビル基であり各
R′が独立に氎玠、〜10個の炭玠原子を有
するヒドロカルビル基あるいはヒドロカルビ
ロキシ基あるいはハロゲンでありが―
でありm′がn′―でありm″がn″―
であり各、n′およびn″が独立に〜で
ありが〜であり各が独立に平均
〜でありy′が平均〜でありか぀
およびz′が独立に〜であるにより衚
わされる少なくずも䞀皮の゚ポキシ暹脂、 (2)(a) ―成分においお定矩されるよう
な少なくずも䞀皮の゚ポキシ暹脂ず (b) 䞀般匏
Each R is independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; each Q is independently hydrogen or a hydrocarbyl group having 1 to 10 carbon atoms; each
R' is independently hydrogen, a hydrocarbyl group or hydrocarbyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen; m is n-
1; m′ is n′-1; m″ is n″-1
each n, n' and n'' are independently from 0 to 3; q is from 0 to 4; each y is independently from 1 to 5 on average; y' is on average from 0 to 3; and z and z' are independently 0 to 3); (2)(a) at least one epoxy resin as defined in component (A-1); and (b) ) general formula

【匏】又は 䞀般匏 匏䞭が前述のものであり各が独立
に氎玠、ハロゲンあるいは〜10個の炭玠
原子を有するヒドロカルビル基あるいは、
ヒドロカルビロキシ基でありか぀が
あるいはであるにより衚わされる少な
くずも皮の二䟡プノヌル類ずの反応生
成物、この堎合プノヌル性ヒドロキシ基
察゚ポキシド基の比が0.01〜0.5
であるような量で――成分およ
び――成分が存圚する、 (3) それらの混合物 のうちの少なくずも䞀皮および  䞀般匏
[Formula] or general formula (wherein A is as defined above; each Y is independently hydrogen, halogen, or a hydrocarbyl group having 1 to 10 carbon atoms; or
is a hydrocarbyloxy group; and n is 0
or 1), in which the ratio of phenolic hydroxy groups to epoxide groups is from 0.01:1 to 0.5:1.
Component (A-2-a) and component (A-2-b) are present in amounts such that (3) a mixture thereof; at least one of; and B general formula

【匏】又は 䞀般匏 匏䞭、、およびが前述のものであり
各が独立にハロゲンであるにより衚わされ
る少なくずも䞀皮のハロゲン化二䟡プノヌル
類から成り、か぀成分(A)および成分(B)が、フ
゚ノヌル性ヒドロキシル基察゚ポキシド基の比
が0.7〜1.1であるような量で存圚する
こずを特城ずする硬化可胜な組成物。  曎に(C)、成分(A)および成分(B)の反応を実斜す
るための觊媒量の少なくずも䞀皮の觊媒および (D)、成分(A)、成分(B)、成分(C)および成分(D)の党
重量に基き〜50重量の少なくずも䞀皮の溶
剀 を含有するこずを特城ずする特蚱請求の範囲第
項蚘茉の組成物。  曎に、䞀般匏 匏䞭、各R1は、独立に氎玠、〜10個の炭玠
原子を有するヒドロカルビル基あるいはハロゲン
であり、か぀R2は〜10個の炭玠原子を有する
ヒドロカルビル基である により衚わされる安定剀を含有するこずを特城ず
する特蚱請求の範囲第項蚘茉の組成物。  成分(A)が匏あるいは〔匏䞭、
およびR′が氎玠でありが平均0.1〜であ
る〕により衚わされる成分―であり、か
぀成分(B)が匏〔匏䞭、が〜個の炭玠
原子を有する二䟡のヒドロカルビル基であり各
が臭玠でありか぀がである〕により衚わ
されるこずを特城ずする特蚱請求の範囲第項蚘
茉の組成物。  成分(A)が匏〔匏䞭A′が〜個の炭玠
原子を有しか぀各およびR′が氎玠である〕
により衚わされる成分―であり、か぀成
分(B)が匏〔匏䞭が〜個の炭玠原子を
有する二䟡のヒドロカルビル基であり各が臭
玠でありか぀がである〕により衚わされる
こずを特城ずする特蚱請求の範囲第項蚘茉の組
成物。  成分(A)が匏あるいは〔匏䞭各、
およびR′が氎玠である〕により衚わされる成
分―であり、か぀成分(B)が匏〔匏
䞭、が〜個の炭玠原子を有する二䟡のヒド
ロカルビル基であり各が臭玠でありか぀
がである〕により衚わされるこずを特城ずする
特蚱請求の範囲第項蚘茉の組成物。  成分(A)が匏〔匏䞭、各およびR′が氎
玠である〕により衚わされる成分―であ
りか぀成分(B)が匏〔匏䞭、が〜個
の炭玠原子を有するヒドロカルビル基であり各
が臭玠でありか぀がである〕により衚わ
されるこずを特城ずする特蚱請求の範囲第項蚘
茉の組成物。 明现曞 本発明は、ポリプノヌルのポリグリシゞル゚
ヌテルずハロゲン化ビスプノヌルずを含有する
キナア性組成物に関する。 ビスプノヌルのグリシゞル゚ヌテルずハロゲ
ン化ビスプノヌルずを含有する組成物は、電気
甚ラミネヌトの補造に䜿甚されおいる。しかしな
がら、これは䞀般に䞀぀あるいはそれ以䞊の性質
䟋えば熱的性質、耐湿性および高枩機械匷床など
に欠点を有しおいる。 本発明は、熱安定性、ガラス転移枩床、高枩機
械匷床、耐湿、耐心孊薬品性および䞍撓性から遞
ばれる䞀぀以䞊の性質が改良されたキナア組成物
が埗られるキナア性組成物を提䟛するものであ
る。 本発明は、 (A)(1) 各およびA′が、独立に、〜12個の
炭玠原子を有する二䟡のヒドロカルビル基、
――、―――、
[Formula] or general formula (wherein A, Y and n are as described above;
each X is independently a halogen; and component (A) and component (B) have a ratio of phenolic hydroxyl groups to epoxide groups of 0.7:1. A curable composition characterized in that it is present in an amount such that it is ~1.1:1. 2 further comprising (C), a catalytic amount of at least one catalyst for carrying out the reaction of component (A) and component (B); and (D), component (A), component (B), component (C) and Claim 1, characterized in that it contains 0 to 50% by weight of at least one solvent based on the total weight of component (D).
Compositions as described in Section. 3 Furthermore, the general formula; (wherein each R 1 is independently hydrogen, a hydrocarbyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen, and R 2 is a hydrocarbyl group having 1 to 10 carbon atoms) A composition according to claim 1, characterized in that it contains a stabilizer. 4 Component (A) is represented by the formula () or () [in the formula Q,
R and R' are hydrogen; q is 0.1 to 2 on average], and component (B) is a compound represented by formula (X) [wherein A is 1 to 6] a divalent hydrocarbyl group having carbon atoms; each X is bromine; and n is 1. 5 Component (A) has the formula () [wherein A' has 1 to 4 carbon atoms; and each R and R' is hydrogen]
is a component (A-1) represented by the formula (A-1), and the component (B) is a compound of the formula () [wherein A is a divalent hydrocarbyl group having 1 to 6 carbon atoms; each X is bromine; and n is 1]. The composition according to claim 1. 6 Component (A) is represented by the formula () or () [in the formula, each Q,
R and R′ are hydrogen; and component (B) is a divalent hydrocarbyl group having 1 to 6 carbon atoms; each X is bromine; and n
is 1]. The composition according to claim 1, wherein 7. Component (A) is a component (A-1) represented by the formula () [in which each Q and R' are hydrogen]; and component (B) is a component (A-1) represented by the formula () [in the formula, A is A composition according to claim 1, characterized in that it is a hydrocarbyl group having from 1 to 6 carbon atoms; each X is bromine; and n is 1. Description The present invention relates to a curing composition containing a polyglycidyl ether of a polyphenol and a halogenated bisphenol. Compositions containing glycidyl ethers of bisphenols and halogenated bisphenols have been used in the production of electrical laminates. However, this generally has drawbacks in one or more properties such as thermal properties, moisture resistance and high temperature mechanical strength. The present invention provides a curing composition that provides a curing composition that is improved in one or more properties selected from thermal stability, glass transition temperature, high-temperature mechanical strength, moisture resistance, chemical resistance, and stiffness. It is something. (A) (1) A divalent hydrocarbyl group in which each A and A' independently have from 1 to 12 carbon atoms;
-S-, -S-S-,

【匏】【formula】 【匏】【formula】

【匏】 あるいは――であり奜たしくは、各
が、独立に〜個の炭玠原子を有する二䟡
のヒドロカルビル基で各A′が、独立に〜
個の炭玠原子を有する二䟡のヒドロカルビ
ル基であり各が、䞀般匏 により衚わされ各B′が、䞀般匏 により衚わされ各B″が、䞀般匏 により衚わされ各が、独立に氎玠あるい
は〜個の炭玠原子を有するアルキル基で
あり各が、独立に氎玠あるいは〜10個
の炭玠原子を有するヒドロカルビル基であ
り各R′が、独立に氎玠、〜10個の炭玠
原子を有するヒドロカルビル基あるいはヒド
ロカルビロキシ基あるいはハロゲンであり
が―でありm′n′―であm″が
n″―であり各、n′およびn″が独立に
〜であり奜たしくはがでありが
〜奜たしくは0.1〜、曎に奜たしくは
0.5〜1.5であり各が独立に平均〜で
ありy′が平均〜でありか぀および
z′が独立に〜である匏、、
、、あるいはにより衚
わされる少なくずも䞀皮の゚ポキシ暹脂、 (2)(a) ―成分に定矩されるような匏
により衚わされる少なくずも䞀皮の
゚ポキシ暹脂ず (b) が、〜12個の炭玠原子を有する二䟡
の炭化氎玠基、――、―――、
[Formula] Or -O-; Preferably, each A
is a divalent hydrocarbyl group independently having 1 to 6 carbon atoms, and each A' is independently 1 to 6 carbon atoms.
is a divalent hydrocarbyl group having 4 carbon atoms; each B is of the general formula is represented by; each B′ is represented by the general formula is represented by; each B″ is the general formula each R is independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; each Q is independently hydrogen or a hydrocarbyl group having 1 to 10 carbon atoms; R′ is independently hydrogen, a hydrocarbyl group or hydrocarbyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen;
m is n-1; m′n′-1; m″ is
n″−1; each n, n′, and n″ are independently 0
-3; preferably n is 1; q is 0-4, preferably 0.1-2, more preferably
0.5 to 1.5; each y independently has an average of 1 to 5; y′ has an average of 0 to 3; and z and
z' is independently 0 to 3; formula (), (),
At least one epoxy resin represented by (), (), () or (); (2)(a) At least one epoxy resin represented by the formula () as defined in component (A-1); and (b) A is a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, -S-, -S-S-,

【匏】【formula】 【匏】【formula】

【匏】 あるいは――であり各が独立に氎
玠、ハロゲン、あるいは、〜10個の炭玠
原子を有するヒドロカルビル基あるいはヒ
ドロカルビロキシ基でありか぀が、
あるいはでありか぀、プノヌル性ヒ
ドロキシル基察゚ポキシド基の比が、
0.01〜0.5、奜たしくは0.05〜
0.25、曎に奜たしくは、0.1〜
0.2であるような量で(a)成分および(b)
成分が存圚する、匏あるいは
により衚わされる少なくずも䞀皮の二䟡フ
゚ノヌル ずの反応生成物、あるいは (3) それらの混合物 のうちの少なくずも䞀皮および (B) が〜12個、奜たしくは〜個の炭玠原
子を有する二䟡のヒドロカルビル基、――、
―――、
[Formula] or -O-; each y is independently hydrogen, halogen, or a hydrocarbyl group or hydrocarbyloxy group having 1 to 10 carbon atoms; and n is 0
or 1; and the ratio of phenolic hydroxyl groups to epoxide groups is
0.01:1 to 0.5:1, preferably 0.05:1 to
0.25:1, more preferably 0.1:1~
component (a) and (b) in such amounts as to be 0.2:1;
The expression () or () in which the component exists
at least one divalent phenol represented by; or (3) a mixture thereof; at least one of the following; and (B) A has 1 to 12 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms. a divalent hydrocarbyl group having -S-,
-S-S-,

【匏】【formula】 【匏】【formula】

【匏】 あるいは――であり各がハロゲン、奜た
しくは臭玠であり各が独立に氎玠、ハロゲ
ン、あるいは〜10個の炭玠原子を有するヒド
ロカルビル基あるいはヒドロカルビロキシ基で
ありか぀があるいはである匏あ
るいはにより衚わされる少なくずも䞀皮
のハロゲン化二䟡プノヌル から成り、か぀成分(A)および成分(B)が、プノヌ
ル性ヒドロキシル基察゚ポキシド基比が0.7
〜1.1、奜たしくは0.85〜、曎に
奜たしくは0.9〜0.95〜であるような量で
存圚するこずを特城ずするキナア性組成物に関す
る。 曎に組成物は、任意に、 (C) (A)および(B)の成分の反応を実斜するための觊
媒量の少なくずも䞀皮の觊媒および (D) (A)、(B)、(C)および(D)成分の党重量に基き〜
50重量、奜たしくは10〜45重量、曎に奜た
しくは30〜40重量の少なくずも䞀皮の溶剀 から成る。 本発明は曎に前述の組成物を透浞させた物質お
よびそれから぀くられたラミネヌトに関する。 䞀般匏 䞀般匏 䞀般匏 䞀般匏 䞀般匏 䞀般匏 䞀般匏 䞀般匏 䞀般匏 䞀般匏 ここで䜿甚しうる特に適圓な゚ポキシ暹脂は、
䟋えばトリスヒドロキシプニルメタンのト
リヌグリシゞル゚ヌテル、これらの高分子同族
䜓、二䟡のプノヌル改質トリス゚ポキシド、フ
゚ノヌル―ホルムアルデヒド゚ポキシ―ノボラツ
ク暹脂、クレゟヌル―ホルムアルデヒド゚ポキシ
ノボラツク暹脂、レゟルシン―ホルムアルデヒド
゚ポキシノボラツク暹脂、プノヌル―グリオキ
ザヌル゚ポキシノボラツク暹脂、およびこれらの
混合物である。 特に適圓な二䟡゚フノヌルおよびハロゲン化二
䟡プノヌルは、䟋えば、ビスプノヌル、テ
トラブロモビスプノヌル、ビスプノヌル
、テトラブロモビスプノヌル、ビスプノ
ヌル、テトラブロモビスプノヌル、テトラブロ
モゞヒドロキシベンゟプノン、レゟルシン、テ
トラブロモレゟルシンおよびこれらの混合物であ
る。 平均個を越える官胜基を持぀倚官胜性プノ
ヌル化合物は、本発明においお所望であれば組成
物のキナア性を改良するためにゞプノヌル化合
物ず共に䜿甚するこずができる。特に適圓な倚官
胜性プノヌル化合物は、䟋えば平均官胜基数が
〜個のプノヌルホルムアルデヒド瞮合物、
平均官胜基数が〜個のプノヌルヒドロキシ
ベンズアルデヒド瞮合物、および平均官胜基数が
〜個のクレゟヌル―ホルムアルデヒド瞮合物
である。 ゚ポキシ暹脂ずプノヌル性ヒドロキシ含有化
合物ずの反応を実斜するための適圓な觊媒は、䟋
えばアメリカ特蚱No.33068723341580
3379684347799035478813637590
3843605394885539562374048141
4093650413163341327064171420
4177216430257443202224358578
4366295および4389520に蚘茉の觊媒である。 適圓な觊媒は第四ホスホニりム化合物および第
四アンモニりム化合物であり、䟋えば゚チルトリ
プニルホスホニりムクロラむド、゚チルトリフ
゚ニルホスホニりムブロマむド、゚チルトリプ
ニルホスホニりムむオダむド、゚チルトリプニ
ルホスホニりムアセテヌト、゚チルトリプニル
ホスホニりムゞアセテヌト゚チルトリプニル
ホスホニりムアセテヌト・酢酞コンプレツクス、
゚チルトリプニルホスホニりムテトラハロボレ
゚ヌト、テトラブチルホスホニりムクロラむド、
テトラブチルホスホニりムアセテト、テトラブチ
ルホスホニりムゞアセテヌトテトラブチルホス
ホニりムアセテヌト・酢酞コンプレツクス、テ
トラブチルホスホニりムテトラハロボレ゚ヌト、
ブチルトリプニルホスホニりムテトラブロモビ
スプネヌト、ブチルトリプニルホスホニりム
ビスプネヌト、ブチルトリプニルホスホニり
ムビカヌボネヌト、ベンゞルトリメチルアンモニ
りム―クロラむド、ベンゞルトリメチルアンモニ
りムヒドロキシド、ベンゞルトリメチルアンモニ
りムテトラハロボレ゚ヌト、テトラメチル―アン
モニりムヒドロキシド、テトラブチルアンモニり
ムヒドロキシド、テトラブチルアンモニりムテト
ラハロボレ゚ヌト、およびこれらの混合物であ
る。 觊媒量は、適圓な觊媒量であれば党お䜿甚され
うるが、奜適な量は、反応剀の重量に基き、
0.001〜10重量であり、曎に奜たしくは、0.05
〜重量である。 その他の適圓な觊媒は第䞉アミンであり、䟋え
ばトリ゚チルアミン、トリプロピルアミン、トリ
ブチル―アミン、―メチルむミダゟヌル、ベン
ゞルゞメチルアミンおよびこれらの混合物であ
る。 曎にその他の適圓な觊媒はアンモニりム化合物
であり、䟋えば、トリ゚チルアンモニりムクロラ
むド、トリ゚チルアンモニりムブロマむド、トリ
゚チルアンモニりムむオダむド、トリ゚チルアン
モニりムテトラハロボレ゚ヌト、トリブチル―ア
ンモニりムクロラむド、トリブチルアンモニりム
ブロマむド、トリブチルアンモニりムむオダむ
ド、トリブチルアンモニりムテトラハロボレ゚ヌ
ト、N′―ゞメチル――ゞアミノ゚タ
ン・テトラハロホり酞コンプレツクスおよびこれ
らの混合物である。 曎にその他の適圓な觊媒は、適圓な非吞栞酞ず
の䟋えばフルオボリツク、フルオアルセニツク、
フルオアンチモニツク、フルオホスホリツク、パ
ヌクロリツク、パヌブロミツク、パヌむオデむツ
ク、およびこれらの混合物ずの第䞉および第四ア
ンモニりム、ホスホニりムおよびアルセニツク付
加物あるいはコンプレツクスである。 ここで䜿甚しうる適圓な溶剀は、䟋えばケト
ン、アルコヌル、グリコヌル゚ヌテルおよびアミ
ドであり、䟋えば、アセトン、メチル゚チルケト
ン、メタノヌル、プロピレングリコヌルモノメチ
ル゚ヌテルおよびゞメチルホルムアミドである。 本発明の組成物は曎に所望ならば安定剀、顔
料、染料、離型剀、流動調敎剀、補匷剀、充填
剀、難燃剀、ゎム改質剀、界面掻性剀、促進剀、
反応垌釈剀およびこれらの混合物を含有するこず
ができる。 ここで䜿甚しうる適圓な安定剀は、䟋えば次の
䞀般匏により衚わされるものである。 匏䞭、各R1は独立に氎玠、〜10個の炭玠原
子を有するヒドロカルビル基あるいはハロゲンで
あり、R2は〜10個の炭玠原子を有するヒドロ
カルビル基である。 特に適圓な安定剀は、䟋えばメチル―トル゚
ンスルホネヌト、゚チル―トル゚ンスルホネヌ
ト、メチルクロロベンれンスルホネヌト、および
これらの配合物である。奜適な安定剀はメチル
―トル゚ンスルホネヌトである。 安定剀は、いかなる適圓な安定化量においおも
䜿甚されるが、奜適な量ぱポキシ暹脂成分重量
に基き、0.001〜10重量であり、曎に奜適には
0.01〜重量である。 本発明の組成物は、透浞基材のような甚途に適
しおおり、曎にコヌテむング、接着、鋳型成圢、
電子カプセルずしお又容噚ずしおも適しおいる。 ここで䜿甚しうる適圓な基材は、䟋えばガラ
ス、カヌボン、グラフアむト、合成繊維、石英お
よびこれらの混合物の織蟌み、マツトあるいは䞍
織のフアむバヌあるいはフむラメントである。透
浞基材は文献に公知の条件を甚いおキナアするこ
ずができる。 構造甚あるいは電気甚ラミネヌトあるいはコン
ポゞツトは䞀局以䞊のキナア透浞基材あるいは組
合せ基材から぀くられる。電気甚ラミネヌトは通
垞少なくずも䞀぀の倖局の導電材を有しおいる。
奜適な導電材は銅である。 以䞋の実斜䟋により本発明を説明するが、これ
は劂䜕なる堎合においおもこれらの範囲を限定す
るものではない。 砎断匷床の枬定G1c G1c砎断匷床あるいは“臚界ひずみ゚ネルギヌ
攟出率”の枬定方法は、プラス材料のための
ASTM ―399によ぀た。これは本来金属に関
するものである。簡易匵力テストは珟圚広く利甚
されおおり、J.Mater.Sci.Vol.16、2657、1981に
蚘茉されおいる。通垞の1/8″3.175mm厚の平
担な成圢物から各テストピヌスを玄1″25.4mm
平方の倧きさに切りず぀た。その䞀端の䞭倮に玄
″6.25mm深さの蟻ほぞノツチを切り蟌ん
だ。぀いでこのノツチにレザヌ刃を挿入し軜くた
たいお若干の亀裂を぀く぀た。次にASTM ―
399蚘茉のように蟻みぞの近くに個の穎をあけ、
そのテストピヌスをむンストロンテスト噚にピン
で固定した。぀いでサンプルを0.02inchmin
0.0085min/secのテスト速床を䌞ばし予かじめ
぀く぀おおいた亀裂の開口郚を倧きくするために
芁する力を枬定した。この力は所望のサンプルの
倧きさおよび実際のあらかじめ぀く぀た亀裂の長
さず共にASTM――399蚘茉の公匏に䜿甚さ
れ、“応力増加係数”を算出した。぀いでこれ
をこの材料の匕匵りモゞナヌルずポア゜ン比ずに
よりG1c倀を算出した。これは通垞、ergscm2×
106あるいはKJm2で瀺す。各皮のプラスチツク
および金属に関する代衚的なG1c倀の比范は、
Lee、L.H.、“Physicochemical Aspects of
Polymer Surfaces”、K.L.Mittal、ed.Plenum
Press、New York、N.Y.、1983に蚘茉されおい
る。 Tgは、范正Dupont Instrument1090コントロ
ヌラヌ付きModelNo.912を䜿甚した瀺差走査熱
量蚈により枬定した。サンプルは窒玠雰囲気䞋、
加枩速床10℃min0.1667℃/secで枬定した。 熱膚匵係数CTEは、范正Dupont
Thermal Mechanical Analyzer1090コントロ
ヌラヌ付きModelNo.943を甚いお枬定した。 分解性は、Dupont Thermal Gravinetric
AnalyzerDupont1090コントロヌラヌ付き
ModelNo.951を甚いお枬定した。 動的機械匷床は、Dupont Dynamic
Mechanical AnalyzerDupont1090コントロヌ
ラヌ付きModelNo.982により枬定した。 実斜䟋および比范䟋においおは、次の成分を䜿
甚した。 ゚ポキシ暹脂は、EEWが220で平均官胜基数
が3.5のプノヌル―ヒドロキシベンズ―アルデ
ヒド瞮合物のポリグリシゞル゚ヌテルである。 ゚ポキシ暹脂は、EEWが162で、平均官胜基
数が3.2のプノヌル―ヒドロキシベンズ―アル
デヒド瞮合物のポリグリシゞル゚ヌテルである。 ゚ポキシ暹脂は、゚ポキシ暹脂をテトラブ
ロモビスプノヌルで改質したEEWが215の改
質゚ポキシ暹脂である。 ゚ポキシ暹脂は、EEWが204で、平均官胜基
数が、のプノヌル―ヒドロキシベンズ―ア
ルデヒド瞮合物のポリグリシゞル゚ヌテルであ
る。 ゚ポキシ暹脂は、゚ポキシ暹脂をテトラブ
ロモビスプノヌルで改質したEEWが239の改
質゚ポキシ暹脂である。 ゚ポキシ暹脂は、EEWが185で平均官胜基数
がのゞメチルプノヌル―ヒドロキシベンズ―
アルデヒド瞮合物のポリグリシゞル゚ヌテルであ
る。 ゚ポキシ暹脂は、EEWが189で平均官胜基数
がのゞメチルプノヌル―ゞメチルベンズ―ア
ルデヒド瞮合物のポリグリゞシル゚ヌテルであ
る。 ゚ポキシ暹脂は、平均官胜基数、で
EEWが178のプノヌル―ホルムアルデヒド゚ポ
キシノボラツク暹脂である。 ゚ポキシ暹脂は、平均官胜基数が、で
EEWが203のプノヌル―ホルムアルデヒド゚ポ
キシノボラツク暹脂である。 ゚ポキシ暹脂は、平均官胜基数が3.5、EEW
が285、党ブロムが36のブロム化プノヌルホ
ルムアルデヒド゚ポキシノボラツク暹脂である。 ゚ポキシ暹脂は、平均官胜基数が3.5、EEW
が211のクレゟヌル―ホルムアルデヒド゚ポキシ
ノボラツク暹脂である。 ゚ポキシ暹脂は、平均官胜基数が、EEW
が211のクレゟヌル―ホルムアルデヒド゚ポキシ
ノボラツク暹脂である。 ゚ポキシ暹脂は、平均官胜基数が7.5、EEW
が210のクレゟヌル―ホルムアルデヒド゚ポキシ
ノボラツク暹脂である。 ゚ポキシ暹脂は、平均官胜基数が4.2、EEW
が231のプノヌルグリオキザヌル゚ポキシノ
ボラツク暹脂である。 実斜䟋  テトラブロモビスプノヌルTBBPA
56.870.209圓量ず゚ポキシ暹脂A50
0.227圓量ずを150℃で混合撹拌し、TBBPA
を完党に溶解した玄180sec。぀いでテトラブ
チルホスホニりムアセテヌト・酢酞コンプレツク
スの70メタノヌル溶液0.214を添加し、撹拌
した。぀ぎに溶液を脱ガスした。぀いで生成混合
物をFluoroglide離圢剀で凊理し、玄175℃に予熱
したアルミニりムモヌルドに泚入した。モヌルド
は1/8″3.175mm間隔で固定した。぀いで充填
モヌルドを200℃のオヌブン䞭に時間7200秒
入れおおいた。成圢物を宀枩たで冷华埌、ずり出
し物性を枬定した。結果を以䞋に瀺す。 G1c51KJm2 Tg180℃ 100℃より䜎枩で熱膚匵係数は65ppm/
℃ 実斜䟋   ワニス配合物 実斜䟋で甚いた75トリス゚ポキシドのメ
チル゚チルケトン溶液29179.944圓量60
TBBPAのメチル゚チルケトン溶液4048
8.929圓量―メチルむミダゟヌル3.3
およびアセトン200。 䞊述の混合物の75〓23.9℃におけるNo.
2Zahn cupの粘床は21秒であ぀た。  事前透浞基材の補造 1617仕䞊げのBurlington style7628ガラス垃
を実斜䟋―のワニス配合物により最初の
19.5feet5.9が350〓176.7℃に加熱し
た党長26feet7.9の匷制通颚盎立凊理噚
䞭、10feet50.8mm/secで透浞させた。透浞ガラ
ス垃の含有暹脂のゲル時間は、171℃で73秒で
あ぀た。たた぀くられた透浞ガラス垃の暹脂含
有量は47重量であ぀た。  ラミネヌトの補造 前述の透浞基材を甚いお䞡面が未被芆銅な
しのおよび䞀面が銅被芆0.062″1.57mm厚の
ラミネヌトをプレスした。぀いで12inch×
12inch304.8mm×304.8mmの局をラミネヌト
圢にプレスした。銅ホむルは、1ounceの酞化
亜鉛凊理材である。ラミネヌトのプレスは350
〓176.7℃500psi3.45MPaで時間
3600秒予熱Wabashプレスにお行぀た。埌
キナアは行なわなか぀た。 未被芆ラミネヌトの性質を次に瀺す。  Tg280℃  動的分解枩床は、314℃℃/min、0.05
℃にお操䜜。  250℃60分3600秒での分解安定性は、
良奜。  ―軞熱膚匵係数は、46.7ppm/℃
α1。  157℃たで本来の動的匟性を維持。  盞察的な耐湿性は、32″×4″50.8×101.6
mmの未被芆ラミネヌト片を15psi103PKa
の蒞気圧の加圧ポツトに時間7200秒入
れるこずにより枬定。時間埌に取出し、衚
面を也燥し500〓260℃の融觊ロり䞭に20
秒浞挬した。぀いで個の詊隓片の䞡偎面に
぀いお脱ラミネヌトふくれを調べた。結果は
ふくれのない偎面の数を合蚈偎面の数で割぀
た倀で瀺した。6/6ず完党であり、100合栌
であ぀た。 被芆ラミネヌトの銅はくり匷床は、〜4.81
700〜841N/mであ぀た。 実斜䟋   ワニス配合物 ワニス配合物は、以䞋のものから぀く぀た。 75゚ポキシ暹脂メチル゚チルケトン溶液
25328.833圓量 60TBBPAメチル゚チルケトン溶液
38088.40圓量 ゚チルトリプニルホスホニりムアセテヌト
8.55 䞊述の混合物の75〓23.9℃におけるNo.
2Zahn Cupの粘床は、20秒であ぀た。  事前浞透基材の補造 1617仕䞊げのBurlington style7628ガラス垃
を実斜䟋―のワニス配合物により最初の
19.5feet5.9を350〓176.7℃に加熱し
た党長26feet7.9の匷制通颚盎立凊理噚
䞭、10feetmin50.8mm/secで透浞させた。
透浞ガラス垃䞭の含有暹脂のゲル時間は171℃
で97秒であ぀た。たた生成透浞ガラス垃の暹脂
含有量は44.4重量であ぀た。  ラミネヌトの補造 䞡偎面が未被芆および片面が銅被芆のラミネ
ヌトを実斜䟋―蚘茉ず同じ方法で぀く぀
た。 未被芆ラミネヌトの性質を以䞋に瀺す。  Tg184℃  盞察的な耐湿性は、実斜䟋の項蚘茉ず
同じ方法で枬定した。結果は個の詊隓片で
ず完党で100合栌であ぀た。 被芆ラミネヌトの銅はくり匷床は、4.8〜
5.61b/in.841〜981N/mであ぀た。 実斜䟋 〜16 本実斜䟋は、第衚に瀺す成分および条件を甚
い、実斜䟋ず同じ方法で行぀た。生成物の性質
を第衚に瀺す。
[Formula] or -O-; each X is halogen, preferably bromine; each Y is independently hydrogen, halogen, or a hydrocarbyl or hydrocarbyloxy group having 1 to 10 carbon atoms; and at least one halogenated dihydric phenol represented by formula () or (), where n is 0 or 1; and component (A) and component (B) have a ratio of phenolic hydroxyl groups to epoxide groups. 0.7:1
1.1:1, preferably 0.85:1 to 1:1, more preferably 0.9:1 to 0.95-1. The composition further comprises, optionally, (C) a catalytic amount of at least one catalyst for carrying out the reaction of components (A) and (B); and (D) (A), (B), (C). and (D) 0 to 0 based on the total weight of component
50% by weight, preferably 10-45% by weight, more preferably 30-40% by weight of at least one solvent; The invention further relates to materials impregnated with the aforementioned compositions and laminates made therefrom. General formula () General formula () General formula () General formula () General formula () General formula () General formula () General formula () General formula () General formula () Particularly suitable epoxy resins that may be used herein are:
For example, triglycidyl ether of tris(hydroxyphenyl)methane, polymeric homologs thereof, divalent phenol-modified tris epoxides, phenol-formaldehyde epoxy-novolac resins, cresol-formaldehyde epoxy novolac resins, resorcinol-formaldehyde epoxy novolac resins, lac resins, phenol-glyoxal epoxy novolac resins, and mixtures thereof. Particularly suitable dihydric phenols and halogenated dihydric phenols are, for example, bisphenol A, tetrabromobisphenol A, bisphenol S, tetrabromobisphenol S, bisphenol, tetrabromobisphenol, tetrabromodihydroxybenzophenone. , resorcinol, tetrabromoresorcinol and mixtures thereof. Multifunctional phenolic compounds having an average of more than two functional groups can be used in the present invention, if desired, in conjunction with diphenolic compounds to improve the curing properties of the composition. Particularly suitable polyfunctional phenolic compounds are, for example, phenol formaldehyde condensates with an average functional number of 3 to 8;
These are a phenol hydroxybenzaldehyde condensate having an average number of functional groups of 3 to 7, and a cresol-formaldehyde condensate having an average number of functional groups of 3 to 8. Suitable catalysts for carrying out the reaction of epoxy resins with phenolic hydroxy-containing compounds are, for example, US Pat. No. 3306872; 3341580;
3379684; 3477990; 3547881; 3637590;
3843605; 3948855; 3956237; 4048141;
4093650; 4131633; 4132706; 4171420;
4177216; 4302574; 4320222; 4358578;
4366295; and 4389520; Suitable catalysts are quaternary phosphonium compounds and quaternary ammonium compounds, such as ethyltriphenylphosphonium chloride, ethyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium iodide, ethyltriphenylphosphonium acetate, ethyltriphenylphosphonium diacetate (ethyltriphenylphosphonium diacetate) triphenylphosphonium acetate/acetic acid complex),
Ethyl triphenylphosphonium tetrahaloborate, tetrabutylphosphonium chloride,
Tetrabutylphosphonium acetate, tetrabutylphosphonium diacetate (tetrabutylphosphonium acetate/acetic acid complex), tetrabutylphosphonium tetrahaloborate,
Butyl triphenylphosphonium tetrabromobisphenate, butyl triphenylphosphonium bisphenate, butyl triphenyl phosphonium bicarbonate, benzyl trimethyl ammonium chloride, benzyl trimethyl ammonium hydroxide, benzyl trimethyl ammonium tetrahaloboreate, tetramethyl ammonium hydroxy tetrabutylammonium hydroxide, tetrabutylammonium tetrahaloborate, and mixtures thereof. Although any suitable amount of catalyst may be used, suitable amounts are based on the weight of the reactants:
0.001 to 10% by weight, more preferably 0.05%
~5% by weight. Other suitable catalysts are tertiary amines, such as triethylamine, tripropylamine, tributylamine, 2-methylimidazole, benzyldimethylamine and mixtures thereof. Further suitable catalysts are ammonium compounds, such as triethylammonium chloride, triethylammonium bromide, triethylammonium iodide, triethylammonium tetrahaloborate, tributyl-ammonium chloride, tributylammonium bromide, tributylammonium iodide, tributylammonium tetrahaloborate, N,N'-dimethyl-1,2-diaminoethane-tetrahaloborate complex, and mixtures thereof. Further suitable catalysts include, for example, fluorocarbons, fluoroarsenics, etc. with suitable non-nucleic acids.
tertiary and quaternary ammonium, phosphonium and arsenic adducts or complexes with fluoroantimonics, fluorophosphorics, perchlorics, perbromics, periodics, and mixtures thereof. Suitable solvents that can be used here are, for example, ketones, alcohols, glycol ethers and amides, such as acetone, methyl ethyl ketone, methanol, propylene glycol monomethyl ether and dimethyl formamide. The compositions of the present invention may further contain stabilizers, pigments, dyes, mold release agents, flow control agents, reinforcing agents, fillers, flame retardants, rubber modifiers, surfactants, accelerators, if desired.
It can contain reaction diluents and mixtures thereof. Suitable stabilizers that can be used here are, for example, those represented by the following general formula. (wherein each R 1 is independently hydrogen, a hydrocarbyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen, and R 2 is a hydrocarbyl group having 1 to 10 carbon atoms). Particularly suitable stabilizers are, for example, methyl p-toluenesulfonate, ethyl p-toluenesulfonate, methylchlorobenzenesulfonate, and mixtures thereof. A preferred stabilizer is methyl p
-Toluene sulfonate. The stabilizer may be used in any suitable stabilizing amount, but preferred amounts are from 0.001 to 10% by weight, based on the weight of the epoxy resin component, and more preferably
It is 0.01 to 2% by weight. The compositions of the present invention are suitable for applications such as permeable substrates, as well as coatings, adhesives, molding,
It is suitable as an electronic capsule and also as a container. Suitable substrates that can be used here are, for example, woven, matte or non-woven fibers or filaments of glass, carbon, graphite, synthetic fibers, quartz and mixtures thereof. The impregnated substrate can be cured using conditions known in the literature. Structural or electrical laminates or composites are made from one or more layers of cured substrates or combination substrates. Electrical laminates typically have at least one outer layer of electrically conductive material.
The preferred conductive material is copper. The following examples illustrate the invention, but are not intended to limit its scope in any way. Measuring Breaking Strength (G 1c ) The method for measuring G 1c (breaking strength or “critical strain energy release rate”) is the same for positive materials.
Based on ASTM E-399. This is primarily about metals. The simple tension test is now widely used and is described in J. Mater. Sci. Vol. 16, 2657, 1981. Each test piece is approximately 1″ (25.4mm) thick from a regular 1/8″ (3.175mm) thick flat molding.
Cut it into square pieces. I cut a dovetail notch about 1/4" (6.25mm) deep in the center of one end. I then inserted a razor blade into the notch and tapped it lightly to create a slight crack. Next, I cut an ASTM E-
Drill two holes near the ant groove as described in 399,
The test piece was pinned to the Instron tester. Then sample at 0.02inch/min
The test speed (0.0085 min/sec) was increased to measure the force required to enlarge the opening of a crack that had been pre-tightened. This force, along with the desired sample size and actual pre-crack length, was used in the formula described in ASTM-E-399 to calculate the "stress increase factor" Q. Then, the G 1c value was calculated from the tensile module and Poisson's ratio of this material. This is typically ergs/cm 2 ×
Expressed in 10 6 or KJ/m 2 . A comparison of typical G 1c values for various plastics and metals can be found at
Lee, L.H., “Physicochemical Aspects of
Polymer Surfaces”, KLMittal, ed. Plenum
Press, New York, NY, 1983. Tg was measured by differential scanning calorimetry using a calibrated Dupont Instrument (Model No. 912 with 1090 controller). The sample was placed under a nitrogen atmosphere.
Measurement was performed at a heating rate of 10°C/min (0.1667°C/sec). Coefficient of thermal expansion (CTE) calibrated Dupont
Measured using a Thermal Mechanical Analyzer (Model No. 943 with 1090 controller). Degradability is Dupont Thermal Gravinetric
Analyzer (with Dupont 1090 controller)
Model No. 951). Dynamic mechanical strength is Dupont Dynamic
Measured using Mechanical Analyzer (Model No. 982 with Dupont 1090 controller). In the Examples and Comparative Examples, the following components were used. Epoxy resin A is a polyglycidyl ether of a phenol-hydroxybenz-aldehyde condensate with an EEW of 220 and an average functionality of 3.5. Epoxy resin B is a polyglycidyl ether of a phenol-hydroxybenz-aldehyde condensate with an EEW of 162 and an average functional group number of 3.2. Epoxy resin C is a modified epoxy resin having an EEW of 215, which is obtained by modifying epoxy resin B with tetrabromobisphenol A. Epoxy resin D is a polyglycidyl ether of a phenol-hydroxybenz-aldehyde condensate having an EEW of 204 and an average number of functional groups of 3 to 4. Epoxy resin E is a modified epoxy resin obtained by modifying epoxy resin B with tetrabromobisphenol A and has an EEW of 239. Epoxy resin F is dimethylphenol-hydroxybenz- with an EEW of 185 and an average number of functional groups of 3.
It is a polyglycidyl ether of an aldehyde condensate. Epoxy resin G is a polyglydisyl ether of dimethylphenol-dimethylbenz-aldehyde condensate with an EEW of 189 and an average number of functional groups of 3. Epoxy resin H has an average functional group number of 3.6.
It is a phenol-formaldehyde epoxy novolak resin with an EEW of 178. Epoxy resin has an average number of functional groups of 5 or 6.
It is a phenol-formaldehyde epoxy novolak resin with an EEW of 203. Epoxy resin J has an average number of functional groups of 3.5, EEW
It is a brominated phenol formaldehyde epoxy novolac resin with a total bromine content of 285 and a total bromine% of 36. Epoxy resin K has an average number of functional groups of 3.5 and EEW
211 is a cresol-formaldehyde epoxy novolak resin. Epoxy resin L has an average number of functional groups of 5, EEW
211 is a cresol-formaldehyde epoxy novolak resin. Epoxy resin M has an average number of functional groups of 7.5, EEW
210 is a cresol-formaldehyde epoxy novolac resin. Epoxy resin N has an average number of functional groups of 4.2, EEW
is a phenol/glyoxal epoxy novolak resin with 231. Example 1 Tetrabromobisphenol A (TBBPA)
56.87g (0.209 equivalent) and 50g of epoxy resin A
(0.227 equivalent) at 150℃, TBBPA
was completely dissolved (about 180 seconds). Then, 0.214 g of a 70% methanol solution of tetrabutylphosphonium acetate/acetic acid complex was added and stirred. The solution was then degassed. The resulting mixture was then treated with Fluoroglide mold release agent and poured into an aluminum mold preheated to about 175°C. The molds were fixed at 1/8″ (3.175mm) intervals.Then, the filled molds were placed in an oven at 200℃ for 2 hours (7200 seconds).
I put it in. After cooling the molded product to room temperature, it was taken out and its physical properties were measured. The results are shown below. G 1c =. 51KJ/m 2 Tg=180℃ The thermal expansion coefficient at lower temperature than 100℃ is 65ppm/
℃ Example 2 A Varnish formulation 2917 g (9.944 equivalents) of the 75% Tris epoxide solution in methyl ethyl ketone used in Example 1; 60
%TBBPA in methyl ethyl ketone solution 4048g
(8.929 equivalents); 2-methylimidazole 3.3g;
and 200g of acetone. No. 75〓 (23.9℃) of the above mixture.
The viscosity of 2Zahn cups was 21 seconds. B Pre-impregnated Substrate Preparation A Burlington style 7628 glass cloth with a 1617 finish was first coated with the varnish formulation of Example 2-A.
19.5 feet (5.9 m) was permeated at 10 feet (50.8 mm/sec) in a 26 foot (7.9 m) forced-air upright treatment vessel heated to 350 °C (176.7 °C). The gel time was 73 seconds at 171°C.The resin content of the impregnated glass cloth produced was 47% by weight. C. Manufacture of laminate The impregnated substrate described above was used to coat both sides. (no copper) and one side copper coated 0.062″ (1.57mm) thick laminate was pressed. Then 12inch x
Eight layers of 12 inches (304.8 mm x 304.8 mm) were pressed into a laminate shape. The copper foil is 1 ounce zinc oxide treated material. Laminate press is 350
(176.7°C) at 500 psi (3.45 MPa) for 1 hour (3600 seconds) in a preheated Wabash press. I did not do any post-Kyuua. The properties of the uncoated laminate are shown below. 1 Tg=280℃ 2 Dynamic decomposition temperature is 314℃ (3℃/min, 0.05
(operated at °C/sec). 3 The decomposition stability at 250℃; 60 minutes (3600 seconds) is
Good. 4 Z-axis thermal expansion coefficient is 46.7 (ppm/℃
(α 1 )). 5 Maintains original dynamic elasticity up to 157℃. 6 Relative moisture resistance is 32″ x 4″ (50.8 x 101.6
mm) uncoated laminate piece to 15psi (103PKa)
Measured by placing in a pressurized pot with a vapor pressure of 2 hours (7200 seconds). After 2 hours, take it out, dry the surface, and place it in melting wax at 500㎓ (260℃) for 20 minutes.
Dipped for seconds. Delamination blisters were then examined on both sides of the three specimens. The results were expressed as the number of sides without bulges divided by the total number of sides. The score was 6/6, giving a 100% pass. Copper peeling strength of coated laminate is 4 to 4.81
b/in. (700-841N/m). Example 3 A Varnish formulation A varnish formulation was made from the following. 75% epoxy resin C methyl ethyl ketone solution
2532g (8.833 equivalents); 60% TBBPA methyl ethyl ketone solution
3808g (8.40 equivalents); Ethyltriphenylphosphonium acetate
8.55g; No. 75〓 (23.9℃) of the above mixture.
The viscosity of the 2Zahn Cup was 20 seconds. B. Pre-impregnated Substrate Preparation A Burlington style 7628 glass fabric with a 1617 finish was first coated with the varnish formulation of Example 3-A.
19.5 feet (5.9 m) were infiltrated at 10 feet/min (50.8 mm/sec) in a 26 foot (7.9 m) total length forced draft upright processor heated to 350° (176.7°C).
The gel time of the resin contained in the impregnated glass cloth is 171℃
It took 97 seconds. The resin content of the resulting impregnated glass cloth was 44.4% by weight. C. Preparation of Laminates Laminates with uncoated sides and copper coating on one side were made in the same manner as described in Example 2-C. The properties of the uncoated laminate are shown below. 1 Tg=184°C 2 Relative moisture resistance was measured in the same manner as described in Example 2, Section 6. The results were 8/8 for 4 test pieces, a perfect 100% pass. Copper peeling strength of coated laminate is 4.8 ~
It was 5.61 b/in. (841 to 981 N/m). Examples 4 to 16 This example was carried out in the same manner as Example 1 using the ingredients and conditions shown in Table 1. The properties of the product are shown in Table 1.

【衚】【table】

【衚】【table】

【衚】  透明暹脂を混合埌、キナアリングのために小さな
アルミニりムモヌルトに泚入した。
実斜䟋 17 ゚ポキシ暹脂A1000.4545圓量、テトラブ
ロモビスプノヌルA1140.41829圓量お
よびメチル゚チルケトン110から成る配合組成
物を぀く぀た。この暹脂溶液の25℃および50℃で
の安定性を枬定した。この安定性は経過時間にお
ける゚ポキシドの倉化に関するものである。曎
に溶液ぞメチル――トル゚ンスルホネヌトを添
加しお暹脂系の安定性に察する効果を調べた。結
果を第衚に瀺す。 第  衚 25℃における安定性安定剀なし 時 間 ゚ポキツド  6.3 日172800秒 6.2 27日2332800秒 6.0 90日7776000秒 5.6 50℃における安定性安定剀なし 時 間 ゚ポキシド  6.3 日172800秒 6.1 27日2332800秒 4.8 90日7776000秒 ゲル化 50℃における安定性安定剀*添加 時 間 ゚ポキシド  6.3 日172800秒 6.2 27日2332800秒 6.1 90日7776000秒 5.6 240日20736000秒 4.9  暹脂40に察しメチル――トル゚ンスル
ホネヌト0.1を添加。
[Table] 3 After mixing the transparent resin, it was poured into a small aluminum mold for curing.
Example 17 A blended composition was prepared consisting of 100 g (0.4545 g equivalent) of epoxy resin A, 114 g (0.41829 g eq.) tetrabromobisphenol A, and 110 g methyl ethyl ketone. The stability of this resin solution at 25°C and 50°C was measured. This stability is related to the change in % epoxide over time. Additionally, methyl-p-toluenesulfonate was added to the solution to examine its effect on the stability of the resin system. The results are shown in Table 2. Table 2 Stability at 25℃ (without stabilizer) Time Epoxide % 0 6.3 2 days (172800 seconds) 6.2 27 days (2332800 seconds) 6.0 90 days (7776000 seconds) 5.6 Stability at 50℃ (without stabilizer) Time Epoxide% 0 6.3 2 days (172800 seconds) 6.1 27 days (2332800 seconds) 4.8 90 days (7776000 seconds) Gelation stability at 50℃ (stabilizer * added) Time Epoxide% 0 6.3 2 days (172800 seconds ) 6.2 27 days (2332800 seconds) 6.1 90 days (7776000 seconds) 5.6 240 days (20736000 seconds) 4.9 * Add 0.1 g of methyl-p-toluenesulfonate to 40 g of resin.

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