JPS63318A - 芳香族ポリアミドの製造方法 - Google Patents

芳香族ポリアミドの製造方法

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JPS63318A
JPS63318A JP14287186A JP14287186A JPS63318A JP S63318 A JPS63318 A JP S63318A JP 14287186 A JP14287186 A JP 14287186A JP 14287186 A JP14287186 A JP 14287186A JP S63318 A JPS63318 A JP S63318A
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Yoshio Imai
淑夫 今井
Masaaki Kakimoto
雅明 柿本
Yutaka Maruyama
裕 丸山
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な芳香族ポリアミドおよびその製造方法
に関する。
本発明のポリアミドは耐熱性に優れた樹脂で、SD、ま
たポリベンズオキサゾール樹脂の原料として有用なもの
である。
〔従来の技術〕
従来より芳香族ポリベンズオキサゾールが、引張り強度
、曲げ強度、衝撃強さなどの機械的性質、熱変形温度や
熱分解などの熱的性質、耐マーク、誘電損失などの電気
的性質、耐炎性、寸法安定性などにおいて、優れた性質
を有することが知られている。
しかしながら、これらのポリベンズオキサゾールは、成
形性が悪いという欠点を持っており、そのため、予め可
溶性のポリアミドにて成形し、シカるのちにポリ、・ベ
ンズオキサゾールとする方法が提案されている(%公昭
42−19272号)。
しかし、この種のポリアミドにおいては、可溶溶媒の種
類が限定され、工業的なものではない。
一般にプラスチックにおいては、成型性に関する評価が
極めて重要な位置を占めており、たとえそのものが本質
的に優れた性質を持っていても、成凰性が悪いと、製品
を経済的に製造することができないばかりでなく、その
特性を光分に発揮することができない。
成型性は軟化温度(又は溶融温度)と、溶解性の二つの
性質に係る問題である。すなわち、軟化温度や溶融温度
が高いと、射出成型法によって製品を作る際に高い金型
温度が必要となり、コストが高くなる。又、高温での射
出成型はポリマーの熱分解を促し、製品の品質を悪くす
る。
溶液から紡糸やフィルム成型を行なう際には。
取扱いが容易で安価な溶媒にポリマーが易溶でなければ
ならない。一部の公知の芳香族ポリアミドのように1強
い鉱酸にしか溶解しない場合は、溶媒の腐食性が強いた
め装置が極めて高価となり、又、技術的にも難しいこと
が知られている。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、上記、公知の芳香族ポリアミドの欠点を
克服し、しかもその優れた性質を維持するような新しい
ポリマーの開発に努力した結果、2.2−ビス(3−ア
ミノ−4−ヒドロキシフェニル)へキサフルオロプロパ
ンヲ成分ニ持つ芳香族ポリアミドが、各種の有機溶媒に
可溶であることを見出し1本発明を完成した。
すなわち、本発明は、 (式中、丘は2価の芳香族基、nは1〜200の整数を
示す)で表わされる芳香族ポリアミドであシ、次の製造
法によって得られる。
すなわち、その製造法は2.2−ビス(3−アミノ−4
−ヒドロキシフェニル)へキサフルオロプロパンと、 一般式(II) (式中、Rは2価の芳香族基を示す)で表わされるジカ
ルボンrRまたは一般式(UDで表わされるジカルボン
酸シバライド、 (式中、Rは2価の芳香族基、Xはハロゲンを示す)も
しくは、一般式■で表わされるジカルボン酸ジエステル (式中、Rは2価の芳香族基、R1はアルキル基又はフ
ェニル基を示す)のいずれかとを反応させることを特徴
とする製造法である。
本発明において、一般式(n)で表わされるジカルボン
酸、一般式面で表わされるジカルボン酸シバライド、一
般式帖で表わされるジカルボン酸ジエステルとしては、
相当する公知の化合物総てが使用できるが、例えば、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、4.41−ビフェニルジカ
ルボン酸。
ビフェニルエーテル−4,4′−ジカルボン酸、ベンゾ
フェノン−4,41−ジカルボン酸、ベンゾスルホン−
4,4l−−)カルボンff、 2.6−ナフタレンジ
カルボン酸、ジフェニルメタン−4,41−ジカルボン
酸、4.41−イソプロピリデンジフェニル−j、++
−ジカルボンIll、4.41−へキサフルオロインプ
ロピリデンジフェニル−1,1′−ジカルボン酸、イソ
フタル酸ジクロリド、テレフタル酸ジクロリド、4.4
1−ビフェニルジカルボン酸ジクロリド、ビフェニルエ
ーテル−4,4’−ジカルボン酸ジクロリド、ベンゾフ
ェノン−4,41−ジカルボン酸ジクロリド、ぺ/ジス
ルホン−4,41−ジカルボン酸ジクロリド、2.6−
ナフタレ/ジカルボン酸ジクロリド、ジフェニルメタン
−4,4′−ジカルボン酸ジクロリド、4.4I−イソ
プロピリデンジフェニル−1,1’−ジカルボン酸ジク
ロリド、4.4′−へキサフルオロイソプロピリデンジ
フェニル−1,11−ジカルボン酸ジクロリド、イソフ
タル酸ジフェニル、テレフタル酸ジフェニル、4.4’
−ビフェニルジカルボン酸ジフェニル、ビフェニルエー
テル44′−ジカルボン酸ジフェニル、ベンゾフェノン
−441−ジカルボン酸ジフェニル、ベンゾスルホン−
441−ジカルボン酸ジフェニル、2.6−ナフタレ/
ジカルボン酸ジフェニル、ジフェニルメタン−441−
ジカルボン酸ジフェニル% 4,4I−イソプロピリデ
ンジフェニル−t、+1−ジカルボン酸ジフェニル。
4.41−へキサフルオロイソプロビリデ/ジフェニー
ル−i、11−ジカルボン酸ジフェニルなどが有効であ
る。なお、これらの芳香族ジカルボン酸、芳香族−ジカ
ルボン酸シバライド、芳香族ジカルボン酸ジエステルは
、単独で用いることも、また二種類以上を混合して用い
ることも可能である。この場合には対応する共重合体が
得られるものである。
本発明の製造法において2.21− ビス(3−アミノ
−4−ヒドロキシフェニル)へキサフルオロプロパンと
、一般式(If)で表わされる芳香族ジカルボン酸との
反応では、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジ
メチルアセトアミド、2J−メチル−2−ピロリドンな
どの有機溶媒中で室温ないし溶媒の沸点の範囲で、また
一般式(nDで貴わされる芳香族ジカルボン酸シバライ
ドとの反応は、同様の溶媒中で一]O〜50℃の範囲で
反応させる。また、2.2“−ビス(3−アミノ−4−
ヒドロキシフェニル)へキサフルオロプロパンと一般式
(財)で宍わされる芳香族ジカルボン酸ジエステルとの
反応は50〜300℃の範囲が好ましい。
以下、実施例によって本発明をよシ詳しく説明するが、
これに限定されるものではない。
(実施例−1) 窒素ガス導入口を備えた容−45omtの三つロフラス
コに、2.2 −ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフ
ェニル)へキサフルオロプロパン0.9151を採り、
ジメチルアセトアミド5 mtに溶解する。この溶液を
ドライアイス−アセトノ浴で凍結し、そこにイノフタル
酸クロリド0.508 fを添刀口する。次に水冷浴に
切蓄え、ゆつ〈9攪拌すると、溶液が徐々に融けてくる
。そのまま窒素ガス雰囲気中で5時間攪拌を続け、ポリ
アミドを得た。  ・ 生成物の赤外線吸光分析により+650c+n、160
0cmのアミドの吸収を確認した。又、元素分析の結果
は次のとおりであり、 理論値tlA      実測値糸 CHN          0HN 55.66 2.84 5.64       55.
46 261 5.78式+11で衣わされるポリアミ
ドであることを確生成物の固有粘匿は硫酸中、30℃で
ηinh−0.08鵠ηであった。
このポリアミドをガラス管に入れ、I、wH?以下に減
圧しながら250℃で20時間加熱し容易にポリベンズ
オキサゾールを得た。
(実施例−2) (実施例−1)と同じ方法で、2.2 −ビス(3−7
ミノー4−ヒドロキシフェニル)へキサフルオロプロパ
ンと%2.2− ビス(4−クロロカルボニルフェニル
)へキサフルオロプロパンを反応させポリアミドを得た
。生成物の赤外線明光分析によ[1650cm、+60
0fiのアミドの吸収を確認した。また1元素分析の結
果は次のとおりであり。
理論値(至)     実測値% OHN          CHI 33.20 2,51 3.88      53.1
7 2.34 3.91式(2)で示されるポリアミド
であることを確認した。
(実施例3) 還流冷却器と窒素ガス導入口を備えた容量100呪のフ
ラスコにビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)
へキサフルオロプロパン(]、a3oy。
5m奴)、4.41−オキシジ安息香酸(1,290?
、5mΣt)N−メチルピロリドン(10呪)、ピリジ
/(2,5mt)、亜リン酸トリフェニル(3,++f
’、l Om moj) 、塩化リチウム(o、s?)
を採り、窒素ガス雰囲気中、100℃に加熱し、6時間
攪拌する。次に反応溶液を多量の水中に徐々に投入し、
白色の固体を得た。このものの赤外線明光分析により、
1,650c&1.600 、、のアミドの吸収を確認
した。また元素分析の結果は次のとおシであり、 理論値%    実測値% C!HN        0HN 59.19 3.084,76    59.09 3
.13 4.85式(J3で衣わされるポリアミドであ
ることを確生成物は固有粘度は(A酸中、30℃でo、
+aTJ/Pであった。
(実施例4) 実施例1〜3により得た化合物(11〜(刀の有機溶剤
に対する溶解性を測定した。その結果を第1乏に示す。
なお、比叔のため従来公矧のポリアミドとして化合物(
刃、化合物(Σを調製し、同様に有機溶剤に対する溶解
性をシ11定した一 既矧の方法してより、2.2−ビス(3−アミノ−櫨−
ヒドロキシ2エニル)プロバント、インフタル酸クロリ
ドをジメチルアセトアミド溶媒中で反応させた。
既知の方法によシ 4.41−ジアミノ−3,3’−ジ
ヒドロキシビフェニルとイソフタル酸クロリドをジメチ
ルアセトアシド溶媒中で反応させた。
第1我 3;速やかに溶 2;溶解 1;一部溶解 O;不浴〔
発明の効果〕 本発明は一般式(1)で衣わされる新規な芳香族ポリア
ミドおよびこの有利な製造方法を提供する。従来この捌
の芳香族ポリアミドは有機溶媒に対さる溶解性が必ずし
も十分でないのに対し、本発明の芳香族ポリアミドは各
種の有機溶媒に可溶であり、成形が容易で、しかも優れ
た耐熱性、機械的特性を有するので、工業材料としての
価値が大きい。また環化反応により容易に対応するポリ
ベンズオキサゾールとすることができる。
特許出願人   セントラル硝子株式会社ニー−”

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは2価の芳香族基、nは1〜200の整数を
    示す)で表わされる芳香族ポリアミド。
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは2価の芳香族基、nは1〜200の整数を
    示す)で表わされる芳香族ポリアミドを製造するに当り
    、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される2.2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシ
    フェニル)ヘキサフルオロプロパンと、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは2価の芳香族基を示す。)で表わされるジ
    カルボン酸または、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは2価の芳香族基、Xはハロゲンを示す。)
    で表わされるジカルボン酸ジハライド、もしくは、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは2価の芳香族基、R^1はアルキル基又は
    フェニル基を示す。)で表わされるジカルボン酸ジエス
    テルのいずれかとを反応させることを特徴とする芳香族
    ポリアミドの製造方法。
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US6114497A (en) * 1998-10-28 2000-09-05 Sumitomo Bakelite Company Limited Polybenzoxazole resin and precursor thereof
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