JPS6344638A - 光学素子 - Google Patents
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- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な光学素子に関し、特に可溶性ポリマーの
光散乱性を利用した光学素子に関するものである。
光散乱性を利用した光学素子に関するものである。
「従来の技術、及び発明が解決しようとする問題点」
近年、オフィス・オートメーション(OA)化の発展に
伴い2表示装置(デイスプレィ)の用途が事務機器の分
野にも広く進出している。このような表示装置において
は、長時間の使用にも目の疲労を感じさせないものが望
ましい。従来、かかる表示素子としては、電解発色表示
素子(ECD)。
伴い2表示装置(デイスプレィ)の用途が事務機器の分
野にも広く進出している。このような表示装置において
は、長時間の使用にも目の疲労を感じさせないものが望
ましい。従来、かかる表示素子としては、電解発色表示
素子(ECD)。
液晶表示素子(L CD)等の非発光型のものが知られ
ている。しかしながら、ECDは表示コントラストが低
く、LCDはさらに視野角が狭いという欠点があった。
ている。しかしながら、ECDは表示コントラストが低
く、LCDはさらに視野角が狭いという欠点があった。
又、これらを元シャッタ等の光変調素子として利用する
場合にも同様の欠点があった。
場合にも同様の欠点があった。
本発明は、従来の素子におけるこのような欠点に鑑みな
されたもので1表示素子として視野角が広く、明瞭性に
優れ、長時間の使用にも目の疲労を感じさせない高品位
の素子、また、光変調素子としてコントラストが高く、
先入射角依存の小さい素子を提供することを目的とする
ものである。
されたもので1表示素子として視野角が広く、明瞭性に
優れ、長時間の使用にも目の疲労を感じさせない高品位
の素子、また、光変調素子としてコントラストが高く、
先入射角依存の小さい素子を提供することを目的とする
ものである。
以下2本発明の基本構成を、実施例に対応する第1図を
用いて説明する。
用いて説明する。
図において、1は基板、2はポリマー液層、3は透明保
護板、8は発熱要素に芸当する赤外線吸収層である。基
板1は、光学素子を透過型とした場合にはガラス類、プ
ラスチック類等の光を透すものが用いられ2反射型とし
た場合には、シリコンのような半導体類、セラミックス
類、アルミのような金属類、不透明プラスチック類等の
光を透さないもの、あるいは前記した透過性材料の表面
に金属被膜を蒸着させたもの等が用いられる。ポリマー
液層2はN−置換アクリルアミドポリマーを含む溶液か
らなる液層であり、このポリマー液層を構成するN−置
換アクリルアミドポリマーとしては2例えば、N−イソ
プロピルアクリルアミド、N−イソプロピルメタクリル
アミド、N−エチルアクリルアミド、N−n−プロピル
アクリルアミド、N−シクロプロピルアクリルアミド
N。
護板、8は発熱要素に芸当する赤外線吸収層である。基
板1は、光学素子を透過型とした場合にはガラス類、プ
ラスチック類等の光を透すものが用いられ2反射型とし
た場合には、シリコンのような半導体類、セラミックス
類、アルミのような金属類、不透明プラスチック類等の
光を透さないもの、あるいは前記した透過性材料の表面
に金属被膜を蒸着させたもの等が用いられる。ポリマー
液層2はN−置換アクリルアミドポリマーを含む溶液か
らなる液層であり、このポリマー液層を構成するN−置
換アクリルアミドポリマーとしては2例えば、N−イソ
プロピルアクリルアミド、N−イソプロピルメタクリル
アミド、N−エチルアクリルアミド、N−n−プロピル
アクリルアミド、N−シクロプロピルアクリルアミド
N。
N−エチルメチルアクリルアミド、N−アクリルピロリ
ジン、N−アクリルピペリジン等のモノマーから得られ
る重合体、あるいはそれらの間の共重合体、あるいは、
それらを主成分とする共重合体等が好適である。
ジン、N−アクリルピペリジン等のモノマーから得られ
る重合体、あるいはそれらの間の共重合体、あるいは、
それらを主成分とする共重合体等が好適である。
さらに1本発明に用いられる高分子分散安定剤としては
、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコールが好
適であるが、その他のものとしてポリエチレンイミン、
ポリアクリル酸ソーダ、アルギン酸ソーダ、ポリアリル
アミン等があげられる。これら高分子分散安定剤は、上
記N−薗換アクリルアミドポリマーの量に対して1%〜
20%の全の添加で充分であり、好ましくは1%〜10
%の範囲が最適である。
、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコールが好
適であるが、その他のものとしてポリエチレンイミン、
ポリアクリル酸ソーダ、アルギン酸ソーダ、ポリアリル
アミン等があげられる。これら高分子分散安定剤は、上
記N−薗換アクリルアミドポリマーの量に対して1%〜
20%の全の添加で充分であり、好ましくは1%〜10
%の範囲が最適である。
一方、このポリマー液層を構成する溶媒としては、水、
またはメタノール、エタノール、エチレングリコール、
グリセリン等のアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類、ジメチルホルムアミド、ヘキサメ
チルホスホリルアミド、ジメチルアセトアミド等のアミ
ド類、ピリジン、トリエチルアミン等のアミン類、ジメ
チルスルホキシド等の含硫黄溶媒類などの有機溶媒と水
との混合溶媒、あるいはそれらの溶媒に塩化カリ2の厚
さとしては、1μm−1000μmが適当であり、好ま
しくは1μm−100μmが最適な範囲である。発熱要
素としては2例えば赤外線による吸収加熱を変調手段と
して利用した場合には赤外線吸収層等が用いられる。こ
の赤外線吸収層材料は。
またはメタノール、エタノール、エチレングリコール、
グリセリン等のアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類、ジメチルホルムアミド、ヘキサメ
チルホスホリルアミド、ジメチルアセトアミド等のアミ
ド類、ピリジン、トリエチルアミン等のアミン類、ジメ
チルスルホキシド等の含硫黄溶媒類などの有機溶媒と水
との混合溶媒、あるいはそれらの溶媒に塩化カリ2の厚
さとしては、1μm−1000μmが適当であり、好ま
しくは1μm−100μmが最適な範囲である。発熱要
素としては2例えば赤外線による吸収加熱を変調手段と
して利用した場合には赤外線吸収層等が用いられる。こ
の赤外線吸収層材料は。
それ自身は熱溶融し難い各種の公知の無機、あるいは有
機材料を製膜して得られるものであり、かかる材料とし
ては2例えばSi、 Sin、 5iOz。
機材料を製膜して得られるものであり、かかる材料とし
ては2例えばSi、 Sin、 5iOz。
Zn S、 AS2 Ss 、 Al2O3、NaF、
Zn5e、 Ga −Tb@Fe、カーボンブラック
、金属フタロシアニン等が好適に用いられる。この赤外
線吸収層8の膜厚としては、500X−1ooooXが
好適な範囲である。また、透明保護板3としては、ガラ
ス類、プラスチック類、誘電体等の透明体が用いられる
。なお、フントラストの向上を図るため、基板1の表面
に可視光反射層、または可視光吸収層(図示せず)を設
けてもよい。
Zn5e、 Ga −Tb@Fe、カーボンブラック
、金属フタロシアニン等が好適に用いられる。この赤外
線吸収層8の膜厚としては、500X−1ooooXが
好適な範囲である。また、透明保護板3としては、ガラ
ス類、プラスチック類、誘電体等の透明体が用いられる
。なお、フントラストの向上を図るため、基板1の表面
に可視光反射層、または可視光吸収層(図示せず)を設
けてもよい。
「作 用」
次に、この光学素子の動作(作像、光変調)原理を、同
じく第1図を用いて説明する。なお、第1図は透過型の
例をしめす。
じく第1図を用いて説明する。なお、第1図は透過型の
例をしめす。
先ず、ポリマー液層2が加温されていない状態(すなわ
ち低温状態)では、可溶性ポリマーは溶媒中に溶解して
存在するため、ポリマー液層2の低温領域4に入射する
光線6−1は、はぼそのままポリマー液層2を通過して
基板1から射出する。
ち低温状態)では、可溶性ポリマーは溶媒中に溶解して
存在するため、ポリマー液層2の低温領域4に入射する
光線6−1は、はぼそのままポリマー液層2を通過して
基板1から射出する。
一方、情報信号に従って赤外線吸収層8の所定位置が9
例えば赤外線ビーム5の照射によって外部から加熱され
た場合、この加熱部分に接触ないし近接する領域のポリ
マー液層2も加温され、加温領域4a内の可溶性ポリマ
ーは析出し、光散乱性を示すようになる。このため、前
記加温領域4aに入射する光線6−2は、散乱(拡散)
する。この加温領域4aは、温度が下がるとまた元の透
過性の状態に戻る。
例えば赤外線ビーム5の照射によって外部から加熱され
た場合、この加熱部分に接触ないし近接する領域のポリ
マー液層2も加温され、加温領域4a内の可溶性ポリマ
ーは析出し、光散乱性を示すようになる。このため、前
記加温領域4aに入射する光線6−2は、散乱(拡散)
する。この加温領域4aは、温度が下がるとまた元の透
過性の状態に戻る。
以上の説明で明らかなように、可溶性ポリマーの散乱(
不透光)、非散乱(透光)の状態を熱的に制御すること
により、光変調や表示を行うことができる。
不透光)、非散乱(透光)の状態を熱的に制御すること
により、光変調や表示を行うことができる。
このような本発明の光学素子の作動原理は、N−置換ア
クリルアミドポリマー溶液を加熱すると溶媒に対する溶
解性が低下し、ポリマー分子同士が凝集して不溶化し、
白濁状のコロイド分散液となる。これを冷却すると速や
かに元の溶解状態にもどり透明溶液となるという現象を
利用したものである。それ故、この加熱不溶化状態が長
く保持されると、二次凝集が進行し、しだいに凝集分散
状態にあったポリマーが溶液中で分離され、沈殿を生じ
るようになる。その結果、冷却時の再溶解のスピードが
遅くなって1表示特性が悪くなったり、白濁散乱時の光
学的特性を著しく悪化させるという欠点が生じてくる。
クリルアミドポリマー溶液を加熱すると溶媒に対する溶
解性が低下し、ポリマー分子同士が凝集して不溶化し、
白濁状のコロイド分散液となる。これを冷却すると速や
かに元の溶解状態にもどり透明溶液となるという現象を
利用したものである。それ故、この加熱不溶化状態が長
く保持されると、二次凝集が進行し、しだいに凝集分散
状態にあったポリマーが溶液中で分離され、沈殿を生じ
るようになる。その結果、冷却時の再溶解のスピードが
遅くなって1表示特性が悪くなったり、白濁散乱時の光
学的特性を著しく悪化させるという欠点が生じてくる。
かかる問題点を解決するために9本発明者等が種々検討
した結果、該ポリマー溶液中に、高分子分散安定剤を添
加することにより長時間の加熱状態における不溶化ポリ
マーの二次凝集がおさえられて2表示素子としての特性
、すなわち加熱時の白濁光散乱状態が均一となり、又、
冷却時の速やかな光透過状態へのもどりが実現可能とな
った。かかる本発明の高分子分散安定剤は大量に用いる
と系の粘度が上昇して、加熱時のポリマーの一次凝集白
濁化速度が低下するので、その添加量はなるべく少ない
ことが望ましい。又、添加量が少なすぎると分散効果が
低下してしまうので、前述のごとき添加量の範囲が望ま
しいと言える。
した結果、該ポリマー溶液中に、高分子分散安定剤を添
加することにより長時間の加熱状態における不溶化ポリ
マーの二次凝集がおさえられて2表示素子としての特性
、すなわち加熱時の白濁光散乱状態が均一となり、又、
冷却時の速やかな光透過状態へのもどりが実現可能とな
った。かかる本発明の高分子分散安定剤は大量に用いる
と系の粘度が上昇して、加熱時のポリマーの一次凝集白
濁化速度が低下するので、その添加量はなるべく少ない
ことが望ましい。又、添加量が少なすぎると分散効果が
低下してしまうので、前述のごとき添加量の範囲が望ま
しいと言える。
実施例 1
第1図は本発明の第1の実施例を示す概略構成図である
。第1図において、基板1および透明保護板3として、
厚さ0.3mm、大きさ50mInX10mmの充分に
清浄なガラス板を使用し、基板1のガラス板表面上にス
パッタリング法により膜厚1500AのGd1ITb−
Fe(ガドリとラム・テルビウムφ鉄)層を付着して赤
外線吸収層8を形成した。この基板1の赤外線吸収層8
の面と、透明保護板3とをマイク−フィルムをスペーサ
ーに用いて10μmの間隔で向い合せて接着して成形し
た。
。第1図において、基板1および透明保護板3として、
厚さ0.3mm、大きさ50mInX10mmの充分に
清浄なガラス板を使用し、基板1のガラス板表面上にス
パッタリング法により膜厚1500AのGd1ITb−
Fe(ガドリとラム・テルビウムφ鉄)層を付着して赤
外線吸収層8を形成した。この基板1の赤外線吸収層8
の面と、透明保護板3とをマイク−フィルムをスペーサ
ーに用いて10μmの間隔で向い合せて接着して成形し
た。
次に、N−イソプロピルメタクリル了ミド5g。
過硫酸アンモニウム30 mgを冷水toomgに溶解
し、テトラメチルエチレンジアミン60μlを添加して
アスピレータ−にて脱気した。その後1時間室温にて放
置して重合を行い、ポリマー溶液とした。このポリマー
溶液80rnlと、ポリビニルピロリドン(K=90)
の1%水溶液201nlを混合して、基板1と透明保護
板3との隙間に充填・封入してポリマー液層を形成し、
光学素子を作製した。
し、テトラメチルエチレンジアミン60μlを添加して
アスピレータ−にて脱気した。その後1時間室温にて放
置して重合を行い、ポリマー溶液とした。このポリマー
溶液80rnlと、ポリビニルピロリドン(K=90)
の1%水溶液201nlを混合して、基板1と透明保護
板3との隙間に充填・封入してポリマー液層を形成し、
光学素子を作製した。
このようにして得られた光学素子に、出力20mW、
波長830 nmの半導体レーザービームを情報信号
に従って素子裏面から赤外線吸収層8に焦点を合せてス
キャニング照射したところ、ポリマー液層2の所定領域
が透光性から不透光性に変化することが確認された。こ
れは、ポリマー液層2の被照射領域において、半導体レ
ーザービームを吸収して熱に変換して、相接触するポリ
マー液層を加熱するためであると考えられる。なお、半
導体レーザービームによる加熱時間を種々変化させて、
短時間加熱および長時間加熱状態にしても均一な白濁不
透明化と、速やかな透明化へのもどりが観測された。
波長830 nmの半導体レーザービームを情報信号
に従って素子裏面から赤外線吸収層8に焦点を合せてス
キャニング照射したところ、ポリマー液層2の所定領域
が透光性から不透光性に変化することが確認された。こ
れは、ポリマー液層2の被照射領域において、半導体レ
ーザービームを吸収して熱に変換して、相接触するポリ
マー液層を加熱するためであると考えられる。なお、半
導体レーザービームによる加熱時間を種々変化させて、
短時間加熱および長時間加熱状態にしても均一な白濁不
透明化と、速やかな透明化へのもどりが観測された。
上記レーザービームによる照射実験を繰り返し行った結
果、再現性及び信号応答性のいずれにおいても、実用上
十分であることが判明した。
果、再現性及び信号応答性のいずれにおいても、実用上
十分であることが判明した。
比較例 1
実施例1と同様な素子を作り、これに、実施例1で用い
たポリマー溶液80−とポリビニルピロリドンを含有し
ない水20+dを混合してポリマー液層として光学素子
を作製した。得られた光学素子に、実施例1と同様にレ
ーザービームを照射したところ、レーザービームによる
加熱時間が短い場合は、実施例1と同様な結果であった
が、加熱時間を長くすると不均一な白濁状態となり、透
明状態へのもどりが著しく遅(なった。
たポリマー溶液80−とポリビニルピロリドンを含有し
ない水20+dを混合してポリマー液層として光学素子
を作製した。得られた光学素子に、実施例1と同様にレ
ーザービームを照射したところ、レーザービームによる
加熱時間が短い場合は、実施例1と同様な結果であった
が、加熱時間を長くすると不均一な白濁状態となり、透
明状態へのもどりが著しく遅(なった。
実施例2
第2図は本発明の第2の実施例を示す概略構成図である
。この実施例は、前記実施例1で用いた赤外線吸収層8
の代わりに2発熱要素として抵抗発熱体層7を基板1の
表面上に舵面し、電源10からの電流によって前記抵抗
発熱体層7の加熱を制御するように構成したものであり
1反射型の例を示すものである。抵抗発熱体層7の素材
としては、硼化ハフニウム、窒化タンタル等の金属化合
物、ニクロム等の合金、またはI T O(Indiu
mTin 0xide)等の透明酸化物等が用いられ、
膜厚としては500〜5000Aの範囲が最適である。
。この実施例は、前記実施例1で用いた赤外線吸収層8
の代わりに2発熱要素として抵抗発熱体層7を基板1の
表面上に舵面し、電源10からの電流によって前記抵抗
発熱体層7の加熱を制御するように構成したものであり
1反射型の例を示すものである。抵抗発熱体層7の素材
としては、硼化ハフニウム、窒化タンタル等の金属化合
物、ニクロム等の合金、またはI T O(Indiu
mTin 0xide)等の透明酸化物等が用いられ、
膜厚としては500〜5000Aの範囲が最適である。
また、この抵抗発熱体層7の表面1こは1図に示すよう
に、ポリマー液層2との間に絶縁層(保護膜)9が形成
される。
に、ポリマー液層2との間に絶縁層(保護膜)9が形成
される。
第2図において、抵抗発熱体層7につながるスイッチ2
0は開状態となっているため、抵抗発熱体層には電流は
流れない。したがって、入射する光線6−1は、はぼそ
のままポリマー液層2を通過し、抵抗発熱体層7の表面
で正反射して再びポリマー液層2を通過して透明保護板
3から射出する。
0は開状態となっているため、抵抗発熱体層には電流は
流れない。したがって、入射する光線6−1は、はぼそ
のままポリマー液層2を通過し、抵抗発熱体層7の表面
で正反射して再びポリマー液層2を通過して透明保護板
3から射出する。
一方、抵抗発熱体層7aにつながるスイッチ2゜aは閉
状態となっているため、抵抗発熱体層7aは電源10か
らの電流によって加熱される。このため、入射する光線
6−2は、前述したように散乱する。
状態となっているため、抵抗発熱体層7aは電源10か
らの電流によって加熱される。このため、入射する光線
6−2は、前述したように散乱する。
このように、赤外線吸収層8の代わりに抵抗発熱体層7
を発熱要素としてもその効果は同様であり、光学素子と
して作像、光変調を行なうことが可能である。
を発熱要素としてもその効果は同様であり、光学素子と
して作像、光変調を行なうことが可能である。
以下2本実施例を更に詳細に説明する。
第3図は本発明の第2の実施例を示す基板の斜視図であ
る。本実施例において、基板1および透明保護板3は、
前記実施例1と同様なものを使用した。先ず、第3図に
示される基板10表面上に。
る。本実施例において、基板1および透明保護板3は、
前記実施例1と同様なものを使用した。先ず、第3図に
示される基板10表面上に。
厚さ1oooAの窒化タンタル膜をスパッタリング法に
より形成し、続いてこの製膜面にホトレジストを塗布し
、基板lの短辺(10mm)に平行になるよう1こ20
本/Mのストライプ状パターンを焼付は後、エツチング
処理により余分の窒化タンタル膜を選択的に除去して、
残りを抵抗発熱層11とした。次に、その上に厚さ2o
ooXのアルミニウム膜をスパッタリング法により積層
し、同様の処理工程を経て、所定のパターニングを行な
い、第3図に示すストライプ状の電極層12を得た。こ
の時。
より形成し、続いてこの製膜面にホトレジストを塗布し
、基板lの短辺(10mm)に平行になるよう1こ20
本/Mのストライプ状パターンを焼付は後、エツチング
処理により余分の窒化タンタル膜を選択的に除去して、
残りを抵抗発熱層11とした。次に、その上に厚さ2o
ooXのアルミニウム膜をスパッタリング法により積層
し、同様の処理工程を経て、所定のパターニングを行な
い、第3図に示すストライプ状の電極層12を得た。こ
の時。
さらに発熱部分(40μm×26μm)を得るために抵
抗発熱層上のアルミニウムを一部除去した。
抗発熱層上のアルミニウムを一部除去した。
次に、その上に絶縁層13として厚さ2μmのSiO2
膜をスパッタリング法により積層した。ただし、抵抗発
熱層11の両端部は、後でリード線をつけるために、S
iO2膜がつかないように遮蔽して行った。この抵抗発
熱層11を設けた基板1と、透明保護板3とをマイラー
フィルムをスペーサーとして用いて50μmの間隔で向
い合わせて接着した。
膜をスパッタリング法により積層した。ただし、抵抗発
熱層11の両端部は、後でリード線をつけるために、S
iO2膜がつかないように遮蔽して行った。この抵抗発
熱層11を設けた基板1と、透明保護板3とをマイラー
フィルムをスペーサーとして用いて50μmの間隔で向
い合わせて接着した。
次にN−シクロプロピルアクリルアミド4g。
過硫酸アンモニウム25111gを冷水100rnlに
溶解し、テトラメチルエチレンジアミン50μぎを添加
してアスピレータ−にて脱気した。その後1時間室温に
放置して重合を行い、ポリマー溶液とした。このポリマ
ー溶液80−と、ポリエチレングリコール(分子Q20
,000)の1%水溶液20尼を混合して、上記基板1
と、透明保瓜板3との間に充填・封入して、ポリマー液
層を形成し、光学素子を作製した。
溶解し、テトラメチルエチレンジアミン50μぎを添加
してアスピレータ−にて脱気した。その後1時間室温に
放置して重合を行い、ポリマー溶液とした。このポリマ
ー溶液80−と、ポリエチレングリコール(分子Q20
,000)の1%水溶液20尼を混合して、上記基板1
と、透明保瓜板3との間に充填・封入して、ポリマー液
層を形成し、光学素子を作製した。
このようにして得られた光学素子の任意の組合せの抵抗
発熱層11に2周波数1kHzの電気パルス信号(パル
ス高20V、パルス長5m5ec)を情報信号に応じて
入力したところ、情IIJ+i号に対応する所定の位置
が、不透光性を示して応答し、情報信号に応じた書き込
みが可能であることが確認され9本実施例のポリエチレ
ングリコールが未添加の場合に比べて均一な不遇光性と
、速やかな信号のon−oftが観測された。
発熱層11に2周波数1kHzの電気パルス信号(パル
ス高20V、パルス長5m5ec)を情報信号に応じて
入力したところ、情IIJ+i号に対応する所定の位置
が、不透光性を示して応答し、情報信号に応じた書き込
みが可能であることが確認され9本実施例のポリエチレ
ングリコールが未添加の場合に比べて均一な不遇光性と
、速やかな信号のon−oftが観測された。
実施例 3
アゾビスイソブチロニトリル32+ugをアセトニトリ
ル5Qm/に溶解し、ガラスアンプル中にこの溶液10
−をとり、さらにN−イソプロビルアクリルアミド4g
とアセトニトリル3Qm/!を加えた。
ル5Qm/に溶解し、ガラスアンプル中にこの溶液10
−をとり、さらにN−イソプロビルアクリルアミド4g
とアセトニトリル3Qm/!を加えた。
次いで凍結脱気を行った後アンプルを封じ、50゛Cの
水溶液中にて20時間加熱重合を行った。反応終了後、
放冷してから溶液の全量を500m/!のエーテル中に
撹拌しながら注入し、沈澱するポリマーを濾別した。得
られたポリマー粉末をエーテルで洗浄後乾燥して約3.
5gのポリマー粉末を得た。このポリマー粉末0.5g
と、ポリビニルピロリドン(K=30)の表−1に示し
た量を水25tnlに混合溶解し、ポリマー液を作成し
、第2図及び第3図に示した素子のポリマー液層2に封
入して光学素子を作成した。
水溶液中にて20時間加熱重合を行った。反応終了後、
放冷してから溶液の全量を500m/!のエーテル中に
撹拌しながら注入し、沈澱するポリマーを濾別した。得
られたポリマー粉末をエーテルで洗浄後乾燥して約3.
5gのポリマー粉末を得た。このポリマー粉末0.5g
と、ポリビニルピロリドン(K=30)の表−1に示し
た量を水25tnlに混合溶解し、ポリマー液を作成し
、第2図及び第3図に示した素子のポリマー液層2に封
入して光学素子を作成した。
本実施例で用いた素子構成材料としては2発熱抵抗体層
としてITOを用いる以外は実施例2と全く同様なもの
を用いた。
としてITOを用いる以外は実施例2と全く同様なもの
を用いた。
実施例2と同様にして電気パルス信号を入力したところ
表−1に示した様な結果となった。
表−1に示した様な結果となった。
表−1
上記各実施例において明らかなように9本発明の光学素
子は透過型1反射型のいずれの場合にも。
子は透過型1反射型のいずれの場合にも。
良好な特性を得ることができる。
以上説明したように9本発明による光学素子は散乱特性
に優れているため、コントラストの高い明瞭かつ高解像
の画像を得ることができ、視野角の制限もなくすことが
できる。したがって1表示装置として長時間使用した場
合でも目の疲れを感じさせることがない。また、ポリマ
ー液層がわずかな加熱で変調するので2表示装置の消費
電力を節減させることができる。さらには高周波変調も
可能である。
に優れているため、コントラストの高い明瞭かつ高解像
の画像を得ることができ、視野角の制限もなくすことが
できる。したがって1表示装置として長時間使用した場
合でも目の疲れを感じさせることがない。また、ポリマ
ー液層がわずかな加熱で変調するので2表示装置の消費
電力を節減させることができる。さらには高周波変調も
可能である。
第1図は本発明の第1の実施例を示す概略構成図、第2
図は本発明の第3の実施例を示す概略構成図、第3図は
本発明の第3の実施例を示す基板の斜視図である。 1・・・基板、 2・・・ポリマー液層。 3・・・透明保護板、7.7a・・・抵抗発熱体層。 訃・・赤外線吸収層、11・・・抵抗発熱層。 12・・・電極層。 特許出願人 工業技術院長 飯塚 幸三;・、
1認−[j、:と31 透明 ポリマー液層 保護板 第 1 図 第 2 図 第 3 図
図は本発明の第3の実施例を示す概略構成図、第3図は
本発明の第3の実施例を示す基板の斜視図である。 1・・・基板、 2・・・ポリマー液層。 3・・・透明保護板、7.7a・・・抵抗発熱体層。 訃・・赤外線吸収層、11・・・抵抗発熱層。 12・・・電極層。 特許出願人 工業技術院長 飯塚 幸三;・、
1認−[j、:と31 透明 ポリマー液層 保護板 第 1 図 第 2 図 第 3 図
Claims (1)
- 溶媒と、N−置換アクリルアミドポリマーおよび高分子
分散安定剤としてのポリビニルピロリドン又はポリエチ
レングリコールの三成分から成る溶液を、少なくとも一
方の基板の表面に発熱要素を形成した一対の基板間に挟
持してなる光学素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18983486A JPS6344638A (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 | 光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18983486A JPS6344638A (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 | 光学素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6344638A true JPS6344638A (ja) | 1988-02-25 |
| JPH0135328B2 JPH0135328B2 (ja) | 1989-07-25 |
Family
ID=16247988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18983486A Granted JPS6344638A (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 | 光学素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6344638A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6851448B2 (en) | 2001-03-21 | 2005-02-08 | Jms Co., Ltd. | Rotary connector with valve |
-
1986
- 1986-08-13 JP JP18983486A patent/JPS6344638A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6851448B2 (en) | 2001-03-21 | 2005-02-08 | Jms Co., Ltd. | Rotary connector with valve |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0135328B2 (ja) | 1989-07-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |