JPS6344965A - 多層塗膜の形成法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、多層塗膜の形成法に関する。

〔背景技術〕

たとえば、被塗物に下地塗料と」二塗り塗料とを重ね塗
りする場合等には、この両者の間の密着性が充分でない
と、眉間剥離（相ハギ）等の発生ずる恐れがある。そこ
で、下地塗膜の表面を何らかの方法で改質しておいてか
ら、上塗り塗膜を塗布することが、従来、行われている
。

下地塗膜表面の改質方法としては、たとえば、酸、アル
カリ等を用いた化学処理法、紫外線を照射して処理する
方法、火炎を用いて処理する方法等がある。

ところが、酸、アルカリ等を用いた化学処理法では、洗
浄、乾燥等のウェットプロセスを必要とするため、工程
が複雑になり、廃液の処理等も問題となる。

紫外線を照射して処理する方法は、紫外線が直進するも
のであるため、複雑な形状を有する被塗物の処理には有
効でない。

火炎を用いて処理する方法によれば、下地塗膜が高温に
さらされるため、下地塗膜に使用できる塗料の種類や被
塗物の形状、あるいは、処理時間等が制約を受ける等の
問題がある。

〔発明の目的〕

この発明は、以上の問題に鑑みてなされたものであって
、工程が簡単で廃液の処理等の必要がなく、しかも、被
塗物の形状、下地塗膜の種類、処理時間等の制約を受け
ることなく、層間密着性に優れた多層塗膜を得る方法を
提供することを目的としている。

〔発明の開示〕

以−ヒの目的を達成するため、この発明は、下地塗膜表
面を低温プラズマ処理したのち、前記下地塗膜表面上に
上塗り塗膜を塗布形成する多層塗膜の形成法を要旨とし
ている。

この発明において使用される低温プラズマ雰囲気として
は、種々のものが考えられるが、たとえば、０．１〜１
０　ｔｏｒｒ程度の減圧下、周波数１０３〜１０”ｆｉ
ｚ程度の高周波放電によって発生される高周波グロー放
電や、大気圧または減圧下、電源電圧１０〜５０ｋＶ、
周波数１〜１００ｋｌＩＺを条件とするコロナ放電が好
ましいものとして、あげられる。

この発明の多層塗膜の形成法は、ウレタン樹脂系塗料、
アルギド樹脂系塗料、メラミン樹脂系塗料、アクリル樹
脂系塗料等、あらゆる種類の塗料を用いた塗膜に対して
適用することができる。

以下にこの発明を、その一工程たる下地塗膜の低温プラ
ズマ処理の実施にかかる装置の一例をあられした図面を
参照しつつ、詳しく説明する。

第１図は、高周波グロー放電によって低温プラズマ雰囲
気を発生させて下地塗膜の表面を処理するための装置の
うち、高周波としてＲＦ（ラジオ波９周波数１０３〜１
０９Ｈｚ程度）を用いたものの一例をあられしている。

−・ルジャー１内には、励起電極２と、この励起電極２
に対向する対向電極３とが設けられている。励起電極２
には、マツチングユニット４を介してＲＦ電源５が接続
されており、対向電極３上には、下地塗膜６が形成され
た被塗物７が載せられるようになっている。

この装置を使用する場合には、まず、ペルジャー１内の
空気を、図には示していない排気系によって、排気口か
ら図中矢印Ｙの方向に排気し、ペルジャー１内を減圧状
態とする。

つぎに、図中Ｘよりプラズマ発生のためのガスを前記両
電極間に導入し、ペルジャー１内のガス圧力が所定の値
となるようにする。

プラズマ発生のためのガスは、この例では特に限定され
ないが、たとえば、以下のものを、用途に応じ、選択し
て使用することができる。

空気、水素、アンモニア、二酸化炭素、四フッ化炭素、
窒素等の反応性ガス、アルゴン、ヘリウム等の非反応性
ガス。

以上のようなガスのなかでも、空気等、酸素を含むガス
や、あるいは、酸素そのものがこの例に好ましいものと
してあげられる。

ヘルジャー内のガス圧力も、この例では特に限定されな
いが、たとえば、前記各ガスを使用する場合には、ガス
圧力は０．１〜１０　ｔｏｒｒの範囲内であることが好
ましく、１〜５　ｔｏｒｒであることがより好ましい。

ペルジャー内のガス圧力を上記範囲に限定するのは、以
下の理由による。すなわち、ペルジャー内のガス圧力が
１Ｑｔｏｒｒを超えると低温プラズマ雰囲気が発生しに
くくなり、また、発生したとしても不安定で高い処理効
率を得ることはできない。ガス圧力がＱ、ｌ　ｔ、ｏｒ
ｒ未満では低温プラズマ雰囲気によって発生ずる活性種
の濃度が充分でないため、高い処理効果が得られない傾
向がある。これに対し、ペルジャー内のガス圧力が上記
範囲内であれば、安定した低温プラズマ雰囲気を得るこ
とができるため、高い処理効率が得られるものと考えら
れるからである。

以上のようにペルジャー１内を所定のガス圧力としたあ
と、ＲＦ電源５を作動させて励起電極２にＲＦを印加し
、前記両電極間に存在するガスを励起させて低温プラズ
マ雰囲気８を発生させる。

励起電極２に印加されるＲＦの周波数は、この例では特
に限定されないが、１０″〜１０９Ｈｚであることが好
ましい。ＲＦの周波数が前記範囲外では、低温プラズマ
雰囲気８の安定性が低下したり、あるいは、低温プラズ
マ雰囲気を発生させることができない場合がある。また
、このような不安定な低温プラズマ雰囲気では、充分な
処理効果が得られない恐れがあるからである。そして、
以上の範囲の中でも、一般に、高周波イオンブレーティ
ング等に用いられている１　３．５６ＭＨｚあるいは２
７．１２　ＭＨｚ等の周波数のＲＦが、ＲＦ電源と上記
ペルジャー等の処理装置との組み合わせや、放電のため
の励起能率等の点から、この実施例に好ましいものとし
てあげられる。

低温プラズマ雰囲気８によって発生した活性種は、下地
塗膜６の表面を攻撃して、その表面に、上塗り塗膜の密
着に寄与する官能基を生成させ、それによって、この上
に塗布される上塗り塗膜と下地塗膜６との間の密着性が
向上されるものと考えられる。また、低温プラズマ雰囲
気８尭生の条件を、前記ガス圧力および周波数の好まし
い範囲内としたものでは、下地塗膜６表面がプラズマに
よって劣化することが、より、少なくなるため、上塗り
塗膜と下地塗膜６との密着性を、より、向上できるよう
になる。この例においては、低温プラズマ雰囲気８が、
図にみるようにペルジャー１内に空間的な広がりをもっ
て発生するため、被塗物が複雑な形状であっても、その
上に形成された下地塗膜６表面を全面にわたって、均一
に処理することができる。

処理の時間やＲＦ電源の出力は、この例では特に限定さ
れず、下地塗膜の種類、被塗物の大きさ、処理装置の容
量等の条件によって適宜選択すればよい。

以上のようにして下地塗膜６表面が処理された被塗物７
をペルジャー１内から取り出したあと、処理された下地
塗膜６の表面に上塗り塗膜を塗布すれば、充分な密着性
を持った多層塗膜を得ることができる。また、このよう
に処理された下地塗膜６はヌレ性が向上しているため、
この上に形成さた上塗り塗膜は鮮映性の高いものとなる
。

第２図は、高周波グロー放電によって低温プラズマ雰囲
気を発生させて下地塗膜の表面を処理するための装置の
うち、高周波としてマイクロ波（周波数１０９〜１０”
ｌｌｚ程度）を用いたものの一例をあられしている。

この例の装置は、マイクロ波が、一般に、前記ＲＦより
もその寿命が長いことを利用したもので、下地塗膜６が
形成された被塗物７を収容する処理室９から、石英管１
０が室外へ延びており、その先端に、マイクロ波発信器
１１、および、プランジャー１２、プラズマ発生のため
のガスを収容したガスボンへ１３が、それぞれ、接続さ
れている。

この装置を使用する場合には、まず、処理室９内の空気
を、図には示していない排気系によって、排気口から図
中矢印Ｙの方向に排気し、処理室９内を減圧状態とする
。

つぎに、前記ガスボンへ１３より、先のＲＦの場合と同
様なガスを石英管１０内へ導入し、石英管１０および処
理室９内のガス圧力が所定の値となるようにする。石英
管１０および処理室９内のガス圧力は、この例では特に
限定されないが、先の場合と同様の理由から、０．１〜
１０　ｔｏｒｒであることが好ましく、１〜５　ｔｏｒ
ｒであることが、より好ましい。

以上のように石英管１０および処理室９内を所定のガス
圧力としたあと、マイクロ波発信器１１を作動させて石
英管１０内に低温プラズマ雰囲気１４を発生させる。プ
ランジャー１２は、マイクロ波発信器１１で発生したマ
イクロ波を反射する働きを有しており、軸方向（図では
上下方向）に動かすことでマイクロ波発信器１１との間
の距離を調整し、ガス石英管１０に加えられるマイクロ
波の強度を調節するために用いられる。

マイクロ波発信器１１によるマイクロ波の周波数や出力
は、この例では特に限定されないが、周波数が１０’　
〜１０１２Ｈｚの範囲内、出力が８００〜４０００Ｗの
範囲内であることが好ましい。そして、以上の範囲の中
でも、周波数が、一般によく用いられている２４５０Ｈ
ｚであるマイクロ波が、先のＲＦの場合と同様な理由か
ら、好ましいものとして、あげられる。また、マイクロ
波発信器１１の出力を前記範囲に限定するのは、出力が
８００Ｗ未満では充分な処理効果が得られず、４０００
Ｗを超えると下地塗膜６の表面に損傷を与える恐れがあ
るからである。

低温プラズマ雰囲気１４によって発生した活性種は、ガ
スボンへ１３からのガスによって運ばれて石英管１０の
末端から被塗物７上の下地塗膜６に吹きつけられ、この
下地塗膜６の表面を攻撃して、その表面に、上塗り塗膜
の密着に寄与する官能基を生成させ、それによって、こ
の上に塗布される上塗り塗膜と下地塗膜６との間の密着
性が向上されるものと考えられる。また、低温プラズマ
雰囲気１４発生の条件を、前記ガス圧力および周波数の
好ましい範囲内としたものでは、下地塗膜６表面がプラ
ズマによって劣化することが、より、少なくなるため、
」二塗り塗膜と下地塗膜６との密着性を、より、向上で
きるようになる。この例においては、低温プラズマ雰囲
気１４によって発生した活性種が、前述したように長寿
命であって、それがガスと混ざり合って空間的な広がり
をもって被塗物に吹きつげられるため、被塗物が複雑な
形状であっても、その上に形成された下地塗膜６表面を
全面にわたって、均一に処理することができる。

処理の時間等の条件は、この例では特に限定されず、下
地塗膜の種類、被塗物の大きさ、処理装置の容量等の条
件によって適宜選択すればよい。

以上のようにして下地塗膜６表面が処理された被塗物７
を処理室９内から取り出したあと、処理された下地塗膜
６の表面に上塗り塗膜を塗布すれば、先の場合と同様に
、充分な密着性を持った多層塗膜を得ることができる。

また、処理された下地塗膜６のヌレ性が向上し、この上
に形成さた上塗り塗膜の鮮映性が高くなることも、先の
場合と同様である。

つぎに、低温プラズマ処理のための装置の別の例を、第
３図を参照しつつ、説明する。

第３図は、コロナ放電によって低温プラズマ雰囲気を発
生させて下地塗膜の表面を処理するための装置の一例を
あられしている。

この装置は、励起電極１５と、この励起電極１５に対向
する対向電極１６とを備えてなるものである。励起電極
１５には、高電圧電源１７が接続されており、対向電極
１６上には、下地塗膜６が形成された被塗物７が、絶縁
体１８を介して載せられるようになっている。

この装置を使用する場合には、まず、下地塗膜６が形成
された被塗物７を絶縁体１８上にセットする。そうする
と、励起電極１５の一部である接触子］、　５　ａが、
図にみるように、下地塗膜６に軽く接触する。

つぎに、被塗物７が載せられた対向電極１６を図中Ｚ方
向に動かして、下地塗膜６表面を接触子Ｌ５ａで掃引し
ながら、両電極間に、高電圧電源１７から電圧を印加し
、接触子１．５　ａと下地塗膜６との接触部分にコロナ
放電による低温プラズマ雰囲気１９を発生させる。

励起電極１５に印加される電源電圧等は、この例では特
に限定されないが、電源電圧が１０〜５０　ｋＶ、周波
数が１〜１．　ＯＯｋＨｚであることが好ましい。そし
て、以上の範囲の中でも、電源電圧が１０〜３０ｋＶで
あることがより好ましい。励起電極９に印加される電源
電圧がＬＯｋＶ未満では、放電を発生させることが難し
く、５０ｋＶを超えると、下地塗膜６に損傷を与える恐
れがある。また、周波数が前記範囲外では、放電を安定
させることが難しく、充分な処理効果が得られない恐れ
があるからである。

原理的には、直流でもコロナ放電を発生させることはで
きるが、直流の場合、電荷が一方的に蓄積されやすいた
め、充分な処理効果が得られず、この発明には好ましく
ない。

この例におけるコロナ放電処理は大気圧下で行ってもよ
いし、減圧下で行っても構わない。コロナ放電処理を大
気圧下で行う場合には、低温プラズマ雰囲気１９の領域
が広がりにくいという欠点があるが、その場合には、前
記接触子］、　５　ａを、たとえば、ステンレス繊維を
綴りあわせたしなやかな紐状とし、これを多数本並べて
、被塗物の形状に充分追従できるようにしてやれば、複
雑な形状の被塗物にも対応できるようになる。コロナ放
電処理を減圧下で行う場合には、先の例と同様に低温プ
ラズマ雰囲気１９が空間状の広がりをもつため、接触子
１５ａが被塗物の形状に充分追従できなくても、複雑な
形状の被塗物に対応できる。

プラズマ発生のためのガスは、この例では特に限定され
ないが、先の２つの例と同様のものを、用途に応じ、選
択して使用することができる。

低温プラズマ雰囲気１９によって発生した活性種は、先
の第１図の場合と同様に、下地塗膜６０表面を攻撃して
、その表面に、上塗り塗膜の密着に寄与する官能基を生
成させ、それによって、この−ヒに塗布される上塗り塗
膜と下地塗膜６との間の密着性が向上されるものと考え
られる。また、低温プラズマ雰囲気１９発生の条件を、
前記電源電圧および周波数の好ましい範囲内としたもの
では、下地塗膜６表面がプラズマによって劣化すること
が、より少ないため、上塗り塗膜と下地塗膜６との密着
性を、より、向上できるようになる。

処理の時間や高電圧電源の出力は、この例では特に限定
されず、下地塗膜の種類、被塗物の大きさ、処理装置の
容量等の条件によって適宜選択すればよい。

以上のようにして下地塗膜６表面が処理された被塗物７
を装置から取り出したあと、処理された下地塗膜６の表
面に上塗り塗膜を塗布すれば、充分な密着性を持った多
層塗膜を得ることができるようになる。処理された下地
塗膜６のヌレ性が向上し、この上に形成さた上塗り塗膜
の鮮映性が高くなることも、先の場合と同様である。

つぎに、第４図に示した、低温プラズマ処理のための装
置について、説明する。

この装置も、先の第３図の装置同様、コロナ放電によっ
て低温プラズマ雰囲気を発生させて下地塗膜の表面を処
理するためのもので、励起電極２０と、この励起電極２
０に対向する対向電極２１とを備えている。励起電極２
０は高電圧電源１７に接続され、対向電極２１は接地さ
れている。そして、先の装置と同様に、対向電極２１上
に下地塗膜６の形成された被塗物７が載せられて、下地
塗膜６の処理が行われるようになっている。励起電極２
０に印加される電源電圧や周波数も、先の第３図の装置
と同程度であればよい。

この装置が先の装置と違うのは、励起電極２０の先端が
下地塗膜６と接していないことである。

このように、励起電極２０の先端を下地塗１’ｌ！６と
接しないようにするのは、下地塗膜６の種類によっては
、先の装置のように接触式であると塗膜表面に傷の付く
恐れがあるからである。

この装置のように、励起電極２０の先端が下地塗膜６と
接していない場合には、コロナ放電による低温プラズマ
雰囲気２２は、広い空間的拡がりを持つことができない
。したがって、下地塗膜６の表面全体を均一に処理する
ためには、先の装置同様被塗物７が載せられた対向電極
２１を動かすか、あるいは逆に、励起電極２０の方を動
かす必要がある。被塗物７が小さく、その形状も単純な
場合には、この被塗物７の方を動かせばよい。

被塗物７が、たとえば、自動車ボディ等の形状が複雑で
、かつ、大きく重いものである場合には、励起電極２０
の方を動かすようにする。その際、励起電極２０を、た
とえば、ロボットで塗膜に沿って移動させるようにすれ
ば、処理の均一性は、より向上する。

第５図は、そのような、複雑な形状を有する被塗物７に
対する処理の様子をあられしている。励起電極２０は、
上述したようにロボットによって被塗物７に沿って移動
され、下地塗膜６表面を均一に処理するようになってい
る。その他の点については、先の装置と同様であって、
先端が下地塗膜６と接触しない励起電極２０によってコ
ロナ放電による低温プラズマ雰囲気２２を発生させ、処
理を行うものである。励起電極２０に印加される電源電
圧や周波数も、同程度であればよい。

なお、この図では、対向電極２１が省略されている点と
、励起電極２０の先端が誘電体層２３で覆われている点
が、先の第４図の装置とは異なっている。これらの相違
点は、下記の理由による。

すなわち、被塗物７が金属等の導電性材料で形成された
ものである場合、図のように、対向電極２１を省略する
ことができるようになる。しかし、このように被塗物７
が金属等、導電性の良いものである場合には、励起電極
２０との間に局所的なスパークの発生する恐れがある。

そこで、励起電極２０の先端を、前述したようにガラス
等の誘電体層２３で覆い、励起電極２０先端から被塗物
７に向かってスパークが発生するのを防いでいるのであ
る。

つぎに、第６図に示した、低温フラズマ処理のための装
置について、説明する。

この装置は、低温プラズマ雰囲気を、コロナ放電の一種
である沿面放電によって発生させる点に特徴を有してい
る。沿面放電とは、面状に広がる励起電極２４　（ここ
では櫛状に配置されて面状に広がっている）と対向電極
２５との間に誘電体層２６を挾んでなる電極装置Ａを用
い、これら両電極間に高周波電圧を印加して画電極の廻
りに低温プラズマ雰囲気２７を発生させるものである。

高周波電源装置２９より励起電極２４に印加される電源
電圧や周波数は、先の第３図の装置と同程度であればよ
い。この装置では、図にみるように、低温プラズマ雰囲
気２７が、電極袋ＷＡの周りに面状に広がるため、被塗
物７が小さいものである場合には、この被塗物７と同じ
大きさの電極装置Ａを使用するようにすれば、装置も被
塗物７も共に動かさずに、下地塗膜６の全面にわたる処
理を行うことができる。

被塗物７が、形状の複雑な大きく重いものである場合に
は第７図に示すように、やはり、電極装置Ａを動かす必
要がある。図の装置において、電極装置Ａを動かすには
、やはり、ロボット等を用いてやればよい。

その他の構成は先の第６図の装置と同様であって、櫛状
に配置された励起電極２４と接地電極２５、そして、こ
れら両電極間に挟まれた誘電体層２６によって電極装置
Ａが構成されている。電極装置Ａには、電源装置２９が
接続されている。なお、この装置では、被塗物７が、先
の場合と同様、金属等の導電性材料からなっているため
、被塗物７と励起電極２４との間に局所的なスパークの
発生する恐れがある。そこで、励起電極２４の全面には
、ガラス等からなる誘電体層２８が形成され、励起電極
２４と被塗物７の間にスパークが発生するのを防いでい
る。

以上のような、この図の装置によれば、下地塗膜６に対
する処理が、第３図ないし第５図の装置のような、点状
あるいは線状でなく、面状に行われるため、処理の効率
をより向上することができるようになる。

なお、これまでは、この発明の多層塗膜の形成法につい
て、以上のように、図の装置を用いる７つの例にもとづ
いてのみ、説明してきたが、この発明は以上７つの装置
による処理例に限定されるものではない。たとえば、以
上７つの例では、低温プラズマ雰囲気として、ＲＦやマ
イクロ波等の高周波グロー放電、あるいは、コロナ放電
によって発生されるものを用いていたが、直流グロー放
電によって発生される低温プラズマ雰囲気を用いるよう
にしてもかまわない。また、以上の例は、いずれも、多
層膜が下地塗膜と上塗り塗膜の２層であったが、この発
明が３層以上の多層膜の各層間の密着性向上にも適用で
きることは、言うまでもない。要するに、下地塗膜表面
を低温プラズマ処理したのち、前記下地塗膜表面上に上
塗り塗膜を塗布形成するようになっているのであれば、
その他の構成は特に限定されないのである。

つぎに、この発明の実施例について、比較例とあわせて
説明する。

（実施例１〜８） 被塗物として５　ａｎ　Ｘ　５　ｃｍのポリプロピレン
板を使用し、その表面に２液タイプポリエステル型ウレ
タン塗料（主剤／硬化剤−５／１）を第１表に示した条
件で塗布、硬化させて膜厚１００岬の下地塗膜を形成し
た。

下地塗膜が形成された前記ポリプロピレン板を第１図に
示したＲＦ放電処理装置内にセットし、排気系によって
ペルジャー内を真空にしたあと、ガスとして酸素を導入
してペルジャー内を１〜５ｔｏｒｒの減圧度とした。Ｒ
Ｆ電源を作動させ、励起電極に出力ＩＯ〜３０ＷのＲＦ
を印加して酸素プラズマを発生させ、下地塗膜表面の低
温プラズマ雰囲気による処理を行った。１０〜６０秒後
にＲＦ電源を停止して処理を終了し、装置内よりポリプ
ロピレン板を取り出した。このあと、処理された下地塗
膜表面上に、２液タイプポリエステル型ウレタン塗料（
主剤／硬化剤＝４／１）を第１表に示した条件で塗布、
硬化させて膜厚１００μｍの上塗り塗膜を形成し、多層
塗膜を形成した。

第　　　１　　　表 得られた多層膜の密着性を、基盤目試験ならびに１８０
°剥離接着強さ試験によって評価した。

また、得られた多層膜の鮮映性を目視により観察した。

結果を第３表に示す。

（実施例９〜１２） 下地塗膜の処理を、第２図に示したマイクロ波放電処理
装置を用いて電源出力９００〜３０００Ｗ１周波数２４
５０ＭＩ（ｚの条件下で行った以外は、実施例１〜８と
同様にして多層塗膜を作成し、その密着性ならびに鮮映
性を測定した。結果を同じく第３表に示す。

（実施例１３〜１５） 下地塗膜の処理を、第３図に示したコロナ放電処理装置
を用いて電源電圧２０ｋＶ、周波数５ｋｌｌｚの条件下
、大気中で行い、その処理時間を５〜１５秒間とした以
外は、実施例１〜８と同様にして多層塗膜を作成し、そ
の密着性ならびに鮮映性を測定した。結果を同じく第３
表に示す。

（実施例１６〜１８） 下地塗膜の処理を、第４図に示したコロナ放電処理装置
を用いて電源電圧２０ｋＶ、周波数５　ｋｔ（ｚの条件
下、大気中で行い、その処理時間を５〜１５秒間とした
以外は、実施例１〜８と同様にして多層塗膜を作成し、
その密着性ならびに鮮映性を測定した。結果を同じく第
３表に示す。

（実施例１９〜２１） 下地塗膜の処理を、第６図に示した沿面放電処理装置を
用いて電源電圧２０ｋＶ、周波数５　ｋＨｚの条件下、
大気中で行い、その処理時間を５〜１５秒間とした以外
は、実施例１〜８と同様にして多層塗膜を作成し、その
密着性ならびに鮮映性を測定した。結果を同じく第３表
に示す。

（実施例２２） 下地塗膜としてアルキド樹脂系塗料を第２表に示した条
件で塗布、硬化させて膜厚１００声の下地塗膜を形成し
た以外は、実施例１６〜１８と同様にして多層塗膜を作
成し、その密着性ならびに鮮映性を測定した。結果を同
じく第３表に示す。

（実施例２３） 下地塗膜としてメラミン樹脂系塗料を第２表に示した条
件で塗布、硬化させて膜厚１１００ｆの下地塗膜を形成
した以外は、実施例１６〜１８と同様にして多層塗膜を
作成し、その密着性ならびに鮮映性を測定した。結果を
同じく第３表に示す。

（実施例２４） 下地塗膜としてアクリル樹脂系塗料を第２表に示した条
件で塗布、硬化させて膜厚１００頗の下地塗膜を形成し
た以外は、実施例１６〜１８と同様にして多層塗膜を作
成し、その密着性ならびに鮮映性を測定した。結果を同
じく第３表に示す。

第　　　２　　　表 （比較例１） 下地塗膜の表面を低温プラズマ雰囲気で処理しなかった
以外は、実施例１〜１５と同様にして、多層膜を作成し
、その密着性ならびに鮮映性を測定した。結果を同じく
第３表に示す。

第３表の結果より、実施例１〜２４は、いずれも、比較
例に比べて層間の密着性ならびに鮮映性の向」ニしてい
ることがわかった。

（実施例２５．２６） 被塗物として金属板を使用し、処理装置として第５図な
らびに第７図にみる装置を用いて、それ以外は上記実施
例１〜２４と同様にして多層膜を作成したところ、高い
密着性と鮮映性を有し、均一な多層膜を得ることができ
た。

（比較例２．３） 励起電極表面を誘電体層で覆わなかった以外は、実施例
２５．２６と同様にして多層塗膜を作成したが、下地塗
膜には多くのスパークの後が残り、均一な多層膜を得る
ことができなかった。

〔発明の効果〕

この発明の多層塗膜の形成法は、以上のようであり、下
地塗膜表面を低温プラズマ処理したのち、前記下地塗膜
表面上に上塗り塗膜を塗布形成するようになっているた
め、工程が簡単で廃液の処理等の必要がなく、しかも、
被塗物の形状、下地塗膜の種類、処理時間等の制約を受
けることなく、層間密着性ならびに鮮映性に優れた多層
塗膜を得ることができるようになる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の工程のうち低温プラズマ処理をＲＦ
放電を用いて行うための装置を説明する説明図、第２図
はこの発明の工程のうち低温プラズマ処理をマイクロ波
放電を用いて行うための装置を説明する説明図、第３図
はこの発明の工程のうち低温プラズマ処理をコロナ放電
を用いて行うための装置を説明する説明図、第４図はコ
ロナ放電を用いた低温プラズマ処理のための装置の別の
例を説明する説明図、第５図は被塗物が導電性材料であ
る場合のコロナ放電による低温プラズマ処理装置の構成
を説明する説明図、第６図はこの発明の工程のうち低温
プラズマ処理を沿面放電を用いて行うための装置を説明
する説明図、第７図は被塗物が導電性材料である場合の
沿面放電による低温プラズマ処理装置の構成を説明する
説明図である。 ６・・・下地塗膜　８．１４−．１９，２２．２７・・
・低温プラズマ雰囲気 代理人　弁理士　　松　本　武　彦 第１図 第２図 第３図 第４図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）下地塗膜表面を低温プラズマ処理したのち、前記
   下地塗膜表面上に上塗り塗膜を塗布形成する多層塗膜の
   形成法。
2. （２）低温プラズマ処理が、下地塗膜表面をＲＦ放電に
   よる低温プラズマ雰囲気にさらすことで行われる特許請
   求の範囲第１項記載の多層塗膜の形成法。
3. （３）低温プラズマ処理が、マイクロ波放電による低温
   プラズマ雰囲気下で発生した活性種を下地塗膜に吹きつ
   けることで行われる特許請求の範囲第１項記載の多層塗
   膜の形成法。
4. （４）低温プラズマ処理が、下地塗膜表面をコロナ放電
   による低温プラズマ雰囲気にさらすことで行われる特許
   請求の範囲第１項記載の多層塗膜の形成法。