JPS6347196A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、ヒートモード記録媒体に関するものであり、
さらに詳しくは本発明は、高エネルギー密度のレーザー
ビームを用いて情報の書き込みおよび／または読み取り
ができる情報記録媒体に関するものである。

［発明の技術的背景および従来技術］ 近年において、レーザービームの微小光点の集積である
光像を記録するための情報記録媒体として、微小光点の
熱効果を利用したヒートモード記録媒体が開発され、実
用化されている。この情報記録媒体は光ディスクと称さ
れ、ビデオ・ディスク、オーディオディスク、さらには
大容量静止画像ファイルおよび大容量コンピューター用
ディスク・メモリー、マイクロ画像形成、超マイクロ画
像形成、コム（ＣＯＭ）、マイクロファクシミリ、写真
植字用原版等に応用されている。

これらの記録媒体は、基本構造としてプラスチック、ガ
ラス等からなる透明基板と、この上に設けられたＢｆ、
Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属からなる記録層
とを有する。なお、記録層が設けられる側の基板表面に
は通常、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上
あるいは光ディスクの感度の向上などの点から、高分子
物質からなる下塗層または中間層が設けられている。

記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザービー
ムをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、記録
層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇する
結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光学的
特性を変えることにより情報が記録される。記録媒体か
らの情報の読み取りもまた、レーザービームを記録媒体
に照射することなどにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報が再生される。

また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合してなるエアー
サンドイッチ構造が提案されている。このような構造を
有する記録媒体では、記録層は直接外気に接することが
なく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー光で
行なわれるために、一般に記録層が物理的または化学的
な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着して
情報の記録、再生の障害となることがない。

情報記録媒体は、前述のように種々の分野において非常
に利用価値が高いものであるが、その基板表面は高度に
平担であることが、基板表面の凹凸に起因する記録層下
側面のフォーカスサーボ性の不良などを改善するために
有効である。

情報記録媒体の基板表面の凹凸に起因する記録層下側面
のフォーカスサーボ性の不良などを改善することを目的
として、本出願人は既に、基板と記録層との間にオルガ
ノアルコキシシランおよび／またはオルガノアロキシシ
ランからなる中間層を設けたレーザー記録材料を提案し
ている（特開昭６０−２１９０９８号公報）。

この記録媒体によれば、オルガノアルコキシシランなど
の優れたセルフレベリング性によって、基板表面の凹凸
に起因する記録層下側面のフォーカスサーボ性の不良な
どを大巾に改善することが可能である。また、基板表面
の微細な傷もしくは異物に起因する表面欠陥率を減少さ
せることができ、さらに、基板がガラスの場合には、ガ
ラス中の遊離した金属イオン例えばナトリウムイオンや
カルシウムイオンに起因する析出物の発生も防止するこ
とが可能である。

しかしながら、オルガノアルコキシシランなどからなる
中間層を基板上に設けるには、４５０℃以上の高い熱処
理温度を必要とするため、特別の熱処理装置が必要であ
り、また基板自体も高い耐熱性が要求されるため基板材
料が限定されるなど実用上には困難な問題が存在する。

［発明の目的］ 本発明は、基板表面の欠陥にもとず〈表面欠陥率が少な
く、基板表面の凹凸に起因する記録層下側面のフォーカ
スサーボ性の不良が改善された情報記録媒体を提供する
ことを目的とするものである。

さらに本発明は、基板がガラスの場合、基板表面の析出
物の発生を防止して記録層の腐食を防止した情報記録媒
体を提供することも目的とするものである。

［発明の要旨］ 本発明は、基板上に、中間層を介してレーザーによる情
報の書き込みおよび／または読み取りが可能な記録層が
設けられてなる情報記録媒体において、該中間層および
／または記録層が放射線硬化型樹脂硬化物およびオルガ
ノアルコキシシランを含有していることを特徴とする情
報記録媒体を提供するものである。

さらに本発明は、基板上に、レーザーによる情報の書き
込みおよび／または読み取りが可能な記録層が設けられ
てなる情報記録媒体において、該記録層が色素からなり
、放射線硬化型樹脂硬化物およびオルガノアルコキシシ
ランが記録層に含有されていることを特徴とする情報記
録媒体を提供するものである。

［発明の効果］ 本発明は、中間層および／または記録層に放射線硬化型
樹脂硬化物およびオルガノアルコキシシランを含有させ
ることによって、あるいは記録層が色素からなり、放射
線硬化型樹脂硬化物およびオルガノアルコキシシランを
記録層に含有させることによって、オルガノアルコキシ
シランの有する優れたセルフレベリング性を保持しつつ
、放射線硬化型樹脂硬化物の併用によって、比較的低温
で基板上に中間層および／または記録層あるいは色素か
らなる記録層を設けることが可能である。

すなわち、本発明の情報記録媒体の中間層および／また
は記録層あるいは色素からなる記録層にはオルガノアル
コキシシランが放射線硬化型樹脂硬化物と共に含有され
ているため、オルガノアルコキシシランの優れたセルフ
レベリング性を保持しつつ放射線硬化型樹脂の低温重合
硬化反応によって中間層などを基板表面に形成すること
ができる。

従って、本発明の情報記録媒体は、オルガノアルコキシ
シランが放射線硬化型樹脂硬化物と共に含有されている
ため基板（または下塗層）と中間層および／または記録
層あるいは色素からなる記録層との接着力が極めて高い
。

また本発明の情報記録媒体は、オルガノアルコキシシラ
ンの存在によって基板表面の欠陥にもとすく表面欠陥率
が大巾に減少し、また記録層下側面が極めて平滑となり
基板表面の凹凸に起因する記録層下側面のフォーカスサ
ーボ性の不良を改善することが可能である。

さらに、本発明の情報記録媒体の基板がガラスの場合に
は、基板表面の析出物の発生が極めて少ないため記録層
の腐食の発生を防止することが可能である。

［発明の詳細な記述］ 以上に述べたような好ましい特性を有する本発明の情報
記録媒体は、たとえば以下のような方法により製造する
ことができる。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス；セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタフリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂：エボキシ
樹脂；ポリエチレンテレフタレートおよびポリカーボネ
ートを挙げることができる。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられていてもよい。下塗層の材料としては、た
とえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸−メタ
クリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体
、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、スチレン・スルホン酸共重合体、塩素化ポリエチレ
ン、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース
、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビ
ニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重
合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト等の高分子物質；シランカップリング剤などの有機物
質：および無機酸化物（ＳｉＯ２、Ａ文。０３等）、無
機弗化物（ＭｇＦ２）などの無機物質を挙げることがで
きる。

ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するためには、スチレン・無水マレイン酸共
重合体などの親木性基および／または無水マレイン酸基
を有するポリマーからなる下塗層が設けられているのが
望ましい。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散したのち、この塗布液をスピンコード、デイツプコ
ート、エクストルージョンコート、バーコード、スクリ
ーン印刷などの塗布法により基板表面に塗布することに
より形成することができる。下塗層の層厚は一般にｏ、
ｏｉ〜２０ミル２０ル、好ましくは０．１１−１ＯＪＬ
である。

次に、基板（または下塗層）上には中間層が設けられる
。

本発明の中間層は、放射線硬化型樹脂硬化物およびオル
ガノアルコキシシランからなる層である。

放射線硬化型樹脂硬化物に用いられるモノマー（または
オリゴマーもしくはプレポリマー）は、アクリル系二重
結合、アリル系二重結合等の二重結合であって、紫外線
、電子線照射により重合硬化反応し得る二重結合を有す
るものであればよい。

千ツマ−としては、（メタ）アクリル酸、エチル（メタ
）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、エチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、■、６−ヘキサンゲリ
コールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレ
ン、アクリルアミド、グリシジル（メタ）アクリレート
、２−ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリラート、２
−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタアクリラー
ト、α、ω−ジアクリル−ビスプロピレングリコール−
３，６−ニンドメチレンテトラヒドロフタレート、α、
ω−シアクリルービスエチレングリコールテトラヒドロ
フタレート、テトラエチレングリコールジアクリレート
、α、ω−ジアクリルービスジエチレングリコールフタ
ラート、α、ω−ジメタクリルービスジエチレングリコ
ールフタラー）、２．２’−ビス（４−アクリロイロキ
シ−エトキシエトキシフェニル）プロパントリメチロー
ルプロパントリアクリラート、α、ω−テトラアクリル
ビストリメチロールプロパンテトラヒドロフタラート、
α、ω−テトラアクリル−ビストリメチロールプロパン
ヘキサヒドロフタラ−）、ｆｉ水ママレイン酸マレイン
酸ジアリルおよびアジピン酸ジアリル等を挙げることが
できる。

オリゴマーもしくはプレポリマーとしては、アジピン酸
／ｌ、６−ヘキサンジオール／アクリル酸、無水フタル
酸／プロピレンオキサイド／アクリル酸、トリメリット
酸／ジチレングリコール／アクリル酸のごとき（不飽和
）ポリエステルアクリレート；ビスフェノールＡ−エピ
クロルヒドリン型／アクリル酸、フェノールノボラック
・工ビクロルヒドリン型／アクリル酸脂環型／アクリル
酸、エポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレート
およびポリアセタールアクリレート等を挙げることがで
きる。

オルガノアルコキシシランは、一般式：％式％ で表わされる化合物である。ただし、上記一般式におい
て、ＸはＯ〜３の整数、Ｒ１およびＲ２は、ＣｙＩ　Ｈ
２ＴＩ＋１（ｎ　＝　１　”’　３　）もしくは、フェ
ニル基である。

オルガノアルコキシシランの具体例としては、テトラメ
トキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキ
シシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメ
チルシラン、プロポキシトリエチルシラン、メトキシト
リフェニルシラン、エトキシトリメチルシラン、トリプ
ロポキシフェニルシラン、テトラフェノキシシラン、ト
リメチルフェノキシシランおよびフェニルトリフエノキ
シシラン等を挙げることができる。

これらのうちで、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、テトラプロポキシシランおよびテトラフェノ
キシシランが好ましい。

放射線硬化型樹脂硬化物とオルガノアルコキシシランの
混合比は重量比で１００：１〜１００：１００の範囲内
にあることが好ましく、１００：１−１００：５０の範
囲内にあることが特に好ましい。

本発明の中間層は、上記放射線硬化型樹脂硬化物および
オルガノアルコキシシランとざらに熱可塑性樹脂との混
合物からなっていてもよい。

熱可塑性樹脂としては、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル・
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体
のケン化物、塩化ビニル・酢酸ビニル・無水マレイン酸
共重合体、ポリ酢酸ビニル、アセチルセルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリウレタン、
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルピロ
リドン、アクリル樹脂、ポリビニルアクリルアミド、ポ
リカーボネート、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブテン、ポリフッ化ビニリデンおよびポリ三
フッ化塩化エチレン等を挙げることができる。

その他、光重合開始剤、シランカップリング剤、溶剤等
を必要に応じて使用することができる。

光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンゾインイソブチ
ルエーテル、ジフェニルスルファイドおよびトリエチル
アミンなどを挙げることができる。これらは単独でも、
あるいは適宜組合わせても使用することができる。

中間層は、上記放射線硬化型樹脂およびオルガノアルコ
キシシランを溶剤に溶解して塗布液を調製し１次いでこ
の塗布液を基板上に塗布して設けることが可能である。

放射線硬化型樹脂およびオルガノアルコキシシランを溶
解するための溶剤としては、メタノール、エタノール、
プロパツール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール
、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソ
ルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、ジメチルホルムアミド、シンナーなどを挙
げることができる。これらの塗布液中には、さらに基板
との接着増強剤、可塑剤、滑剤、マット剤、帯電防止剤
、架橋剤など各種の添加剤を目的に応じて添加すること
も可能である。

塗布方法としては、スピンコード法、デイツプコート法
、エクストルージョンコート法、バーコード法、スクリ
ーン印刷法などを挙げることができる。

上記塗布液を塗布して塗膜を形成したのち電磁放射線を
照射することにより、塗膜中のモノマーなどを重合硬化
し、基板（または下塗層）上に中間層を形成することが
できる。なお、重合硬化後に重合硬化層を加熱乾燥する
ことも可能である。

使用される電磁放射線としては、紫外線および電子線な
どを挙げることができる。

中間層の層厚は一般に０．０１〜２０ｐ−ｍＯ）範回内
であり、好ましくは０．１〜１０ＩＬｍの範囲内である
。

中間層は、転写により基板上に設けることも可能である
。

転写により中間層を形成する方法は、例えば、ポリエチ
レンテレフタレートフィルムなどの放射線透過性フィル
ム上に放射線硬化型樹脂硬化物およびオルガノアルコキ
シシランからなる層を層厚０．１〜３０ＪＬｍの範囲内
で塗布し、重合硬化後乾燥して設け、得られた転写フィ
ルムを情報面等に基材が熱変形する温度未満で、かつ放
射線硬化型樹脂硬化物が溶融する温度以上で圧着して形
成する方法を挙げることができる。

次に、中間層上には記録層が設けられる。

記録層に用いられる材料の例としては、Ｔｅ、Ｚｎ、Ｉ
ｎ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＡＭ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｐｔ
等の金属；Ｂｉ、Ａｓ、Ｓｂ等の半金属；Ｓｉ等の半導
体；およびこれらの合金またはこれらの組合せを挙げる
ことが〒きる。

また、これらの金属、半金属または半導体の硫化物、酸
化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物および窒化物等
の化合物；およびこれらの化合物と金属との混合物も記
録層に用いことができる。

あるいは、色素、色素とポリマー、色素と前掲の金属お
よび半金属との組合わせを利用することもできる。

本発明の記録層が色素からなる場合には、記録層にはさ
らに放射線硬化型樹脂硬化物およびオルガノアルコキシ
シランが色素に混合されて含有される。

色素としては、公知の染料あるいは顔料等を用いること
ができる。

放射線硬化型樹脂硬化物およびオルガノアルコキシシラ
ンのそれぞれの例としては、前掲のものを挙げることが
できる。

記録層が金属、半金属、半導体あるいはこれらの硫化物
、酸化物および窒化物等の化合物の場合には、該材料を
蒸着、スパッタリング、イオンブレーティングなどの方
法により基板上に中間層を介して形成することができる
。

また、記録層が色素からなる場合には、色素と放射線硬
化型樹脂およびオルガノアルコキシシランとの混合物を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板（または下塗層）上に塗布し、放射線硬化型樹脂を重
合硬化して記録層を設けることが可能である。

色素と放射線硬化型樹脂およびオルガノアルコキシシラ
ンを溶解するための溶剤としては、前述の中間層の場合
と同様の溶剤を用いることができる。

また、塗布液の塗布方法および放射線硬化型樹脂の重合
硬化方法は前述の中間層の場合と同様の方法を用いるこ
とができる。

なお、記録層が色素からなる場合には、基板と記録層と
の間に前述の中間層を設ける必要は特にはないが、中間
層を設けてもよいことは勿論である。

記録層は単層または重層でもよいが、その層厚は光情報
記録に要求される光学濃度の点から一般に１００〜５５
００Ｘの範囲であり、好ましくは１５０−１０００１の
範囲である。

記録層の上には、機械的強度の向上などの目的で、たと
えばゼラチン、ゼラチン誘導体、セルロース誘導体およ
びポリサッカライド等の天然高分子物質；ラテックス状
ビニルポリマー、エチレン・酢酸ビニル共重合体等の合
成高分子物質などからなる保護膜が設けられていてもよ
い。

なお、基板上にはレーザービームのトラッキング用溝や
アドレス信号などの情報を表わす凹凸が予め設けられて
いてもよい。このような溝および凹凸を設ける方法とし
ては、溝または凹凸を有する原盤から射出成形法により
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等のプラ
スチック基板を作製する方法がある。この場合に本発明
に係る中間層は、この溝、凹凸を有する基板上に前述の
方法により塗設される。

また、溝、凹凸を設ける別の方法としては、基板と原盤
との間に光硬化性樹脂からなる塗膜を設けて光硬化させ
たのち、原盤を剥離させる方法（２Ｐ法）がある。この
場合には、本発明に係る中間層を予め原盤に塗設したの
ち光硬化性樹脂を原盤と基板との間に挟み込み、光照射
後、原盤を剥離させて光硬化性樹脂層上に中間層が設け
られた構造を得ることができる。

後者の方法に使用される光硬化性樹脂の代表的な例とし
ては、光重合性モノマー（および／またはオリゴマー）
と光重合開始剤等との混合物が挙げられる。光重合性子
ツマ−（オリゴマー）としては、エチレングリコール、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等のメ
タクリル酸エステル、アクリル酸エステルなど公知の材
料を単独でまたは組み合わせて用いことができる。また
、光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイン
メチルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル、アン
スラキノン等のキノン類など従来公知の材料を好適に用
いることができる。

また、基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面に
は耐傷性、防湿性などを高めるために、たとえば二酸化
ケイ素、酸化スズ、弗化マグネシウムなどの無機物質か
らなる薄膜が真空蒸着、スパッタリング等により設けら
れていてもよい。

このようにして、基板、中間層および記録層がこの順序
で積層された基本構成からなる情報記録媒体を製造する
ことができる。

なお、貼り合わせタイプの記録媒体は、上記構成を有す
る二枚の基板を接着剤等を用いて接合することにより製
造することができる。また、エアーサンドイッチタイプ
の記録媒体においては、二枚の円盤状基板のうちの少な
くとも一方が上記構成を有する基板を、リング状の外側
スペーサと内側スペーサとを介して接合することにより
製造することができる。

また、ポリエステル支持体に中間層、記録層および保護
層を設けることによってウェブ状のレーザー記録感材を
製造することができる。

次に本発明の実施例および比較例を記載する。

［実施例１］ 二枚のソーダ石灰ガラス板（厚さ２１．３ｍｍ）のそれ
ぞれに下記に示す組成の塗布液を塗布し、２ＫＷの紫外
線ランプで９０秒間照射して樹脂の重合硬化反応を行な
い、１２０℃で１０分間乾燥して、乾燥後の層厚が５０
００又の中間層を形成した。

塗布液組成（重量部） テトラメトキシシラン　　　　　　　　１５部トリメチ
ロールプロパン　　　　　　　６０部トリアクリレート α、ω−テトラアクリル　　　　　　　４０部ビストリ
メチロールプロパン テトラヒドロフタラート アセトフェノン　　　　　　　　　　　　１部トルエン
　　　　　　　　　　　　　　８０部メチルエチルケト
ン　　　　　　　　　８０部次いで、基板の外周部と中
心部を同心円状に遮蔽して中間層上に同一真空系でＩｎ
２５０又およびＧｅ５２００又を共蒸着させて、層厚が
４５０又の記録層を形成した。

次いで、上記基板二枚を記録層を内側にして、窒素ガス
雰囲気下で、外径３０５　ｍ　ｍ、内径３００　ｍ　ｍ
のリング状外側スペーサおよび外径４０　ｍ　ｍ、内径
３５　ｍ　ｍのリング状内側スペーサを介して、紫外線
硬化型エポキシ接着剤で接着した後、ＩＫＷの高圧水銀
灯を用いて３０ｃｍの高さから両面同時に紫外線を２分
間照射した。

このようにして、基板、中間層および記録層からなるエ
アーサンドインチ型の情報記録媒体を製造した。

［比較例１］ 実施例１において、塗布液組成をテトラメトキシシラン
１５％、アセトフェノン１部、トルエン８０部およびメ
チルエチルケトン８０部とした以外は、実施例１の操作
と同様に操作して、基板、中間１層および記録層からな
るエアーサンドイッチ型の情報記録媒体を製造した。

［比較例２］ 実施例１において、塗布液組成をトリメチロールプロパ
ントリアクリレート６０部、α、ω−テトラアクリルビ
ストリメチロールプロパンテトラヒドロフタラート４０
部、アセトフェノン１部、トルエン８０部およびメチル
エチルケトン８０部とした以外は、実施例１の操作と同
様に操作して、基板、中間層および記録層からなるエア
ーサンドイッチ型の情報記録媒体を製造した。

［情報記録媒体の評価］ 得られた各情報記録媒体について、単位面積当りの欠陥
個数、析出物の発生および表面粗さの評価を行なった。

欠陥個数（個数／　ｃ　ｍ’　）は、エアーサンドイッ
チ型情報記録媒体を湿度６５％、温度２５℃の室内に５
日間放置した後、５００ｒｐｍで回転させ、内径１０９
ｍｍから１２８ｍｍまでを記録層表面で約１−６ｇｍの
直径となるように集光したレーザー光でスキャンして反
射光を測定して評価した。欠陥個数の測定装置は、既知
の粒子サイズを有するポリスチレンコロイド粒子を塗布
した標準サンプルを用いてあらかじめキャリブレイショ
ンを行ない、レーザー出力レベル（ａ）０．０９Ｖ、（
ｂ）０．３３Ｖでそれぞれ０．３ｐｍ以上および１４ｍ
以上の欠陥の個数／ｃｒｎ’を検出する装置である。

析出物の発生は、エアーサンドイッチ型情報記録媒体を
温度６０℃で９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ、５日間経
過した後、発生した析出物の数を測定して評価した。評
価の基準は、直径２．５ｍｍ内の析出物の発生個数が０
個のときをＡ、１〜５個のときをＢ、６個以上のときを
Ｃで示した。

中間層の表面の表面粗さくｕ、ｍ）は、東京精密■製の
サーフコン表面粗さ計で測定した。

以下余白 得られた結果をまとめて第１表に示す。

第１表 欠陥個数　　　表面粗さ　析出物 ａ　　　　ｂ　　　　　　　　　の発生実施例１　７Ｘ
１０’　　８Ｘ１０”　　　０．０２　　　　Ａ比較例
１　７Ｘ１０２８Ｘ１０’　　　０．０２　　　　Ｂ２
８Ｘ１０’　　９Ｘ１０’　　　０．０２　　　８第１
表に示された結果から明らかなように、本発明の基板が
ソーダ石灰ガラス板であって、テトラメトキシシランと
紫外線硬化型樹脂（トリメチロールプロパントリアクリ
レートおよびα、ω−テトラアクリルビストリメチロー
ルブロバンテトラヒドロフタラート）硬化物を含有する
中間層が基板上に設けられた情報記録媒体（実施例１）
は、比較のための中間層が紫外線硬化型樹脂硬化物を含
有し、テトラメトキシシランを含有しない情報記録媒体
（比較例２）よりも欠陥個数が減少した。

また、本発明の情報記録媒体（実施例１）は、比較のた
めの情報記録媒体（比較例２）および中間層がテトラメ
トキシシランを含有し、紫外線硬化型樹脂硬化物を含有
しない情報記録媒体（比較例１）よりも析出物の発生が
少なく、記録層の腐食を防止することができた。

［実施例２］ セルキャストポリメチルメタクリレート板（厚さ：　１
　、５　ｍｍ）に下記に示す組成の塗布液を塗布し、２
ＫＷの紫外線ランプで９０秒間照射して樹脂の重合硬化
反応を行ない、１２０℃で１０分間乾燥して、乾燥後の
層厚が５０００又の中間層を形成した。

塗布液組成（置部） テトラエトキシシラン　　　　　　　　１５５部ビニラ
イトＭＣＨ６０部 （塩化ビニル・酢酸ビニル・ ビニルアルコール） ポリエステルアクリレート　　　　　　　３５部トリメ
チロールプロパン　　　　　　　　５部トリアクリレー
ト アセトフェノン　　　　　　　　　　　　１部トルエン
　　　　　　　　　　　　　１２５部メチルエチルケト
ン　　　　　　　　１２５部次いで、実施例１の操作と
同様に操作して中間層上に記録層を形成し、該記録層を
内側にして基板二枚を貼り合せることによって基板、中
間層および記録層からなるエアーサンドイッチ型の情報
記録媒体を製造した。

［比較例３］ 実施例２において、塗布液組成をテトラエトキシシラン
１５部、ビニライトＶＭＣＨ（塩化ビニル・酢酸ビニル
・ビニルアルコール）６０部、アセトフェノン１部、ト
ルエン１２５部およびメチルエチルケトン１２５部とし
た以外は、実施例２の操作と同様に操作して、基板、中
間層および記録層からなるエアーサンドイッチ型の情報
記録媒体を製造した。

［比較例４］ 実施例２において、塗布液組成をポリエステルアクリレ
ート３５部、トリメチロールプロパントリアクリレート
５部、ビニライトＶＭＣＨ（塩化ビニル・酢酸ビニル・
ビニルアルコール）６０部、アセトフェノン１部、トル
エン１２５部およびメチルエチルケトン１２５部とした
以外は、実施例２の操作と同様に操作して、基板、中間
層および記録層からなるエアーサンドイッチ型の情報記
録媒体を製造した。

［情報記録媒体の評価１ 得られた各情報記録媒体について、前述と同様にして、
単位面積当りの欠陥個数および表面粗さを評価した。

以下余白 得られた結果をまとめて第２表に示す。

第２表 　　　　ｂ 実施例２　２Ｘ　１０２３Ｘ　１０　’　　　　　０．
０２比較例３　　８Ｘ　１０　’　　９Ｘ　１０　’　
　　　　０．０２４　８Ｘ１０　’　　９Ｘ１０２０．
０２第２表に示された結果から明らかなように、本発明
の基板がセルキャストポリメチルメタクリレート板であ
って、テトラエトキシシラン、紫外線硬化型樹脂（ポリ
エステルアクリレートおよびトリメチロールプロパント
リアクリレート）硬化物および熱可塑性樹脂（ビニライ
）ＶＭＣＨ）を含有する中間層が基板上に設けられた情
報記録媒体（実施例２）は、比較のための中間層がテト
ラエトキシシランおよび熱可塑性樹脂を含有し、紫外線
硬化型樹脂硬化物を含有しない情報記録媒体（比較例３
）および中間層が紫外線硬化型樹脂硬化物および熱可塑
性樹脂を含有し、テトラエトキシシランを含有しない情
報記録媒体（比較例４）よりも欠陥個数が減少した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １。基板上に、中間層を介してレーザーによる情報の書
   き込みおよび／または読み取りが可能な記録層が設けら
   れてなる情報記録媒体において、該中間層および／また
   は記録層が放射線硬化型樹脂硬化物およびオルガノアル
   コキシシランを含有していることを特徴とする情報記録
   媒体。 ２。放射線硬化型樹脂硬化物が紫外線もしくは電子線に
   対して硬化性の樹脂の硬化物であることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体。 ３。紫外線もしくは電子線硬化型樹脂の硬化物がアクリ
   ル系ポリマーおよび／またはアリル系ポリマーであるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の情報記録媒
   体。 ４。オルガノアルコキシシランが、テトラメトキシシラ
   ン、テトラエトキシシランおよびテトラプロポキシシラ
   ンからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルキルア
   ルコキシシランであることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の情報記録媒体。 ５。オルガノアルコキシシランが、テトラフェノキシシ
   ランであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の情報記録媒体。 ６。放射線硬化型樹脂硬化物とオルガノアルコキシシラ
   ンの比率が重量比で１００：１〜１００：１００の範囲
   内にあることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   情報記録媒体。 ７。中間層が放射線硬化型樹脂硬化物およびオルガノア
   ルコキシシランを含有していることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の情報記録媒体。 ８。基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび／
   または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
   録媒体において、該記録層が色素からなり、放射線硬化
   型樹脂硬化物およびオルガノアルコキシシランが記録層
   に含有されていることを特徴とする情報記録媒体。 ９。放射線硬化型樹脂硬化物が紫外線もしくは電子線に
   対して硬化性の樹脂の硬化物であることを特徴とする特
   許請求の範囲第８項記載の情報記録媒体。 １０。紫外線もしくは電子線硬化型樹脂の硬化物がアク
   リル系ポリマーおよび／またはアリル系ポリマーである
   ことを特徴とする特許請求の範囲第９項記載の情報記録
   媒体。 １１。放射線硬化型樹脂硬化物とオルガノアルコキシシ
   ランの比率が重量比で１００：１〜１００：１００の範
   囲内にあることを特徴とする特許請求の範囲第８項記載
   の情報記録媒体。