JPS6349747B2 - - Google Patents
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- JPS6349747B2 JPS6349747B2 JP57136878A JP13687882A JPS6349747B2 JP S6349747 B2 JPS6349747 B2 JP S6349747B2 JP 57136878 A JP57136878 A JP 57136878A JP 13687882 A JP13687882 A JP 13687882A JP S6349747 B2 JPS6349747 B2 JP S6349747B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- front chamber
- chamber
- workpiece
- dew point
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
- C23C8/24—Nitriding
- C23C8/26—Nitriding of ferrous surfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Description
この発明は、ガス軟窒化法に関し、とくに、ガ
ス軟窒化炉の前室に被処理物を搬入する前に、被
処理物の表面温度よりも露点温度の低いガスを導
入することにより、仕上り肌が良好で化合物層の
厚さおよび表面硬さが均一な品物が得られるよう
にしたものである。 従来、ガス軟窒化法として、アンモニアガスと
吸熱型変成ガス、アンモニアガスと発熱型変成ガ
ス、有機液剤分解ガスとアンモニアガスを主成分
とする雰囲気ガス等が用いられているが、何れの
ガス軟窒化法においても、前室の雰囲気ガスの露
点温度は約10〜35℃であつて前室内に搬入される
被処理物の表面温度よりも高くなつている。この
ような状態の前室に常温の被処理物を搬入する
と、前室の雰囲気ガス中の水分が被処理物の表面
に結露して水滴が生じ、この水滴に雰囲気ガス中
のアンモニアが溶け込んでアンモニア水が生成さ
れ、被処理物の表面にはアンモニア水によつて腐
食された斑模様が発生する。また、雰囲気ガス中
の一酸化炭素COは、低温域においては、CO→Ｃ
＋CO2の反応によつて炭素Ｃを析出するため、こ
の析出炭素Ｃが被処理物の表面の水滴に付着す
る。 従来の方法では、上記のような被処理物を加熱
室に送つてガス軟窒化処理が行なわれているた
め、処理された品物の表面仕上り肌が悪くなるだ
けでなく、品物の表面に形成される化合物層の厚
さ、および表面硬さにばらつきが生じることにな
る。 そこで、前室における被処理物の表面の水滴発
生を防止をするため、被処理物を予熱して前室に
搬入し、その後、加熱室においてガス軟窒化処理
を行なう方法も採用されているが、この方法によ
ると、ガス軟窒化炉本体以外に予熱炉または予熱
室が必要となるため、大型の設備となつて設備費
が高価となるだけでなく、本来のガス軟窒化処理
工程のほかに予熱工程が加わり、処理時間が全体
として長くなるという欠点がある。 この発明は、上記の欠点を除去するためになさ
れたものであり、この発明の目的は、前室におけ
る雰囲気ガスの露点温度を被処理物の表面温度よ
りも低下させるようにしたガス軟窒化法を提供す
ることにあり、また、この発明の目的は、処理さ
れた品物の仕上り肌を光輝にして、表面化合物層
の厚さおよび硬さを均一にすることができるガス
軟窒化法を提供することにあり、さらに、この発
明の目的は、設備費が安価で処理工程が簡単なガ
ス軟窒化法を提供することにある。 すなわち、この発明は、図示する実施例のよう
に、ガス軟窒化炉の前室１０を経て加熱室１２に
送られた被処理物をガス軟窒化処理するに当り、
被処理物の表面温度よりも露点温度の低いガスを
前室１０内に導入し、前室１０内の雰囲気ガスの
露点温度が被処理物の表面温度よりも低下した後
に、被処理物を前室１０内に搬入することを特徴
とするガス軟窒化法に係る。 この発明は、前室を有するガス軟窒化炉を用い
て、鉄鋼部品等の被処理物をガス軟窒化処理する
に当り、被処理物を前室に搬入する前に、被処理
物の表面温度よりも露点温度の低いガスを前室内
に導入して、加熱室から前室に流出した雰囲気ガ
スとの混合ガスの露点温度が、被処理物の表面温
度より低下した後に、被処理物を前室内に搬入す
る。前室内に導入するガスとしては、被処理物の
表面温度よりも露点温度の低いガスであれば、如
何なる種類のガスでも使用することができるが、
酸化性ガスは被処理物を光輝処理する目的から適
当でなく、爆発性ガス、可燃性ガス、毒性ガスも
安全性の見地から適当でなく、安全性が高く、し
かも、経済的に安価なガスの中から選定すれば、
窒素ガスが最も好ましく、炭酸ガス、アルゴン等
も必要に応じて使用することができる。これらの
導入ガスは、その露点温度が被処理物の表面温度
よりも十分に低いものを使用するのが好ましい。
たとえば、市販のボンベ入り窒素ガスの露点温度
は−50℃程度であり、ボンベ入り液体窒素の露点
温度は−80℃程度であるから、そのまま使用する
ことができる。 また、前室への導入ガスの流量、あるいは導入
時間は、前記のボンベ入り窒素ガスの場合では、
約５〜15分間継続する程度でよく、その間の適宜
の時点で被処理物を前室に搬入し、前室内の雰囲
気ガスが安定するのをまつて、被処理物を加熱室
に送り出した後に窒素ガスの導入を停止する。 このように、被処理物が前室に搬入される時点
では、前室内の雰囲気ガスの露点温度は、被処理
物の表面温度よりも低下した状態に維持されてい
るから、前室内に搬入された被処理物の表面に雰
囲気ガスが接触しても、水滴が発生することはな
い。 次に、この発明の方法を第１図に示したバツチ
型ガス軟窒化炉に適用した場合の工程について説
明する。同図において、符号１０は前室、１２は
加熱室、１４は油槽をそれぞれ示し、前室１０の
前壁には入口扉１５、前室１０と加熱室１２との
仕切壁には中間扉１６がそれぞれ開閉自在に設け
てある。また、前室１０には、窒素ガス導入管２
０を設け、加熱室１２には、図示しない雰囲気ガ
ス供給管が設けてある。加熱室１２内の上部に
は、撹拌用フアン２１が架設され、このフアン２
１は、加熱室１２の上壁外部に設けたモータ２２
によつて回転して、加熱室１２内の雰囲気ガスを
撹拌する。また、油槽１４には、モータ２５によ
つて回転する撹拌羽根２６が設けてあり、該撹拌
羽根２６を介して油槽１４内に貯留された冷却油
を撹拌する。 上記のバツチ型ガス軟窒化炉の前室１０内に、
被処理物（図示せず）が搬入される前の約５〜15
分間、前室１０の窒素ガス導入管２０に連結され
ている窒素ガスボンベから窒素ガスを導入する。
導入された窒素ガスの流量を適宜調節して前室１
０内の雰囲気ガスの露点温度が被処理物の表面温
度より低下した後に、被処理物を前室１０内に搬
入する。かくして、前室１０内の雰囲気ガスが安
定した後、被処理物を加熱室１２に送り、その後
に窒素ガスの前室１０への導入を停止する。続い
て、加熱室１２において被処理物のガス軟窒化処
理を行ない、処理が完了した品物は加熱室１２か
ら前室１０に搬出する。加熱室１２で処理された
品物のうち、ガス冷却する品物は前室１０でガス
冷却するが、油冷却する品物は、前室１０に搬出
した直後に油槽１４の冷却油内に浸漬して油冷却
する。この品物の冷却時において、前室１０に再
び窒素ガスを導入して、前室１０内への空気の吸
込みを防止するとともに、ガス冷却する場合の冷
却速度を増大させるようにすることもできる。冷
却された品物は、前室１０から炉外に搬送する。 第２図は、この発明の方法を連続型ガス軟窒化
炉に適用した場合であり、同図において、符号１
０は前室、１２は加熱室、１８は後室、１４は油
槽をそれぞれ示し、前室１０の前壁には入口扉１
５、前室１０と加熱室１２との仕切壁および加熱
室１２と後室１８との仕切壁には、それぞれ、中
間扉１６および１７、後室１５８の後壁には、出
口扉１９が、それぞれ開閉自在に設けてある。符
号２０は、前室１０の窒素ガス導入管、２３は、
後室１８の窒素ガス導入管、２１は、加熱室１２
の撹拌用フアン、２２は撹拌用フアンのモータ、
２６は、油槽１４の撹拌羽根、２５は、撹拌羽根
のモータである。 上記の連続型ガス軟窒化炉における工程は、前
記バツチ型ガス軟窒化炉の場合と同様に、前室１
０に被処理物を搬入する前に、窒素ガス導入管２
０から前室１０内に窒素ガスを導入して、前室１
０内の雰囲気ガスの露点温度を被処理物の表面温
度より低下させた後に、被処理物を前室１０内に
搬入し、前室１０内の雰囲気ガスが安定した後、
被処理物を加熱室１２に送り、その後に窒素ガス
の導入を停止する。加熱室１２に送られた被処理
物は、ガス軟窒化処理され、処理が完了した品物
は、後室１８に搬出されて、後室１８においてガ
ス冷却されるか、あるいは後室１８から油槽１４
の冷却油内に浸漬して油冷却される。この冷却時
に、後室１８内に窒素ガス導入管２３を介して窒
素ガスを導入して、後室１８内への空気の吸込み
を防止するとともに、ガス冷却する場合の冷却速
度を増大させるようにすることもできる。冷却さ
れた品物は、後室１８から炉外に搬送する。 第１表は、この発明の方法により処理した品物
と従来の方法により処理した品物との表面仕上り
肌、表面に形成された化合物層の厚さおよび表面
硬さを比較するために実施した試験結果である。 試験には、バツチ型ガス軟窒化炉を使用し、
SPCCおよびS45Cの材質からなる被処理物につい
て行なつた。前室への導入ガスは市販のボンベ入
り窒素ガスを使用して、加熱炉における雰囲気ガ
スは、アンモニアガス70％、有機液剤分解ガス30
％の混合ガスとし、処理温度570℃で２時間処理
した後、油冷却した。
ス軟窒化炉の前室に被処理物を搬入する前に、被
処理物の表面温度よりも露点温度の低いガスを導
入することにより、仕上り肌が良好で化合物層の
厚さおよび表面硬さが均一な品物が得られるよう
にしたものである。 従来、ガス軟窒化法として、アンモニアガスと
吸熱型変成ガス、アンモニアガスと発熱型変成ガ
ス、有機液剤分解ガスとアンモニアガスを主成分
とする雰囲気ガス等が用いられているが、何れの
ガス軟窒化法においても、前室の雰囲気ガスの露
点温度は約10〜35℃であつて前室内に搬入される
被処理物の表面温度よりも高くなつている。この
ような状態の前室に常温の被処理物を搬入する
と、前室の雰囲気ガス中の水分が被処理物の表面
に結露して水滴が生じ、この水滴に雰囲気ガス中
のアンモニアが溶け込んでアンモニア水が生成さ
れ、被処理物の表面にはアンモニア水によつて腐
食された斑模様が発生する。また、雰囲気ガス中
の一酸化炭素COは、低温域においては、CO→Ｃ
＋CO2の反応によつて炭素Ｃを析出するため、こ
の析出炭素Ｃが被処理物の表面の水滴に付着す
る。 従来の方法では、上記のような被処理物を加熱
室に送つてガス軟窒化処理が行なわれているた
め、処理された品物の表面仕上り肌が悪くなるだ
けでなく、品物の表面に形成される化合物層の厚
さ、および表面硬さにばらつきが生じることにな
る。 そこで、前室における被処理物の表面の水滴発
生を防止をするため、被処理物を予熱して前室に
搬入し、その後、加熱室においてガス軟窒化処理
を行なう方法も採用されているが、この方法によ
ると、ガス軟窒化炉本体以外に予熱炉または予熱
室が必要となるため、大型の設備となつて設備費
が高価となるだけでなく、本来のガス軟窒化処理
工程のほかに予熱工程が加わり、処理時間が全体
として長くなるという欠点がある。 この発明は、上記の欠点を除去するためになさ
れたものであり、この発明の目的は、前室におけ
る雰囲気ガスの露点温度を被処理物の表面温度よ
りも低下させるようにしたガス軟窒化法を提供す
ることにあり、また、この発明の目的は、処理さ
れた品物の仕上り肌を光輝にして、表面化合物層
の厚さおよび硬さを均一にすることができるガス
軟窒化法を提供することにあり、さらに、この発
明の目的は、設備費が安価で処理工程が簡単なガ
ス軟窒化法を提供することにある。 すなわち、この発明は、図示する実施例のよう
に、ガス軟窒化炉の前室１０を経て加熱室１２に
送られた被処理物をガス軟窒化処理するに当り、
被処理物の表面温度よりも露点温度の低いガスを
前室１０内に導入し、前室１０内の雰囲気ガスの
露点温度が被処理物の表面温度よりも低下した後
に、被処理物を前室１０内に搬入することを特徴
とするガス軟窒化法に係る。 この発明は、前室を有するガス軟窒化炉を用い
て、鉄鋼部品等の被処理物をガス軟窒化処理する
に当り、被処理物を前室に搬入する前に、被処理
物の表面温度よりも露点温度の低いガスを前室内
に導入して、加熱室から前室に流出した雰囲気ガ
スとの混合ガスの露点温度が、被処理物の表面温
度より低下した後に、被処理物を前室内に搬入す
る。前室内に導入するガスとしては、被処理物の
表面温度よりも露点温度の低いガスであれば、如
何なる種類のガスでも使用することができるが、
酸化性ガスは被処理物を光輝処理する目的から適
当でなく、爆発性ガス、可燃性ガス、毒性ガスも
安全性の見地から適当でなく、安全性が高く、し
かも、経済的に安価なガスの中から選定すれば、
窒素ガスが最も好ましく、炭酸ガス、アルゴン等
も必要に応じて使用することができる。これらの
導入ガスは、その露点温度が被処理物の表面温度
よりも十分に低いものを使用するのが好ましい。
たとえば、市販のボンベ入り窒素ガスの露点温度
は−50℃程度であり、ボンベ入り液体窒素の露点
温度は−80℃程度であるから、そのまま使用する
ことができる。 また、前室への導入ガスの流量、あるいは導入
時間は、前記のボンベ入り窒素ガスの場合では、
約５〜15分間継続する程度でよく、その間の適宜
の時点で被処理物を前室に搬入し、前室内の雰囲
気ガスが安定するのをまつて、被処理物を加熱室
に送り出した後に窒素ガスの導入を停止する。 このように、被処理物が前室に搬入される時点
では、前室内の雰囲気ガスの露点温度は、被処理
物の表面温度よりも低下した状態に維持されてい
るから、前室内に搬入された被処理物の表面に雰
囲気ガスが接触しても、水滴が発生することはな
い。 次に、この発明の方法を第１図に示したバツチ
型ガス軟窒化炉に適用した場合の工程について説
明する。同図において、符号１０は前室、１２は
加熱室、１４は油槽をそれぞれ示し、前室１０の
前壁には入口扉１５、前室１０と加熱室１２との
仕切壁には中間扉１６がそれぞれ開閉自在に設け
てある。また、前室１０には、窒素ガス導入管２
０を設け、加熱室１２には、図示しない雰囲気ガ
ス供給管が設けてある。加熱室１２内の上部に
は、撹拌用フアン２１が架設され、このフアン２
１は、加熱室１２の上壁外部に設けたモータ２２
によつて回転して、加熱室１２内の雰囲気ガスを
撹拌する。また、油槽１４には、モータ２５によ
つて回転する撹拌羽根２６が設けてあり、該撹拌
羽根２６を介して油槽１４内に貯留された冷却油
を撹拌する。 上記のバツチ型ガス軟窒化炉の前室１０内に、
被処理物（図示せず）が搬入される前の約５〜15
分間、前室１０の窒素ガス導入管２０に連結され
ている窒素ガスボンベから窒素ガスを導入する。
導入された窒素ガスの流量を適宜調節して前室１
０内の雰囲気ガスの露点温度が被処理物の表面温
度より低下した後に、被処理物を前室１０内に搬
入する。かくして、前室１０内の雰囲気ガスが安
定した後、被処理物を加熱室１２に送り、その後
に窒素ガスの前室１０への導入を停止する。続い
て、加熱室１２において被処理物のガス軟窒化処
理を行ない、処理が完了した品物は加熱室１２か
ら前室１０に搬出する。加熱室１２で処理された
品物のうち、ガス冷却する品物は前室１０でガス
冷却するが、油冷却する品物は、前室１０に搬出
した直後に油槽１４の冷却油内に浸漬して油冷却
する。この品物の冷却時において、前室１０に再
び窒素ガスを導入して、前室１０内への空気の吸
込みを防止するとともに、ガス冷却する場合の冷
却速度を増大させるようにすることもできる。冷
却された品物は、前室１０から炉外に搬送する。 第２図は、この発明の方法を連続型ガス軟窒化
炉に適用した場合であり、同図において、符号１
０は前室、１２は加熱室、１８は後室、１４は油
槽をそれぞれ示し、前室１０の前壁には入口扉１
５、前室１０と加熱室１２との仕切壁および加熱
室１２と後室１８との仕切壁には、それぞれ、中
間扉１６および１７、後室１５８の後壁には、出
口扉１９が、それぞれ開閉自在に設けてある。符
号２０は、前室１０の窒素ガス導入管、２３は、
後室１８の窒素ガス導入管、２１は、加熱室１２
の撹拌用フアン、２２は撹拌用フアンのモータ、
２６は、油槽１４の撹拌羽根、２５は、撹拌羽根
のモータである。 上記の連続型ガス軟窒化炉における工程は、前
記バツチ型ガス軟窒化炉の場合と同様に、前室１
０に被処理物を搬入する前に、窒素ガス導入管２
０から前室１０内に窒素ガスを導入して、前室１
０内の雰囲気ガスの露点温度を被処理物の表面温
度より低下させた後に、被処理物を前室１０内に
搬入し、前室１０内の雰囲気ガスが安定した後、
被処理物を加熱室１２に送り、その後に窒素ガス
の導入を停止する。加熱室１２に送られた被処理
物は、ガス軟窒化処理され、処理が完了した品物
は、後室１８に搬出されて、後室１８においてガ
ス冷却されるか、あるいは後室１８から油槽１４
の冷却油内に浸漬して油冷却される。この冷却時
に、後室１８内に窒素ガス導入管２３を介して窒
素ガスを導入して、後室１８内への空気の吸込み
を防止するとともに、ガス冷却する場合の冷却速
度を増大させるようにすることもできる。冷却さ
れた品物は、後室１８から炉外に搬送する。 第１表は、この発明の方法により処理した品物
と従来の方法により処理した品物との表面仕上り
肌、表面に形成された化合物層の厚さおよび表面
硬さを比較するために実施した試験結果である。 試験には、バツチ型ガス軟窒化炉を使用し、
SPCCおよびS45Cの材質からなる被処理物につい
て行なつた。前室への導入ガスは市販のボンベ入
り窒素ガスを使用して、加熱炉における雰囲気ガ
スは、アンモニアガス70％、有機液剤分解ガス30
％の混合ガスとし、処理温度570℃で２時間処理
した後、油冷却した。
【表】
第１表の結果から明らかなように、この発明の
方法により処理した品物は、従来の方法により処
理した品物に比べて、表面仕上り肌が光輝である
だけでなく、表面の化合物層の厚さが厚くなり、
表面硬さも硬くなり、しかもそれらのばらつきが
少なく均一な表面層が得られることが判る。 以上、説明したように、この発明は、ガス軟窒
化炉の前室に、露点温度が被処理物の表面温度よ
りも低いガスを導入して、前室内の雰囲気ガスの
露点温度を被処理物の表面温度より低下させた後
に、被処理物を前室に搬入する構成としているか
ら、前室に搬入された被処理物の表面に水滴を発
生させずに加熱室におけるガス軟窒化処理を行う
ことが可能となる。したがつて、この発明によれ
ば、従来のように水滴にアンモニアが溶け込んだ
り、析出炭素が付着することがなくなるから、表
面の仕上り肌を光輝にすることができるだけでな
く、表面に形成される化合物層の厚さが均一とな
り、さらに、表面硬さのばらつきの幅も小さく、
すぐれた品質の品物を得ることができる。 また、この発明によれば、従来のガス軟窒化炉
に大きな設備を追加することなく、僅少の設備費
で実施することができるだけでなく、処理工程も
簡単であるから、短時間での処理が可能となる。
方法により処理した品物は、従来の方法により処
理した品物に比べて、表面仕上り肌が光輝である
だけでなく、表面の化合物層の厚さが厚くなり、
表面硬さも硬くなり、しかもそれらのばらつきが
少なく均一な表面層が得られることが判る。 以上、説明したように、この発明は、ガス軟窒
化炉の前室に、露点温度が被処理物の表面温度よ
りも低いガスを導入して、前室内の雰囲気ガスの
露点温度を被処理物の表面温度より低下させた後
に、被処理物を前室に搬入する構成としているか
ら、前室に搬入された被処理物の表面に水滴を発
生させずに加熱室におけるガス軟窒化処理を行う
ことが可能となる。したがつて、この発明によれ
ば、従来のように水滴にアンモニアが溶け込んだ
り、析出炭素が付着することがなくなるから、表
面の仕上り肌を光輝にすることができるだけでな
く、表面に形成される化合物層の厚さが均一とな
り、さらに、表面硬さのばらつきの幅も小さく、
すぐれた品質の品物を得ることができる。 また、この発明によれば、従来のガス軟窒化炉
に大きな設備を追加することなく、僅少の設備費
で実施することができるだけでなく、処理工程も
簡単であるから、短時間での処理が可能となる。
第１図は、この発明の方法に用いるバツチ型ガ
ス軟窒化炉の縦断側面図、第２図は、この発明の
方法に用いる連続型ガス軟窒化炉の縦断側面図で
ある。 図中、１０は前室、１２は加熱室、２０は窒素
ガス導入管である。
ス軟窒化炉の縦断側面図、第２図は、この発明の
方法に用いる連続型ガス軟窒化炉の縦断側面図で
ある。 図中、１０は前室、１２は加熱室、２０は窒素
ガス導入管である。
Claims (1)
- １ ガス軟窒化炉の前室を経て加熱室に送られた
被処理物をガス軟窒化処理するに当り、被処理物
の表面温度よりも露点温度の低いガスを前室内に
導入し、前室内の雰囲気ガスの露点温度が被処理
物の表面温度よりも低下した後に、被処理物を前
室内に搬入することを特徴とするガス軟窒化法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13687882A JPS5928566A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | ガス軟窒化法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13687882A JPS5928566A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | ガス軟窒化法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5928566A JPS5928566A (ja) | 1984-02-15 |
| JPS6349747B2 true JPS6349747B2 (ja) | 1988-10-05 |
Family
ID=15185643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13687882A Granted JPS5928566A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | ガス軟窒化法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5928566A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57187301A (en) * | 1981-05-12 | 1982-11-18 | Nippon Paint Co Ltd | Emulsion resin |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS576001A (en) * | 1980-06-14 | 1982-01-12 | Kajima Corp | Slab installation enclosing iron frame constructed beam therein |
-
1982
- 1982-08-06 JP JP13687882A patent/JPS5928566A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5928566A (ja) | 1984-02-15 |
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