JPS6350780A - 中性子線量測定のためのα崩壊する親物質源に依存して選択的に低質量の核分裂可能なデポジットの製造方法 - Google Patents
中性子線量測定のためのα崩壊する親物質源に依存して選択的に低質量の核分裂可能なデポジットの製造方法Info
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- JPS6350780A JPS6350780A JP62203594A JP20359487A JPS6350780A JP S6350780 A JPS6350780 A JP S6350780A JP 62203594 A JP62203594 A JP 62203594A JP 20359487 A JP20359487 A JP 20359487A JP S6350780 A JPS6350780 A JP S6350780A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
11]li
本発明は、核分裂可能なデポジットを製造する方法及び
装置に係わり、特に、反跳イオン注入による原子炉中性
子線置針のための超低質量の核分裂可能なデポジットを
基体上に製造する方法及びそれに関連の装置に関する。
装置に係わり、特に、反跳イオン注入による原子炉中性
子線置針のための超低質量の核分裂可能なデポジットを
基体上に製造する方法及びそれに関連の装置に関する。
超低質量の核分裂可能なデポジットは、高強度の中性早
場における固体飛跡記録体による核分裂レート(率)の
測定のための核分裂源として有用であることが判明して
いる。このような核分裂レート測定は、中性子線量の情
報を導出するのに用いられる。
場における固体飛跡記録体による核分裂レート(率)の
測定のための核分裂源として有用であることが判明して
いる。このような核分裂レート測定は、中性子線量の情
報を導出するのに用いられる。
薄い核分裂可能なデポジットに隣接して配置された固体
飛跡記録体は、デポジットにおける核分裂から生ずる反
跳核分裂破片の飛跡を記録する。
飛跡記録体は、デポジットにおける核分裂から生ずる反
跳核分裂破片の飛跡を記録する。
核分裂可能なデポジットが充分に薄い場合には、自己吸
収効果は無視することができる。固体飛跡記録体の化学
的エツチング後に光学的m微鏡を用いて観察されるこの
ような飛跡の数は、核分裂可能なデポジット内に生起し
た核分裂数に比例する。
収効果は無視することができる。固体飛跡記録体の化学
的エツチング後に光学的m微鏡を用いて観察されるこの
ような飛跡の数は、核分裂可能なデポジット内に生起し
た核分裂数に比例する。
従って固体飛跡記録体における平方センナ毎の核分裂破
片の飛跡の数、即ち飛跡密度を用いて、核分裂可能なデ
ポジットにおける単位面積当たりの核分裂レートを計算
することができる。
片の飛跡の数、即ち飛跡密度を用いて、核分裂可能なデ
ポジットにおける単位面積当たりの核分裂レートを計算
することができる。
原子炉の炉心の線i測定或いは炉心要素の線I測定のよ
うな典型的な高中性子フルエンスの用途においては、過
度の飛跡オーバーラツプ(重なり)を伴うことなく使用
することができる最大飛跡密度、通常は約10′飛跡/
e 112に起因する制限が固体飛跡記録体の使用に
は課せられることが判明している。このような過度に高
い飛跡密度を回避するために、低質量の核分裂可能なデ
ポジットを用いて、所与の中性子フルエンスで生起する
核分裂数を減少することができる。
うな典型的な高中性子フルエンスの用途においては、過
度の飛跡オーバーラツプ(重なり)を伴うことなく使用
することができる最大飛跡密度、通常は約10′飛跡/
e 112に起因する制限が固体飛跡記録体の使用に
は課せられることが判明している。このような過度に高
い飛跡密度を回避するために、低質量の核分裂可能なデ
ポジットを用いて、所与の中性子フルエンスで生起する
核分裂数を減少することができる。
例えば軽水形原子炉圧力容器の監視のための線量測定に
おいて、1.5 ×10−”ダラム程の小さい質量の2
35Uのデポジットが、使用可能な固体飛跡記録体の飛
跡密度を発生するのに要求される。同様に、軽水形原子
炉圧力容器の監視における線量測定には、221N、、
2311J及び131puのような他の少量の同位体
が要求される。
おいて、1.5 ×10−”ダラム程の小さい質量の2
35Uのデポジットが、使用可能な固体飛跡記録体の飛
跡密度を発生するのに要求される。同様に、軽水形原子
炉圧力容器の監視における線量測定には、221N、、
2311J及び131puのような他の少量の同位体
が要求される。
このような低質量のデポジットの製造と関連する技術上
の問題は、超低質量の核分裂可能なデポジットの質量を
それぞれ特異的に実現する放射性同位体のスパイキング
/電気めっき法を用いることにより克服できることが判
明した1例えば、超低質量のデポジットは、例えば25
%Uに対しては同位体スパイクとして!!?1J(7日
間の半減期)を用い、237N、のスパイクとして23
1)1.(2,4日の半減期)を用い、2コIpuのた
めのスパイクとして”@Pu <2.85年の半減期)
を使用する電気めっき法により製造することができる。
の問題は、超低質量の核分裂可能なデポジットの質量を
それぞれ特異的に実現する放射性同位体のスパイキング
/電気めっき法を用いることにより克服できることが判
明した1例えば、超低質量のデポジットは、例えば25
%Uに対しては同位体スパイクとして!!?1J(7日
間の半減期)を用い、237N、のスパイクとして23
1)1.(2,4日の半減期)を用い、2コIpuのた
めのスパイクとして”@Pu <2.85年の半減期)
を使用する電気めっき法により製造することができる。
各核分裂可能なデポジットの主同位体の放射能が原因で
、本発明に従って用いることができるような低い質量で
主同位体が存在する場合には該主同位体の検出が不可能
になると言う事実を克服するために、化学的トレーサと
しては短い半減期の同位体スパイクが使用されている。
、本発明に従って用いることができるような低い質量で
主同位体が存在する場合には該主同位体の検出が不可能
になると言う事実を克服するために、化学的トレーサと
しては短い半減期の同位体スパイクが使用されている。
しかしながらまた、核分裂可能なデポジットに添加する
ことができる同位体スパイクの量は、同位体スパイクの
原子核の性質により制限されることが判明している1例
えば 2コ?llは崩壊して、それ自体核分裂性である
23ffNpになる。スパイクの崩壊で場合により生成
される同位体の量は、(添加されるスパイクの量を制限
することにより)デポジット内の関心のある同位体の崩
壊レートに比べてスパイクが崩壊して生成される同位体
の核分裂レートを小さく保持するのに充分な程に小さく
しなければならない、また、添加される237Uが2″
Uに対し有効な放射化学的トレーサとなるようにするた
めには、一連の化学的処理段階酸るいは化学的平衡化処
理を実施しなければならない 231jlに237Uを
添加した後に、この混合物を交互に化学的に酸化及び還
元して、25?u及びzssBを酸化状態にある同じ混
合物に変化させなければならない、このような化学的処
理は、典型的に、1日乃至2日の日時を特徴とする 特に、221p、のデポジットに間して述べると、2°
Pu同位体スパイク自体が核分裂性であり、従って制限
された量で使用しなければならない、加えるに、!3@
pIJでスパイキングしたzxtlIのデポジットの場
合には、幾つかの実験上の問題が生ずる。
ことができる同位体スパイクの量は、同位体スパイクの
原子核の性質により制限されることが判明している1例
えば 2コ?llは崩壊して、それ自体核分裂性である
23ffNpになる。スパイクの崩壊で場合により生成
される同位体の量は、(添加されるスパイクの量を制限
することにより)デポジット内の関心のある同位体の崩
壊レートに比べてスパイクが崩壊して生成される同位体
の核分裂レートを小さく保持するのに充分な程に小さく
しなければならない、また、添加される237Uが2″
Uに対し有効な放射化学的トレーサとなるようにするた
めには、一連の化学的処理段階酸るいは化学的平衡化処
理を実施しなければならない 231jlに237Uを
添加した後に、この混合物を交互に化学的に酸化及び還
元して、25?u及びzssBを酸化状態にある同じ混
合物に変化させなければならない、このような化学的処
理は、典型的に、1日乃至2日の日時を特徴とする 特に、221p、のデポジットに間して述べると、2°
Pu同位体スパイク自体が核分裂性であり、従って制限
された量で使用しなければならない、加えるに、!3@
pIJでスパイキングしたzxtlIのデポジットの場
合には、幾つかの実験上の問題が生ずる。
例えば、典型的な運転サイクル中、稼働中の工業用発電
原子炉の環状間隙内の中心平面位置で固体飛跡記録計で
22!pu核分裂レートを測定する場合には、最適な核
分裂飛跡数を得るためには、10− ’ 2グラム台の
質量を有する13!puの核分裂可能なデポジットが要
求される。即ち、先に説明した限界に起因し、このよう
なio−’ 3グラムの239puデポジツトに対して
は、許容最大23@Pu/23SP、スパイク比率で毎
分僅か約0.3壊変(0,3dps)の計数レートしか
生じない。
原子炉の環状間隙内の中心平面位置で固体飛跡記録計で
22!pu核分裂レートを測定する場合には、最適な核
分裂飛跡数を得るためには、10− ’ 2グラム台の
質量を有する13!puの核分裂可能なデポジットが要
求される。即ち、先に説明した限界に起因し、このよう
なio−’ 3グラムの239puデポジツトに対して
は、許容最大23@Pu/23SP、スパイク比率で毎
分僅か約0.3壊変(0,3dps)の計数レートしか
生じない。
質量校正の目的から、このデポジットの崩壊レートを2
%以上となるように良好に特性化したい場合には、約1
2日の計数時間が要求されるであろう、実際には、高質
Ji(例えば、6X10−1’ダラム)が用いられてそ
れにより高い計数レートもしくは計数率(例えばldp
m)及び短い計数時間(例えば、2日間)となるように
している。しかしながら、その場合に得られる飛跡密度
は高くなり、計数が更に困難になる。また試料計数率が
低いために、約0.1dpm程度の非常に低いバックグ
ラウンド計数率を有する計数器を使用しなければならな
い、しかしながら、同位体スパイクの崩壊性により低い
バックグラウンドの維持は困難になる0例えば、23@
Puは次のように崩壊する。
%以上となるように良好に特性化したい場合には、約1
2日の計数時間が要求されるであろう、実際には、高質
Ji(例えば、6X10−1’ダラム)が用いられてそ
れにより高い計数レートもしくは計数率(例えばldp
m)及び短い計数時間(例えば、2日間)となるように
している。しかしながら、その場合に得られる飛跡密度
は高くなり、計数が更に困難になる。また試料計数率が
低いために、約0.1dpm程度の非常に低いバックグ
ラウンド計数率を有する計数器を使用しなければならな
い、しかしながら、同位体スパイクの崩壊性により低い
バックグラウンドの維持は困難になる0例えば、23@
Puは次のように崩壊する。
このように、23Gpuの崩壊から多くの欣射性崩喰生
成物が累積し、これら崩壊生成物は、清浄により計数器
から周期的に除去して低い計数器バ・ンクグラウンドを
維持しなければならない。
成物が累積し、これら崩壊生成物は、清浄により計数器
から周期的に除去して低い計数器バ・ンクグラウンドを
維持しなければならない。
上の説明から明らかなように、原子炉線量測定のための
超低質量の核分裂可能なデボジ・ソトを製造する単純で
信頼性の高い方法が必要とされている。
超低質量の核分裂可能なデボジ・ソトを製造する単純で
信頼性の高い方法が必要とされている。
免朋!■L1
従って、本発明の1つの目的は、同位体スパイキング手
法の必要性を回避することができる反跳イオン注入によ
り原子炉中性子線量計のための超低質量の核分裂可能な
デポジットを製造するための方法及び装置を提供するこ
とにある。
法の必要性を回避することができる反跳イオン注入によ
り原子炉中性子線量計のための超低質量の核分裂可能な
デポジットを製造するための方法及び装置を提供するこ
とにある。
本発明の他の目的は、電気めっき法並びにそれに関連の
高純度という化学的要件に対する必要性を回避すること
が可能な反跳イオン注入による原子炉中性子線量測定の
ための超低質量の核分裂可能なデポジットを製造するた
めの方法及び装置を提供することにある。
高純度という化学的要件に対する必要性を回避すること
が可能な反跳イオン注入による原子炉中性子線量測定の
ための超低質量の核分裂可能なデポジットを製造するた
めの方法及び装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、電気めっき法では従来得られなか
った極めて均質なデポジットを製造することができる反
跳イオン注入による原子炉中性子線量測定のための超低
質量の核分裂可能なデポジットを製造するための方法及
び装置を提供することにある。
った極めて均質なデポジットを製造することができる反
跳イオン注入による原子炉中性子線量測定のための超低
質量の核分裂可能なデポジットを製造するための方法及
び装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、装置だけの校正しか必要とされな
い反跳イオン注入による原子炉中性子線量測定のための
超低質量の核分裂可能なデポジットを製造するための方
法及び装置を提供することにある。
い反跳イオン注入による原子炉中性子線量測定のための
超低質量の核分裂可能なデポジットを製造するための方
法及び装置を提供することにある。
本発明の更に他・の目的は、イオン注入に対し種々な基
材を使用することが可能な反跳イオン注入による原子炉
中性子線量測定のための超低質量の核分裂デポジットを
製造する方法及び装置を提供することにある。
材を使用することが可能な反跳イオン注入による原子炉
中性子線量測定のための超低質量の核分裂デポジットを
製造する方法及び装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、生成される核分裂可能なデポジッ
トの質量を正確に制御することができる反跳イオン注入
による原子炉中性子線量測定のための超低質量の核分裂
可能なデポジットを製造するための方法及び装置を提供
することにある。
トの質量を正確に制御することができる反跳イオン注入
による原子炉中性子線量測定のための超低質量の核分裂
可能なデポジットを製造するための方法及び装置を提供
することにある。
本発明の他の目的は、核分裂可能なデポジットに得られ
る物質が同位体として純粋である反跳イオン注入による
原子炉中性子線量測定のための超低質量の核分裂可能な
デポジットを製造することための方法及び装置を提供す
ることにある。
る物質が同位体として純粋である反跳イオン注入による
原子炉中性子線量測定のための超低質量の核分裂可能な
デポジットを製造することための方法及び装置を提供す
ることにある。
本発明の更に他の目的は、固体の飛跡記録体上に極めて
低い質量の核分裂可能なデポジットを生成することがで
きる反跳イオン注入による原子炉中性子線量計のための
超低質量の核分裂可能なデポジットを製造するための方
法及び装置を提供することにある。
低い質量の核分裂可能なデポジットを生成することがで
きる反跳イオン注入による原子炉中性子線量計のための
超低質量の核分裂可能なデポジットを製造するための方
法及び装置を提供することにある。
本発明の上に述べた目的並びに他の目的を達成するため
に、本発明によれば、関心のある娘同位体の放射性親物
質であるアルファ放射源を用いて、基村内に、アルファ
崩壊から生ずる娘同位体の反跳イオンを注入するアルフ
ァ反跳イオン注入方法及び関連の装置が提案される0例
えば薄い層の形態にある241A−源を、アルファ放射
源並びに固体飛跡記録体をそれぞれ受容している対向し
て設けられた円板を回転するためのアッセンブリが収容
された真空室内に、固体飛跡記録体のような基材に対し
隣接して配置することができる 241Allの各アル
ファ崩壊で、固体飛跡記録体に注入するのに充分な反跳
エネルギを有する231Npイオンが得られる。この方
法及び装置を用いて、231pu、2コ51J及びxs
sUの核分裂可能なデポジットをも製造することができ
る。このようにして、高い中性子インフルエンス線量測
定に対して好適な質量を有する核分裂可能なデポジット
が得られる。
に、本発明によれば、関心のある娘同位体の放射性親物
質であるアルファ放射源を用いて、基村内に、アルファ
崩壊から生ずる娘同位体の反跳イオンを注入するアルフ
ァ反跳イオン注入方法及び関連の装置が提案される0例
えば薄い層の形態にある241A−源を、アルファ放射
源並びに固体飛跡記録体をそれぞれ受容している対向し
て設けられた円板を回転するためのアッセンブリが収容
された真空室内に、固体飛跡記録体のような基材に対し
隣接して配置することができる 241Allの各アル
ファ崩壊で、固体飛跡記録体に注入するのに充分な反跳
エネルギを有する231Npイオンが得られる。この方
法及び装置を用いて、231pu、2コ51J及びxs
sUの核分裂可能なデポジットをも製造することができ
る。このようにして、高い中性子インフルエンス線量測
定に対して好適な質量を有する核分裂可能なデポジット
が得られる。
以下、本発明の一実施例を示す添付図面を参照して本発
明の原理に関し詳細に説明する。
明の原理に関し詳細に説明する。
−実 の至−な」[朋−
本発明の好速な実施例について説明する。
235Uを生成するための方法及びそれと関連して用い
られる装置について最初に説明する。′35υは、次式
(1)に従い231puの崩壊により発生される。
られる装置について最初に説明する。′35υは、次式
(1)に従い231puの崩壊により発生される。
231p、によって放出されるアルファ(α)粒子は、
5.18MeVのエネルギーを有する。運動量の保存則
から、 (αエネルギー)(α質l=(反跳エネルギー)(反跳
質Jl) <2)式(2)を用いて 反跳エネルギー= (4/235N5.16 MeV)
<3)= 8.78 ×10 HeV (4
)== 87.8 keV
(5)このように、各231p、の崩壊で、 87.
8ke■の反跳2コSIJを伴い5.18MeVのアル
ファ粒子が発生する。
5.18MeVのエネルギーを有する。運動量の保存則
から、 (αエネルギー)(α質l=(反跳エネルギー)(反跳
質Jl) <2)式(2)を用いて 反跳エネルギー= (4/235N5.16 MeV)
<3)= 8.78 ×10 HeV (4
)== 87.8 keV
(5)このように、各231p、の崩壊で、 87.
8ke■の反跳2コSIJを伴い5.18MeVのアル
ファ粒子が発生する。
2ff惨p、の薄いデポジットを真空中に置いた場合に
は、2°Puの約50%の崩壊で、真空中に25SJJ
イオンが反跳される。適当な基材(基板)を、真空中内
で23gPu源に隣接して配置した場合には、反跳21
5Uイオンは、基材の表面に注入(打込み)され、その
結果、超低質量の2′Sjlのデポジットが形成される
。
は、2°Puの約50%の崩壊で、真空中に25SJJ
イオンが反跳される。適当な基材(基板)を、真空中内
で23gPu源に隣接して配置した場合には、反跳21
5Uイオンは、基材の表面に注入(打込み)され、その
結果、超低質量の2′Sjlのデポジットが形成される
。
ベータまたはガンマ放射は、それぞれの娘元素を基村内
に注入するのに充分な運動量を有していないので、本発
明はアルファ反跳イオン注入に最も良く適している。
に注入するのに充分な運動量を有していないので、本発
明はアルファ反跳イオン注入に最も良く適している。
エル・シー・ノースクリラフ(L−C−Northcl
1ffe)及びアール・エフ・シリング(R−F−S
chilling)の「ニュークリア・データ・テーブ
ルズ(NuclearData Tables)」、八
7、頁233−493(1970)の[レインジ・エン
ド・ヅトッピング・パワー・テーブルズ・フォア・ヘビ
イ・イオンズ(Range and Stopping
Power Tables rot Heavyron
s)」に掲載されている周知の飛程(到達距離)−エネ
ルギー表の外挿を用いて、87.8keV2コsUイオ
ンの反跳範囲は約10μg/c112であると推定され
る。従って、10μg7cm2の239puJii7が
その反跳粒子の約50%を捕捉し、従って21!puN
の実効最大厚さは約5μg/cta2とすることができ
る。このように、22SU反跳範囲よりも大きい厚さを
有する10c−直径の219p、層の場合には、tss
puNから逃げる215U反跳粒子の数は、= 9.1
7 X 10 イオン/’e (6)= 7
.92 ×10 イオン7日 (7)となる
、この2ff5pu源から5cmの距離にある基材に対
しては、大まかに、2.5 X 10”個の23SIJ
イオン/C112ノ日の注入が行われる。
1ffe)及びアール・エフ・シリング(R−F−S
chilling)の「ニュークリア・データ・テーブ
ルズ(NuclearData Tables)」、八
7、頁233−493(1970)の[レインジ・エン
ド・ヅトッピング・パワー・テーブルズ・フォア・ヘビ
イ・イオンズ(Range and Stopping
Power Tables rot Heavyron
s)」に掲載されている周知の飛程(到達距離)−エネ
ルギー表の外挿を用いて、87.8keV2コsUイオ
ンの反跳範囲は約10μg/c112であると推定され
る。従って、10μg7cm2の239puJii7が
その反跳粒子の約50%を捕捉し、従って21!puN
の実効最大厚さは約5μg/cta2とすることができ
る。このように、22SU反跳範囲よりも大きい厚さを
有する10c−直径の219p、層の場合には、tss
puNから逃げる215U反跳粒子の数は、= 9.1
7 X 10 イオン/’e (6)= 7
.92 ×10 イオン7日 (7)となる
、この2ff5pu源から5cmの距離にある基材に対
しては、大まかに、2.5 X 10”個の23SIJ
イオン/C112ノ日の注入が行われる。
原子炉空洞中間平面内固体飛跡記録体中性子線量計に対
する235Uの質量要件は、例えば、1.5 XIQ”
ダラムである。典型例において、このデポジットは、0
.635cm(1/4インチ)の直径の傾城に亙る広が
りを有する。その結果得られるデポジットの原子密度は
、2jSllの1.21 ×10’原子/am”である
、この厚さのデポジットを生成するのに要求される時間
は、 固体飛跡記録体中性子線量計は典型的に、1.1cmの
総合直径を有している。従って、約25乃至50個の固
体飛跡記録体を、10cm+直径の2jSpu源に隣接
して同時に想射することができよう、以下に説明する参
照数字1で総括的に第1図に示したような装置が用いら
れる。
する235Uの質量要件は、例えば、1.5 XIQ”
ダラムである。典型例において、このデポジットは、0
.635cm(1/4インチ)の直径の傾城に亙る広が
りを有する。その結果得られるデポジットの原子密度は
、2jSllの1.21 ×10’原子/am”である
、この厚さのデポジットを生成するのに要求される時間
は、 固体飛跡記録体中性子線量計は典型的に、1.1cmの
総合直径を有している。従って、約25乃至50個の固
体飛跡記録体を、10cm+直径の2jSpu源に隣接
して同時に想射することができよう、以下に説明する参
照数字1で総括的に第1図に示したような装置が用いら
れる。
この装置1は、真空室12内に包入されているアッセン
ブリ10を有する。該アッセンブリ10は、ディスク〈
円板)16に対向するディスク14を有しており、これ
ら2つのディスク間の間隔は約5cmである。
ブリ10を有する。該アッセンブリ10は、ディスク〈
円板)16に対向するディスク14を有しており、これ
ら2つのディスク間の間隔は約5cmである。
ディスク14及びディスク16はそれぞれ約10cmの
直径を有する。ディスク14の材料としては、高純度の
ニラゲルを使用するのが好ましい。後述する放射性親物
質とディスク14の物質との間に良好な接着特性が存在
する限り、ステンレス鋼のような他の高純度の金属を代
わりに用いることができる。
直径を有する。ディスク14の材料としては、高純度の
ニラゲルを使用するのが好ましい。後述する放射性親物
質とディスク14の物質との間に良好な接着特性が存在
する限り、ステンレス鋼のような他の高純度の金属を代
わりに用いることができる。
ディスク14の下部表面は、放射性親物質源である1o
力g/。2の2コ@p、層19でめっきされている。デ
ィスク16は5層19に対面するように少なくとも1つ
の基材15を備えている。この基材】5は、例えば、複
数個のマイカ、石英或いはジルコン固体飛跡記録ウェー
ハ17を有しており、各ウェーハは、反跳イオン注入に
より沈着(デポジットされる)核分裂可能な娘物質21
のを受けるためのものであって約1.1cmの直径を有
している。例えば、モータ18により、各ディスク14
及び16の中心を通る軸線22を中心にディスク14を
回転して、デポジットの均質性を確保する。各ウェーハ
17もまた、ディスク16に対しそれぞれの軸線を中心
に回転される。この結果、各ウェーハ17には均質なデ
ポジットが得られ、装置に対する校正機能が実現される
。即ち、各ウェーハ」二の各均質なデポジットの量は、
ディスク14の回転軸線からの各ウェーハの半径方向の
位置に依存して決定することできる。この回転は、例え
ば、駆動手段20によりモータに動作可能に接続されて
いる一層の歯車を各個々のウェーハ17において使用す
ることにより達成することができる。
力g/。2の2コ@p、層19でめっきされている。デ
ィスク16は5層19に対面するように少なくとも1つ
の基材15を備えている。この基材】5は、例えば、複
数個のマイカ、石英或いはジルコン固体飛跡記録ウェー
ハ17を有しており、各ウェーハは、反跳イオン注入に
より沈着(デポジットされる)核分裂可能な娘物質21
のを受けるためのものであって約1.1cmの直径を有
している。例えば、モータ18により、各ディスク14
及び16の中心を通る軸線22を中心にディスク14を
回転して、デポジットの均質性を確保する。各ウェーハ
17もまた、ディスク16に対しそれぞれの軸線を中心
に回転される。この結果、各ウェーハ17には均質なデ
ポジットが得られ、装置に対する校正機能が実現される
。即ち、各ウェーハ」二の各均質なデポジットの量は、
ディスク14の回転軸線からの各ウェーハの半径方向の
位置に依存して決定することできる。この回転は、例え
ば、駆動手段20によりモータに動作可能に接続されて
いる一層の歯車を各個々のウェーハ17において使用す
ることにより達成することができる。
ディスク16もまた駆動手段20により回転することが
できる。一般に、少なくとも2つの独立した回転を行う
べきであり、親物質薄層19と各ウェーハ17の独立し
た回転を行うようにするのが有利である。
できる。一般に、少なくとも2つの独立した回転を行う
べきであり、親物質薄層19と各ウェーハ17の独立し
た回転を行うようにするのが有利である。
複数個のウェーハ17は、通常グローブ・ボックス内に
設けられている真空室12内に迅速に挿入する前に、清
浄(層流)領域に装入するのが好ましい。
設けられている真空室12内に迅速に挿入する前に、清
浄(層流)領域に装入するのが好ましい。
グローブ・ボックスは、該ボックス内の親物質源から放
出される放射能を環境から隔離するために通常用いられ
る容器である。
出される放射能を環境から隔離するために通常用いられ
る容器である。
実施においては、この新規な方法は従来の方法よりも単
純で且つより経済的である。加えるに、本発明に従い形
成される核分裂可能なデポジットの中には極めて大きい
耐久性を有し、基材を清浄するための洗浄に耐えること
ができるデポジットがある。
純で且つより経済的である。加えるに、本発明に従い形
成される核分裂可能なデポジットの中には極めて大きい
耐久性を有し、基材を清浄するための洗浄に耐えること
ができるデポジットがある。
約25個のデポジットを5日で造ることができ、そして
アッセンブリ10を校正することにより、デポジットに
対する校正要件は軽減される。即ち、時開の関数として
何個のイオンが特定のウェーハ17に当たるかを測定す
るために一連の試行実験を行うことができる。その場合
、例えば、後述するように、崩壊してプルトニウムとな
る反跳2311pを生成するのに243A繭源を用いる
場合には、アッセンブリ10を、綿密に制御された条件
下で作動する。
アッセンブリ10を校正することにより、デポジットに
対する校正要件は軽減される。即ち、時開の関数として
何個のイオンが特定のウェーハ17に当たるかを測定す
るために一連の試行実験を行うことができる。その場合
、例えば、後述するように、崩壊してプルトニウムとな
る反跳2311pを生成するのに243A繭源を用いる
場合には、アッセンブリ10を、綿密に制御された条件
下で作動する。
次いで、ウェーハ17上にどれ程多くの231Npが存
在するかを放射測定手法で求める。このようにして得ら
れた校正量を用いて、爾後の再校止杆うことなく、他の
ウェーハ17を生成することができる。
在するかを放射測定手法で求める。このようにして得ら
れた校正量を用いて、爾後の再校止杆うことなく、他の
ウェーハ17を生成することができる。
即ち、成る反跳粒子厚さが10分以内でウェーハ17上
に形成された場合には、それに対応し、照射を20分間
行うとすると、2倍の反跳粒子厚さが得られることが期
待されるからである。
に形成された場合には、それに対応し、照射を20分間
行うとすると、2倍の反跳粒子厚さが得られることが期
待されるからである。
更に、ここに記載する均質な2′5U、2)7Np、2
1g1J及び239puデポジツトの生成は、飛跡の計
数を非常に単純化する。現在においては、不均質なデポ
ジットの全表面に互り定量的な飛跡計数が要求されてい
る。これに対し、本発明のこの新規な方法によれば、均
質な飛跡密度の試料採取しか必要とされない。
1g1J及び239puデポジツトの生成は、飛跡の計
数を非常に単純化する。現在においては、不均質なデポ
ジットの全表面に互り定量的な飛跡計数が要求されてい
る。これに対し、本発明のこの新規な方法によれば、均
質な飛跡密度の試料採取しか必要とされない。
次に、237Npの生成に関する別の実施例について説
明する。
明する。
23?Npは次のようにして211/II*の崩壊によ
り生成される。
り生成される。
2+1八糟により放出されるアルファ粒子は、5.49
HeVのエネルギーを有している。式(2)を用いて、
反跳エネルギー= (4/237)(5,49Me’/
) (10>= 9.27 x 1.OMeV
(11)= 92.7 keV (12)こ
のように、各241八請の崩壊で、92.7keVの2
3フNpの反跳を伴う5.49HeVのアルファ粒子が
生ずる。
HeVのエネルギーを有している。式(2)を用いて、
反跳エネルギー= (4/237)(5,49Me’/
) (10>= 9.27 x 1.OMeV
(11)= 92.7 keV (12)こ
のように、各241八請の崩壊で、92.7keVの2
3フNpの反跳を伴う5.49HeVのアルファ粒子が
生ずる。
上述の実施例に従って決定されるような241^糟の薄
いデポジットを真空中に置いた場合には、相応量の崩壊
で、真空中に23Jpの反跳が生ずる。基材?上述のよ
うに、”’Amiに隣接して真空中に置いた場合には、
反跳2ff?lpイオンが基材の表面に注入く打込み)
されて、237Npの超低質量のデポジットが形成され
る。
いデポジットを真空中に置いた場合には、相応量の崩壊
で、真空中に23Jpの反跳が生ずる。基材?上述のよ
うに、”’Amiに隣接して真空中に置いた場合には、
反跳2ff?lpイオンが基材の表面に注入く打込み)
されて、237Npの超低質量のデポジットが形成され
る。
再び、ノースクリラフ及びシリングの飛程−エネルギー
表の外挿を用いて、92.7keVの237Npイオン
の反跳範囲は約1CIALg/e+i”であると推定さ
れる。従って、10μH/c+s”の2″’Am層が反
跳粒子の約50%を捕捉することになり、その結果とし
てス鴫1^−層の実効最大厚さは約5μ!+ / c
m 2となり得る。
表の外挿を用いて、92.7keVの237Npイオン
の反跳範囲は約1CIALg/e+i”であると推定さ
れる。従って、10μH/c+s”の2″’Am層が反
跳粒子の約50%を捕捉することになり、その結果とし
てス鴫1^−層の実効最大厚さは約5μ!+ / c
m 2となり得る。
23?Np反跳粒子飛程より大きい厚さを有する10c
m直径の241AII1層の場合には、該241Al1
層から逃げる反跳231Npの数は、次のように計算で
求めることができる。
m直径の241AII1層の場合には、該241Al1
層から逃げる反跳231Npの数は、次のように計算で
求めることができる。
= 4.71 X 10 イオンハ少 (1
3)=4.07・1012付ン/日 (14)
この241AWA源から5cmの離間距離にある基材に
対しては、毎日毎平方センナメートル当たり約1.3×
1010個の237Hpイオンが注入されることになろ
う。
3)=4.07・1012付ン/日 (14)
この241AWA源から5cmの離間距離にある基材に
対しては、毎日毎平方センナメートル当たり約1.3×
1010個の237Hpイオンが注入されることになろ
う。
原子炉空洞中間平面固体飛跡記録体中性子線量計に対す
る2jJ、の質量要件は6.3 X 10−11グラム
である。この!ff?)ipデポジットは、典型的に、
0.635cra(174インチ)の直径の面積の広が
りを有する。このデポジットに結果的に生ずる原子密度
は、5.05 ×1011原子/am”の2371pで
ある。この厚さを有するデポジットを生成するのに要求
される時間は、 上述のように、固体飛跡記録体中性子線旦計は典型的に
1,1c−の総合直径を有している。約25乃至50個
の固体飛跡記録体を、10clI直径を有する241^
鹸源に隣接して同時に照射することができる。
る2jJ、の質量要件は6.3 X 10−11グラム
である。この!ff?)ipデポジットは、典型的に、
0.635cra(174インチ)の直径の面積の広が
りを有する。このデポジットに結果的に生ずる原子密度
は、5.05 ×1011原子/am”の2371pで
ある。この厚さを有するデポジットを生成するのに要求
される時間は、 上述のように、固体飛跡記録体中性子線旦計は典型的に
1,1c−の総合直径を有している。約25乃至50個
の固体飛跡記録体を、10clI直径を有する241^
鹸源に隣接して同時に照射することができる。
この場合第1図に示し既に説明したような装置が用いら
れる。
れる。
次に、′31Uの生成に関する別の実施例について説明
する。
する。
2)IIJは次のようにして212puの崩壊により生
成される。
成される。
142puより放出されるアルファ粒子は、4.90M
eVのエネルギーを有している0式(2)を用いて、反
跳エネルギー= (4/242)(4,90Men)
(17)= 8.10 x 10 MeV
(18)= 81.Q keV (1
9)このように、各242puの崩壊で、81.0ke
Vの2311Jの反跳を伴う4゜90MeVのアルファ
粒子が生ずる。
eVのエネルギーを有している0式(2)を用いて、反
跳エネルギー= (4/242)(4,90Men)
(17)= 8.10 x 10 MeV
(18)= 81.Q keV (1
9)このように、各242puの崩壊で、81.0ke
Vの2311Jの反跳を伴う4゜90MeVのアルファ
粒子が生ずる。
242puの薄いデポジットを真空中に置いた場合には
、約501の崩壊で、真空中に23−Uの反跳が生ずる
。基材を上述のように、242pu源に隣接して真空中
に置いた場合には、反跳2°υイオンが基材の表面に注
入(打込み)されて、23・Uの超低質量のデポジット
が形成される。
、約501の崩壊で、真空中に23−Uの反跳が生ずる
。基材を上述のように、242pu源に隣接して真空中
に置いた場合には、反跳2°υイオンが基材の表面に注
入(打込み)されて、23・Uの超低質量のデポジット
が形成される。
再び先に引用したノースクリラフ及びシリングの飛程−
エネルギー表の外挿を用いて、81.0keVの23I
υイオンの反跳範囲は約10μg/cw12であると推
定される。従って、10μg/c112の242pu層
が反跳粒子の約501を捕捉することになり、その結果
として242 P u層の実効最大厚さは約5μg/a
s2となり得る。′3sυ反跳粒子飛程より大きい厚さ
を有する10cm直径の242pu層の場合には、該2
42p、1iから逃げる2■υ反跳粒子の数は、 = 5.70 X 10 イオンハ少 (2
0)= 4.93 % 109イオツ/日 (
21)この242p、源から5cmの離間距離にある基
材に対しては、大まかに、毎日毎平方センナメートル当
たり1.8 X 10’個の23113イオンが注入さ
れることになろう。
エネルギー表の外挿を用いて、81.0keVの23I
υイオンの反跳範囲は約10μg/cw12であると推
定される。従って、10μg/c112の242pu層
が反跳粒子の約501を捕捉することになり、その結果
として242 P u層の実効最大厚さは約5μg/a
s2となり得る。′3sυ反跳粒子飛程より大きい厚さ
を有する10cm直径の242pu層の場合には、該2
42p、1iから逃げる2■υ反跳粒子の数は、 = 5.70 X 10 イオンハ少 (2
0)= 4.93 % 109イオツ/日 (
21)この242p、源から5cmの離間距離にある基
材に対しては、大まかに、毎日毎平方センナメートル当
たり1.8 X 10’個の23113イオンが注入さ
れることになろう。
原子炉空洞中間平面固体飛跡記録体中性子線量計に対す
るz’saUの質量要件は7.0 X 10−”ダラム
である。このデポジットは、典型的に、174インチ(
0,635cm)の直径の面積の広がりを有する。この
デポジットに結果的に生ずる原子密度は、235υの5
.59 X 10”原子/am”である、この厚さを有
するデポジットを生成するのに要求される時間は、この
ような時間要件は、原子炉空洞線量計の製造に対し実用
的な時間要件よりも大きいが、線束が、原子炉空洞内に
おけるよりら10コ乃至10′大きい高い粒子フルエン
ス用途の線量計の製造は明らかに容易になる。
るz’saUの質量要件は7.0 X 10−”ダラム
である。このデポジットは、典型的に、174インチ(
0,635cm)の直径の面積の広がりを有する。この
デポジットに結果的に生ずる原子密度は、235υの5
.59 X 10”原子/am”である、この厚さを有
するデポジットを生成するのに要求される時間は、この
ような時間要件は、原子炉空洞線量計の製造に対し実用
的な時間要件よりも大きいが、線束が、原子炉空洞内に
おけるよりら10コ乃至10′大きい高い粒子フルエン
ス用途の線量計の製造は明らかに容易になる。
上述のように、固体飛跡記録体中性子線量計は典型的に
1.1cmの総合直径を有している。約25乃至50個
の固体飛跡記録体を、10cie直径を有する!42p
u源に隣接して同時に照射することができる。
1.1cmの総合直径を有している。約25乃至50個
の固体飛跡記録体を、10cie直径を有する!42p
u源に隣接して同時に照射することができる。
この場合第1図に示し既に説明したような装置が用いる
ことがでる。
ことがでる。
次に、23″Puの生成に関する更に他の実施例につい
て説明する。
て説明する。
!31p、は次のようにして241AI11の崩壊によ
り生成される。
り生成される。
243八箇により放出されるアルファ粒子は、5.28
8eVのエネルギーを有している。再び式(2)を用い
て、反跳エネルギー= (4/239)(5,28Me
V) (24)= 8.84 X 1.0 MeV
(25)= 88.4 keV (
26)このように、各243八鵬の崩壊で、88.4k
eVの2+lJpの反跳を伴う5.28MeVのアルフ
ァ粒子が生ずる。
8eVのエネルギーを有している。再び式(2)を用い
て、反跳エネルギー= (4/239)(5,28Me
V) (24)= 8.84 X 1.0 MeV
(25)= 88.4 keV (
26)このように、各243八鵬の崩壊で、88.4k
eVの2+lJpの反跳を伴う5.28MeVのアルフ
ァ粒子が生ずる。
243^端の薄いデポジットを真空中に置いた場合には
、対応量の崩壊で、真空中にz′sH,の反跳が生ずる
。基材を上述のように24″八m源に隣接して真空中に
置いた場合には、反跳2′914pイオ−ンが基材の表
面に注入(打込み)される、これらzssHp原子は数
週間の期間で総て崩壊して23spuとなり、超低質量
の239puのデポジットが形成される。
、対応量の崩壊で、真空中にz′sH,の反跳が生ずる
。基材を上述のように24″八m源に隣接して真空中に
置いた場合には、反跳2′914pイオ−ンが基材の表
面に注入(打込み)される、これらzssHp原子は数
週間の期間で総て崩壊して23spuとなり、超低質量
の239puのデポジットが形成される。
再び先に引用したノースクリラフ及びシリング飛程−エ
ネルギー表の外挿を用いて、88.4keVの2 ff
IIpイオンの反跳範囲は約10μg7cm2である
と推定される。従って、10μg/cl112の243
i層が反跳粒子の約50%を捕捉することになり、その
結果として21ff八m層の実効最大厚さは約5μg/
caa”となり得る tssHp反跳粒子飛程より大き
い厚さを有するioam直径の24uII層の場合には
、該241^端層から逃げる反跳23IN、の数は、 = 2.90 X 106イオン/秒 (2
7)この24コ^m源から5c+*の離間距離にある基
材に対しては、大まかに、毎日毎平方セン千メートル当
たり9.2 X 10’個の23!Npイオンが注入さ
れることになろう。
ネルギー表の外挿を用いて、88.4keVの2 ff
IIpイオンの反跳範囲は約10μg7cm2である
と推定される。従って、10μg/cl112の243
i層が反跳粒子の約50%を捕捉することになり、その
結果として21ff八m層の実効最大厚さは約5μg/
caa”となり得る tssHp反跳粒子飛程より大き
い厚さを有するioam直径の24uII層の場合には
、該241^端層から逃げる反跳23IN、の数は、 = 2.90 X 106イオン/秒 (2
7)この24コ^m源から5c+*の離間距離にある基
材に対しては、大まかに、毎日毎平方セン千メートル当
たり9.2 X 10’個の23!Npイオンが注入さ
れることになろう。
例えば、原子炉空洞中間平面固体飛跡記録体中性子線量
計の22Spuに対する質量要件は8.9 X 10−
”ダラムであると仮定する。このデポジットは、典型的
に、0.635cm(1/4インチ)の直径の面積の広
がりを有する。このデポジットに結果的に生ずる原子密
度は、239puの7.08 X 10”原子/ew”
である、この厚さを有するデポジットを生成するのに要
求される時間は、 =21.3時 (29) 既に述べたように、固体飛跡記録体中性子線量計は典型
的に、1.1cmの総合直径を有している。
計の22Spuに対する質量要件は8.9 X 10−
”ダラムであると仮定する。このデポジットは、典型的
に、0.635cm(1/4インチ)の直径の面積の広
がりを有する。このデポジットに結果的に生ずる原子密
度は、239puの7.08 X 10”原子/ew”
である、この厚さを有するデポジットを生成するのに要
求される時間は、 =21.3時 (29) 既に述べたように、固体飛跡記録体中性子線量計は典型
的に、1.1cmの総合直径を有している。
従って、約25乃至50個の固体飛跡記録体を、10C
I11直径の243AIl源に隣接して同時に照射する
ことができよう、この目的で第1図に示すような装置な
使用することができよう。
I11直径の243AIl源に隣接して同時に照射する
ことができよう、この目的で第1図に示すような装置な
使用することができよう。
デポジット形成後、例えば8.9 X 10−”ダラム
のzt*Hpからなるデポジットは、4.59 X 1
0’dpmのベータまたはガンマ放射能を有しており、
23!puへの崩壊で容易に質量校正が可能となる。
のzt*Hpからなるデポジットは、4.59 X 1
0’dpmのベータまたはガンマ放射能を有しており、
23!puへの崩壊で容易に質量校正が可能となる。
更に、この方法は、高い中性子フルエンスの測定に固体
飛跡記録体中性子線量計を適用することの展望を実現可
能にする。尤も現在のところ、直接的関心のある用途は
、稼働中の工業用原子炉の圧力容器監視カプセル内での
固体飛跡記録体中性子線量計としての使用であろう。こ
の分野における固体飛跡記録体中性子線量計を使用する
という従前の試みは、核分裂可能なデポジットを生成す
るのに用いられる電気めっき法における固有の質量限界
、線量計の寸法に関する限界並びにデポジットの均一性
という要件から必然的に生ずる高い飛跡密度という極め
て由々しい問題から、成功してはいなかっな、しかしな
がら、例えば、′■υ、7Np、 t3mgおよび23
1pu分裂可能デポジットを製造するここに開示した本
発明によればこのような問題を克服することができると
確信する。
飛跡記録体中性子線量計を適用することの展望を実現可
能にする。尤も現在のところ、直接的関心のある用途は
、稼働中の工業用原子炉の圧力容器監視カプセル内での
固体飛跡記録体中性子線量計としての使用であろう。こ
の分野における固体飛跡記録体中性子線量計を使用する
という従前の試みは、核分裂可能なデポジットを生成す
るのに用いられる電気めっき法における固有の質量限界
、線量計の寸法に関する限界並びにデポジットの均一性
という要件から必然的に生ずる高い飛跡密度という極め
て由々しい問題から、成功してはいなかっな、しかしな
がら、例えば、′■υ、7Np、 t3mgおよび23
1pu分裂可能デポジットを製造するここに開示した本
発明によればこのような問題を克服することができると
確信する。
以上の説明から明らかなように、本発明には、従前の方
法を凌駕する次のような利点を有する。
法を凌駕する次のような利点を有する。
(1)同位体スパイキング方法は必要とされない。
<2 )1気めっき方法並びにそれに関連する高純度と
いう化学的要件が必要とされない。
いう化学的要件が必要とされない。
(3)従来の電気めっき法では達成されていない程高い
均質性を有するデポジットを製造することができる。
均質性を有するデポジットを製造することができる。
(4)装置だけの校正が必要とされるのみで、校正後は
、所与の基材位置におけるデポジット質lは被曝時間に
比例する。
、所与の基材位置におけるデポジット質lは被曝時間に
比例する。
(5)種々の基体を使用することができる。
(6)235[1,2コフNp、2コロU及び211p
、デポジットの質量を正確に制御することができる。
、デポジットの質量を正確に制御することができる。
(7)2”II、23テNp、238U及び231pu
デポジツトに得られる物質は同位体として純粋である。
デポジツトに得られる物質は同位体として純粋である。
(8)極めて低い質量が可能となる。
くっ)イオン注入により形成されるデポジットには耐久
性がある。
性がある。
(10)本発明は従来の方法と比較して単純で然も経済
的である。
的である。
(11)本発明は飛跡の計数を極めて単純容易化する。
以上の説明は本発明の原理の単なる例示に関するものと
見做されるべきであり、当該技術分野の専門家には数多
の変更及び交換が容易に想到し得るであろうから、本発
明を、ここに開示した構造及び動作そのものに限定しよ
うとする意図はないことを明記しておく、従って、本発
明の範囲から逸脱することなく、適当なあらゆる変更及
び均等物が可能であろう。
見做されるべきであり、当該技術分野の専門家には数多
の変更及び交換が容易に想到し得るであろうから、本発
明を、ここに開示した構造及び動作そのものに限定しよ
うとする意図はないことを明記しておく、従って、本発
明の範囲から逸脱することなく、適当なあらゆる変更及
び均等物が可能であろう。
【図面の簡単な説明】
第1図は、反跳イオン注入により超低質量の核分裂可能
なデポジットを製造するための本発明による装置の概略
図である。 10・・・アッセンブリ 12・・・真空室 14.18・・・ディスク 18.2o・・・駆動装置 17・・・デポジットが形成されるウェーハ19・・・
親物質層 第1図
なデポジットを製造するための本発明による装置の概略
図である。 10・・・アッセンブリ 12・・・真空室 14.18・・・ディスク 18.2o・・・駆動装置 17・・・デポジットが形成されるウェーハ19・・・
親物質層 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、中性子線量計のための選択的に低質量の核分裂可能
なデポジットを製造するための方法において、(A)基
材及び崩壊するアルファ放射親物質源を対向関係で離間
して配設し、 (B)前記親物質源が崩壊して対応する質量の核分裂可
能な娘物質が前記基材上に形成されるまでの期間に亙り
前記対向関係を維持する段階を含む中性子線量計のため
の選択的に低質量の核分裂可能なデポジットを製造する
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US897466 | 1986-08-18 | ||
| US06/897,466 US4744938A (en) | 1986-08-18 | 1986-08-18 | Method and apparatus for producing ultralowmass fissionable deposits for reactor neutron dosimetry by recoil ion-implantation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6350780A true JPS6350780A (ja) | 1988-03-03 |
| JP2576871B2 JP2576871B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=25407938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| CO | UK Nuclear Data Progress Report January-December 1983 |