JPS6350921A - 光ヘツド光軸調整装置 - Google Patents
光ヘツド光軸調整装置Info
- Publication number
- JPS6350921A JPS6350921A JP61193332A JP19333286A JPS6350921A JP S6350921 A JPS6350921 A JP S6350921A JP 61193332 A JP61193332 A JP 61193332A JP 19333286 A JP19333286 A JP 19333286A JP S6350921 A JPS6350921 A JP S6350921A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical axis
- laser
- optical
- semiconductor laser
- adjustment device
- Prior art date
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- Pending
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Moving Of The Head For Recording And Reproducing By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光ビデオディスク、コンパクトディスク、記録
再生光ディスク等の光学式ヘッドにより出射する光束を
ディスク上へ集光、照射し、その反射あるいは透過光に
より信号を記録もしくは再生する光学式ヘッドの光軸調
整装置に関するものである。
再生光ディスク等の光学式ヘッドにより出射する光束を
ディスク上へ集光、照射し、その反射あるいは透過光に
より信号を記録もしくは再生する光学式ヘッドの光軸調
整装置に関するものである。
２ページ
従来の技術
以下図面を参照しながら従来の光軸調整装置の一例につ
いて説明する。
いて説明する。
第５図は光ヘッドの光学系の一例である。
第５図において半導体レーザ素子１から出射するレーザ
光線はコリメートレンズ２、整形プリズム系３、偏光ビ
ームスプリッタ−４、％波長板５、対物レンズ６を通過
してディスクに反射した光は単レンズ８を通過しデテク
ター９に入射後、電気信号に変換される。
光線はコリメートレンズ２、整形プリズム系３、偏光ビ
ームスプリッタ−４、％波長板５、対物レンズ６を通過
してディスクに反射した光は単レンズ８を通過しデテク
ター９に入射後、電気信号に変換される。
第９，１０図において上記のように構成された光学ヘッ
ドの光軸取りは、従来Ｈｅ −Ｎｅ レーザのような基
準光源１ｏを出射する光ビームを基準としてその光軸を
合わせるようにプリズム４そして整形プリズム系３を取
付ける。
ドの光軸取りは、従来Ｈｅ −Ｎｅ レーザのような基
準光源１ｏを出射する光ビームを基準としてその光軸を
合わせるようにプリズム４そして整形プリズム系３を取
付ける。
次に前記光軸に合うように半導体レーザ１をＸＹ方向に
微小移動させ半導体レーザを出射する光ビームをＨｅ
−Ｎｏ の光ビーム光軸に合わせていた。
微小移動させ半導体レーザを出射する光ビームをＨｅ
−Ｎｏ の光ビーム光軸に合わせていた。
発明が解決しようとする問題点
第７図に示す様な理想的なビーム方向では第２３ページ
図に示すようにビームスプリッタ−４の中心より出射し
問題ないが、しかし第８図に示すようにレーザのビーム
方向は２°〜３°の角度バラツキを有し、この角度ずれ
を生じた半導体レーザを用いて光軸を合せた場合、半導
体レーザからの出射ビームの強度分布の中心が光軸から
ずれて光軸と光の分布の中心がずれレーザパワーの損失
が発生する。
問題ないが、しかし第８図に示すようにレーザのビーム
方向は２°〜３°の角度バラツキを有し、この角度ずれ
を生じた半導体レーザを用いて光軸を合せた場合、半導
体レーザからの出射ビームの強度分布の中心が光軸から
ずれて光軸と光の分布の中心がずれレーザパワーの損失
が発生する。
従ってより大きな出力が必要になり半導体レーザの寿命
を短かくする可能性がある等の問題点を有していた。
を短かくする可能性がある等の問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、出射ビームの角度ずれを有
した半導体レーザでも損失を少なくするための有効な光
軸調整装置を提供するものである。
した半導体レーザでも損失を少なくするための有効な光
軸調整装置を提供するものである。
問題点を解決するだめの手段
上記問題点を解決するために本発明の光ヘッドの光軸調
整装置は、放射光源を整形する整形プリズム系を移動さ
せることによって光学系から出射される光ビーム光軸と
光の分布を一致させる構成を備えたものである。
整装置は、放射光源を整形する整形プリズム系を移動さ
せることによって光学系から出射される光ビーム光軸と
光の分布を一致させる構成を備えたものである。
作 用
本発明は上記した構成によって光軸と光の分布の中心が
ずれた光学系でも整形プリズムの微動により光軸と光の
分布の中心が一致できることとなり半導体レーザの損失
も少なくてすみ、半導体レーザの寿命も長くすることが
できる。
ずれた光学系でも整形プリズムの微動により光軸と光の
分布の中心が一致できることとなり半導体レーザの損失
も少なくてすみ、半導体レーザの寿命も長くすることが
できる。
実施例
以下本発明の一実施例の光ヘッド光軸調整装置について
図面を参照しながら説明する。
図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の実施例における光ヘッド光軸調整装置
の基本的な構成図である。
の基本的な構成図である。
第１図において１は発光源の半導体レーザ、２はレーザ
光を略平行光にするコリメートレンズ、３はレーザのビ
ームパターンをだ円（第６図参照）から略円形に整形し
非点収差等を補正する整形プリズムである。以上のよう
に構成された光ヘッド光軸調整装置について第１図、第
２図、第３図、第４図を用いてその動作を説明する。
光を略平行光にするコリメートレンズ、３はレーザのビ
ームパターンをだ円（第６図参照）から略円形に整形し
非点収差等を補正する整形プリズムである。以上のよう
に構成された光ヘッド光軸調整装置について第１図、第
２図、第３図、第４図を用いてその動作を説明する。
第２図は本発明による実施例の平面図を表わすものであ
る。通常半導体レーザ１の最大強度方向のずれがない場
合、コリメートレンズ２を通過後整５ページ 形プリズム系３を通過偏光ビームスプリッタ−の中心に
ビームが入る。第３図において半導体レーザ１の最大強
度方向が００ずれが生じている場合コリメートレンズ２
に００ずれた角度で入射し、整形プリズムにもずれたま
ま入射する。整形プリズムを出射したビームは、ずれた
まま偏光ビームスプリッタ−に片寄った状態で入射する
。これでは光軸と光ビームの強度の中心が一致しなくな
る。
る。通常半導体レーザ１の最大強度方向のずれがない場
合、コリメートレンズ２を通過後整５ページ 形プリズム系３を通過偏光ビームスプリッタ−の中心に
ビームが入る。第３図において半導体レーザ１の最大強
度方向が００ずれが生じている場合コリメートレンズ２
に００ずれた角度で入射し、整形プリズムにもずれたま
ま入射する。整形プリズムを出射したビームは、ずれた
まま偏光ビームスプリッタ−に片寄った状態で入射する
。これでは光軸と光ビームの強度の中心が一致しなくな
る。
第４図において本発明の光軸調整装置ではθ０角度ずれ
を生じた半導体レーザのビームを整形プリズム系を９０
回転方向に移動させ偏光プリズムの中心部に入射させる
。その時整形プリズム系より出射した光ビームは整形プ
リズム系の中心部よりＸ方向にｉだけずれるので整形プ
リズム系をＸ方向に１のみ微動させ光軸とレーザの最大
強度方向を一致させることができ、レーザの効率を悪く
することがなくなりより大きな出力が必要でなくなるた
め半導体レーザの寿命をのばすことができる。
を生じた半導体レーザのビームを整形プリズム系を９０
回転方向に移動させ偏光プリズムの中心部に入射させる
。その時整形プリズム系より出射した光ビームは整形プ
リズム系の中心部よりＸ方向にｉだけずれるので整形プ
リズム系をＸ方向に１のみ微動させ光軸とレーザの最大
強度方向を一致させることができ、レーザの効率を悪く
することがなくなりより大きな出力が必要でなくなるた
め半導体レーザの寿命をのばすことができる。
発明の効果
以上のように本発明は光ビームの波面をＸ方向６ ペー
ジ に整形するプリズムをＸ方向に可動としかつＸＺ面内に
回転可能とする機構を設けたことにより、光軸と半導体
レーザの強度方向のずれた光学系でも光軸とレーザの強
度方向を一致させることができレーザの損失を少なくす
ることができ、より大きな出力を必要としないため半導
体レーザの寿命をのばすことができる。
ジ に整形するプリズムをＸ方向に可動としかつＸＺ面内に
回転可能とする機構を設けたことにより、光軸と半導体
レーザの強度方向のずれた光学系でも光軸とレーザの強
度方向を一致させることができレーザの損失を少なくす
ることができ、より大きな出力を必要としないため半導
体レーザの寿命をのばすことができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の実施例における光ヘッド光軸調整装置
の基本的な構成を示す分解斜視図、第２図はレーザのビ
ームに方向ずれかない場合の光軸を表わした光学系の平
面図、第３図はレーザのビーム方向に００のずれが生じ
た場合の光軸を表わした光学系の平面図、第４図はレー
ザのビーム方向がずれた光学系に本発明の光軸調整装置
を実施した場合の光軸を表わした光学系の平面図、第５
図は従来の光学式ヘッドの光学系の一例を示す断面図、
第６図は半導体レーザの一般的なビーム形状を示す模式
図、第７図は半導体レーザの出射ビームの強度分布が光
軸方向と一致していることを７ ページ 表わす模式図、第８図は半導体レーザの出射ビームの強
度分布が光軸方向からずれていることを表わす模式図、
第９図はＨｅ −Ｎｅ レーザを用いての光軸取りを示
した斜視図、第１Ｑ図は従来の半導体レーザを微動させ
ての光軸調整を示した斜視図である。 １・・・・・・半導体レーザ、２・・・・・・コリメー
トレンズ、３・・・・・・整形プリズム系、４・・・・
・・偏光ビームスプリッタ−１５・・・・・・％波長板
、６・・・・・・対物レンズ、７・・・・・・光ディス
ク、８・・・・・・単レンズ、９・・・・・・デテクタ
ー、１ｏ・・・・・Ｈｅ −Ｎｅ レーザの基準光源、
１１・・・・・・半導体レーザビームの強度分布方向、
１２・・・・・・光学台ケース、１３・・・・光学系の
光軸。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 九オ台ケース
の基本的な構成を示す分解斜視図、第２図はレーザのビ
ームに方向ずれかない場合の光軸を表わした光学系の平
面図、第３図はレーザのビーム方向に００のずれが生じ
た場合の光軸を表わした光学系の平面図、第４図はレー
ザのビーム方向がずれた光学系に本発明の光軸調整装置
を実施した場合の光軸を表わした光学系の平面図、第５
図は従来の光学式ヘッドの光学系の一例を示す断面図、
第６図は半導体レーザの一般的なビーム形状を示す模式
図、第７図は半導体レーザの出射ビームの強度分布が光
軸方向と一致していることを７ ページ 表わす模式図、第８図は半導体レーザの出射ビームの強
度分布が光軸方向からずれていることを表わす模式図、
第９図はＨｅ −Ｎｅ レーザを用いての光軸取りを示
した斜視図、第１Ｑ図は従来の半導体レーザを微動させ
ての光軸調整を示した斜視図である。 １・・・・・・半導体レーザ、２・・・・・・コリメー
トレンズ、３・・・・・・整形プリズム系、４・・・・
・・偏光ビームスプリッタ−１５・・・・・・％波長板
、６・・・・・・対物レンズ、７・・・・・・光ディス
ク、８・・・・・・単レンズ、９・・・・・・デテクタ
ー、１ｏ・・・・・Ｈｅ −Ｎｅ レーザの基準光源、
１１・・・・・・半導体レーザビームの強度分布方向、
１２・・・・・・光学台ケース、１３・・・・光学系の
光軸。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 九オ台ケース
Claims (1)
- 非点収差を有する放射光源と、この放射光源を略平行光
とするコリメート系と、このコリメート系を出射する光
ビームの波面を整形するプリズム系と、このプリズム系
を、光軸方向をＺ軸とする直交座標系において前記コリ
メート系を出射する光ビームの波面をＸ方向に整形可能
とし、前記プリズムをＸ方向に可動としかつＸＺ面内に
回転可能とさせた機構とから成る光ヘッド光軸調整装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61193332A JPS6350921A (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | 光ヘツド光軸調整装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61193332A JPS6350921A (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | 光ヘツド光軸調整装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6350921A true JPS6350921A (ja) | 1988-03-03 |
Family
ID=16306130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61193332A Pending JPS6350921A (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | 光ヘツド光軸調整装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6350921A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5202868A (en) * | 1989-05-24 | 1993-04-13 | Kyocera Corporation | Method of displacing a beam converging position and apparatus thereof |
| JP2002244058A (ja) * | 2001-02-16 | 2002-08-28 | Konica Corp | レーザ光走査装置 |
-
1986
- 1986-08-19 JP JP61193332A patent/JPS6350921A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5202868A (en) * | 1989-05-24 | 1993-04-13 | Kyocera Corporation | Method of displacing a beam converging position and apparatus thereof |
| JP2002244058A (ja) * | 2001-02-16 | 2002-08-28 | Konica Corp | レーザ光走査装置 |
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