JPS6351973B2

JPS6351973B2 -

Info

Publication number: JPS6351973B2
Application number: JP55024611A
Authority: JP
Inventors: Jei Arein Ronarudo; Pii Manisukaruko Josefu; Jii Bureisueito Deebitsudo
Original assignee: Nalco Chemical Co
Current assignee: ChampionX LLC
Priority date: 1979-03-01
Filing date: 1980-02-28
Publication date: 1988-10-17
Also published as: GB2043616B; SE8001587L; IT8048039A0; DE3007582A1; BR8001227A; GB2043616A; JPS55126535A; ES8102988A1; ZA801207B; BE881996A; NL8001211A; NO800560L; ES489103A0; FR2450231A1; CA1115931A; US4195071A; AU5606280A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、ポリエーテルを用いて無水塩化マグ
ネシウムを得る方法の改良方法に関する。更に詳
細には、本発明は米国特許第3983224号明細書
（特開昭52−10498号に相当）に記載された無水塩
化マグネシウムを得る方法の改良方法に関する。

マグネシウム金属を製造する方法の一つに、塩
化マグネシウムを含有する電解槽中で融解塩浴を
電気分解する方法がある。電解槽仕込み原料とし
て水和塩化マグネシウムを使用した場合、電解槽
の電気能率が減少する。又、水和塩化マグネシウ
ムは、スラツジを形成するマグネシウムの酸化物
を生じがちで、該スラツジを定期的に電解槽から
除去しなければならない。もし塩化マグネシウム
電解槽仕込み原料が完全に無水であるならば、卓
越した電解槽能率を達成することができる。従つ
て、完全に無水の塩化マグネシウムを、マグネシ
ウムを製造するのに使用される電解槽に仕込むこ
とが可能となつたならば、マグネシウム収率が改
良されることになる。

（従来の技術）米国特許第3983224号明細書に次の工程よりな
る無水塩化マグネシウムの製造法が記載されてい
る：即ち (a) 不純物として少量の水溶性の硫酸塩及びホウ
素化合物を含む水和塩化マグネシウムと；0.1
〜6.0重量％のMgCl₂のスラリーを作る量のテ
トラエチレングリコールジエチルエーテル（以
下「DETEG」と略記する事がある。）と；沸
点がDETEGよりも低くかつ前記スラリーから
水を除去するのに足る量の共沸剤と；を混合
し； (b) 該スラリーから水を蒸留し、該スラリー中に
前記水溶性の硫酸塩及びホウ素化合物を不溶性
不純物として含むDETEGのMgCl₂の無水溶液
を形成し； (c) 該不溶性不純物からMgCl₂溶液を分離し； (d) MgCl₂溶液に、存在するMgCl₂のモル当たり
3.0モルのエチレングリコールを添加して
MgCl₂・エチレングリコール（３モル）錯体沈
澱を生成させ； (e) DETEGから前記沈澱を分離し、かつ該沈澱
を回収し； (f) エチレングリコールに前記沈澱を溶解し、該
沈澱のエチレングリコール溶液を調製し（エチ
レングリコールは、１〜20重量％のMgCl₂を含
むエチレングリコールの溶液となるよう使用す
る）； (g) 前記MgCl₂のエチレングリコール溶液を−15
℃〜50℃の範囲内にした状態でアンモニアで処
理し、エチレングリコールに不溶性である
MgCl₂・アンモニア錯体を生成させ； (h) MgCl₂・アンモニア錯体をエチレングリコー
ルから分離し； (j) エチレングリコールよりも低沸点の極性溶媒
で前記MgCl₂・アンモニア錯体を洗い、
MgCl₂・アンモニア錯体に同伴されているエチ
レングリコールを除去し； (j) MgCl₂・アンモニア錯体を、アンモニアを駆
出するのに足る温度でアンモニアを除去するの
に足る時間にわたつて加熱して、無水塩化マグ
ネシウムを形成させ；ついで (k) 酸化マグネシウム含有量が0.8重量％未満で
かつ実質的に不純物を含まない無水塩化マグネ
シウムを回収する；各工程からなる製造法が記
載されている。

前記工程(a)では、DETEGを塩化マグネシウム
のための溶媒として使用されている。即ち、
DETEG無水塩化マグネシウム―DETEG溶液を
生じさせるために与えられる。前記工程(d)におい
ては、DETEGから塩化マグネシウムを抽出する
ためにエチレングリコールが使用される。該抽出
物の形態はエチレングリコールマグネシウム沈澱
物の形態である。該沈澱物を生成後、DETEGを
分析したところ、多量のエチレングリコールおよ
び塩化マグネシウムが残留することが見いだされ
た。

（発明が解決しようとする課題）従つて、前記米国特許第3983224号明細書に開
示されている無水塩化マグネシウムの製造法に
は、DETEGを用いてることによる、DETEGか
らエチレングリコールを除去する必要性が生じ、
全工程のコスト高となる等の欠点があつた。

前記米国特許第3983224号明細書に記載された
無水塩化マグネシウム製造法を改良すべく検討し
た結果、DETEGの代わりにテトラエチレングリ
コールジブチルエーテル（以下「DBTEG」と略
記することがある。）を使用するとDBTEG中に
エチレングリコールまたは塩化マグネシウムが残
留しないことが見いだされ、本発明を完成するに
至つた。

（課題を解決するための手段）従つて、本発明は、 (a) 不純物として少量の水溶性の硫酸塩及びホウ
素化合物を含む水和塩化マグネシウムと；0.1
〜6.0重量％のMgCl₂のスラリーを作る量の
DBTEGと；沸点がDBTEGよりも低くかつ前
記スラリーから水を除去するのに足る量の共沸
剤と；を混合し、 (b) 該スラリーから水を蒸留し、該スラリー中に
前記水溶性の硫酸塩及びホウ素化合物を不溶性
不純物として含むDBTEGのMgCl₂の無水溶液
を形成し； (c) 該不溶性不純物からMgCl₂溶液を分離し； (d) MgCl₂溶液に、MgCl₂・エチレングリコール
（３モル）錯体沈澱を生成させるのに足る量の
エチレングリコールを添加してMgCl₂・エチレ
ングリコール（３モル）錯体沈澱を生成させ； (e) DBTEGから前記沈澱を分離し、かつ該沈澱
を回収し； (f) エチレングリコールに前記沈澱を溶解し、該
沈澱のエチレングリコール溶液を調製し（エチ
レングリコールは、１〜20重量％のMgCl₂を含
むエチレングリコール溶液となるよう使用す
る）； (g) 前記MgCl₂のエチレングリコール溶液に−15
℃〜50℃の範囲内にした状態でアンモニアを加
え、エチレングリコールに不溶性である
MgCl₂・アンモニア錯体を生成させ； (h) MgCl₂・アンモニア錯体をエチレングリコー
ルから分離； (i) エチレングリコールよりも低沸点の極性溶媒
で前記MgCl₂・アンモニア錯体を洗い、
MgCl₂・アンモニア錯体に同伴されているエチ
レングリコールを除去し； (j) MgCl₂・アンモニア錯体を、アンモニアを駆
動するのに足る温度でアンモニアを除去するの
に足る時間にわたつて加熱して、無水塩化マグ
ネシウムを形成させ；ついで (k) 精製された無水塩化マグネシウムを回収す
る；各工程よりなる無水塩化マグネシウムの改良され
た製造法を提供するものである。

本発明を更に開示するために下記に個々の工程
の詳細な説明を記載する。

(a) ホウ素化合物及び硫酸塩水溶性不純物を含有
する水和塩化マグネシウムをDBTEG中に入れ
てDBTEG塩化マグネシウム水和物スラリーを
作る。DBTEGに溶解させる塩化マグネシウム
の量は溶液の3.0ないし6.0重量％（MgCl₂とし
て）の範囲内にあるのが本発明の実施に関して
は好ましいけれども、0.1〜6.0重量％の間で変
化させることができる。

本発明の実施で使用することになる最も普通
の水和物はMgCl₂・6H₂Oである。これは入手
することのできるる最も普通の形態であるが、
他の水和物を使用してもよいことは言うまでも
ない。公知の水和物の１つに６モル水和物を高
温でばい焼して生成される、いわゆる1.5モル
水和物がある。

工業的に生成される塩化マグネシウムはカル
シウム塩又はカリウム塩のような他の塩を含有
していることがよくある。このような混合物の
例はカーナライトであり、これは水を６モル含
有する塩化マグネシウムと塩化カリウムとの混
合物である。工業的な水和塩化マグネシウムと
共に存在することの多い塩は、それらを入手す
る供給源に左右されて変化する。

塩化マグネシウムブライン中に存在しうる他
の普通の不純物は、マグネシウム金属を製造す
るために無水塩化マグネシウムに電気化学的手
段を施す場合に能率の損失をもたらすことのあ
る硫酸ナトリウムのような水溶性硫酸塩及びホ
ウ砂等の水溶性ホウ素不純物を包含する。

本発明に使用する塩化マグネシウムブライン
は所望するように希釈あるいは濃縮することが
できる。同様に、本発明を施すことのできる塩
化マグネシウムの水和水のモル数は変化しても
よい。

MgCl₂・2H₂Oあるいは塩化マグネシウムの
水溶液と水とで開始してもよい。唯一の制限は
本発明の過程中に導入されるマグネシウムブラ
イン中に残つている水１モルに対して、共沸剤
を添加しなければならないし、又余分の水は除
去しなければならないことである。それ故、複
雑なあるいは費用のかかる乾燥工程を行わない
で合理的に許される程度に乾燥している塩化マ
グネシウム水和物を原料にして開始するのが本
発明での好ましい工程である。

次に水を除去するために塩化マグネシウム水
和物スラリー及びDBTEGに蒸留工程を施す。
この工程は水を蒸留するように大気圧又は減圧
で行うことができる。有機溶剤を含有している
ので温度をできるだけ低く維持するのが好まし
く、このために減圧下で水を蒸留するのが好ま
しい。

本発明の好ましい実施では、DBTEG中の水
和塩化マグネシウムスラリーに出発原料ブライ
ン中に存在する水の共沸蒸留を施す。塩化マグ
ネシウム及びDBTEGの溶液に添加する共沸剤
の量は出発原料水和塩化マグネシウムブライン
中に存在する水の量に基いて変化する。後の工
程で共沸剤を除去するコストのために、必要な
だけの少量の共沸剤を使用することが重要であ
る。適切な共沸剤は水と混合されれば水及び共
沸剤を含有する共沸混合物を生成し、且つ
DBTEGよりも低い沸点で沸騰する、水と混合
しないどの化合物をも包含する。適切な共沸剤
にはベンゼン、トルエン及びキシレンがある。
好ましい共沸剤はトルエンである。

必要な共沸剤の量は使用する塩化マグネシウ
ムブライン中に存在する水の量に正比例するけ
れども、一般に存在する水の量を基準にして共
沸剤を多少過剰にするべきである。一例とし
て、トルエンを使用する場合には、存在する水
１モルに対してトルエンンを約1.3モル
DBTEG溶液に添加するべきである。共沸剤の
一層大量又は一層少量でも達成しうるが、この
物質は再循環させるべきであるから過剰量を使
用しないことが推薦され、そして過剰量は蒸留
させるか、さもなければDBTEGから除去しな
ければならない。

(b) 水和塩化マグネシウムをDBTEGと混合し、
加熱して水和塩化マグネシウム中に含有される
水を蒸留する。この蒸留工程は減圧で行うのが
好ましく、且つ塩化マグネシウムの全部が
DBTEG中に容解されるまで継続するべきであ
り、これは一般に溶液が実質的に無水になるま
で起こらない。水が蒸留する正確な温度は、圧
力、溶剤の量及び選択された塩化マグネシウム
ブライン中の不純物に左右されるが、一般に
50゜ないし170℃の温度範囲で使用する。

本発明で水を除去する好ましい方法を実施す
る場合、すなわち水を共沸蒸留する場合には、
水和塩化マグネシウムをDBTEG及び共沸剤と
混合し、加熱して水和塩化マグネシウム中に含
有される水を蒸留する。この蒸留工程は塩化マ
グネシウム全部がDBTEGに溶解してしまうま
で継続するべきである。このことは一般に溶液
が実質的に無水になるまで起らない。少量の共
沸剤の存在は後の工程に有害ではないけれど
も、蒸留工程を継続してできるだけ多くの共沸
剤を除去するべきである。トルエン共沸混合物
を使用する場合には乾燥は150ないし170℃で行
う。当業界の熟達者にはわかることであるが、
共沸溶剤の選定は選択の問題であり、且つ共沸
混合物が蒸留する温度は当業界の熟達者はたや
すく決定することができる。

(c) 本発明の第三工程では、DBTEG中の可溶性
塩化マグネシウム溶液を、溶剤に溶解されない
物質から分離する。この不溶性混合物は、除去
される場合に、電解によるマグネシウム金属の
製造で好ましくない不純物である硫酸塩、塩化
物及びホウ素等価物を含有する。この分離は
過、遠心分離又は沈降のようなどんな公知の方
法で行うこともできる。集められた不溶性不純
物、ナトリウム、硫酸塩、ホウ砂などは廃棄す
るが、一方塩化マグネシウム及びDBTEGの溶
液は更に処理するために保管する。

(d) 本発明の第四工程ではDBTEG／MgCl₂溶液
に対してエチレングリコールを添加する。塩化
マグネシウム・３モルエチレングリコール錯体
は無水物質として溶液から沈澱する。この工程
では所望するだけのエチレングリコールを添加
することができる。塩化マグネシウム１モル当
り少なくとも2.5モルが付加されるような量と
すべきであり、塩化マグネシウム１モル当りエ
チレングリコール2.5ないし3.0モルを付加する
ことが好ましいことを見い出した。MgCl₂1モ
ル当りエチレングリコール３モルを付加するの
が最も好ましい。過剰のエチレングリコールを
添加するのは、それがDBTEG中に残されて、
本発明の第一工程に再循環されるという工程経
済上あまり好ましくない。

(e) 次に塩化マグネシウム―エチレングリコール
錯体沈澱を過又は遠心分離のような多くの公
知のいずれかの方法で再びDBTEGから分離す
る。DBTEGの液を採取して第一工程に再循
環させる。残つている沈澱は更に処理するため
に保管する。DBTEGはこの工程の液であ
り、もどしてそのままで再循環させる。水、エ
チレングリコール又は使用した共沸剤のわずか
なこん跡は本発明を妨害しないので、この物質
を更に精製する必要はない。DBTEGを再循環
させ、且つ工程(a)で共沸蒸留させる場合には
DBTEG中に残つているどんなエチレングリコ
ール、共沸剤又は水をも除去しうる。

(f) 次にMgCl₂／エチレングリコール錯体の沈澱
を可溶化するためにこの物質を過剰のエチレン
グリコールに溶解して１〜20重量％、好ましく
は２〜15重量％の溶液を作る。MgCl₂がエチレ
ングリコールに８〜12重量％溶解されているの
が最も好ましい。この物質はこの時点で無水で
あり、従つて、水蒸気は溶液に近づけるべきで
ない。

(g) 次に無水のエチレングリコール塩化マグネシ
ウム溶液を冷却して約−15〜50℃、好ましくは
０〜25℃の範囲内にする。この時点で溶液を無
水アンモニアで処理して、エチレングリコール
溶液中に存在する塩化マグネシウム１モル当り
アンモニアを少なくとも６モル、好ましくは少
なくとも９モル供給する。アンモニア添加は小
規模の実験室製造ではあるが比較的迅速にする
ことができ、アンモニア添加は１〜２時間の範
囲にわたる時間中に行うべきである。アンモニ
ア添加は熱溶液の処理で開始することができ、
こうして溶液を上記の所定の温度まで冷却する
のを助ける。

塩化マグネシウムエチレン溶液を所定の温度
まで冷却することによつてアンモニアは更にそ
れに可溶性になり、且つ少なくともアンモニア
６モルを添加してしまうまで沈澱が生成しない
ことを見い出した。ほとんどのアンモニアをグ
リコールに添加した後に、水分の全くない塩化
マグネシウムのアンモニア錯体である微細な白
色粒状の沈澱が生成し始める。この微細な沈澱
をエチレングリコールからたやすく分離するこ
とができ、次にこれに更に別の処理を施す。

(h) 沈澱した塩化マグネシウムアンモニア錯体は
デカンテーシヨン、過、遠心分離又はこのよ
うな手段の組合せのような任意の公知の方法で
グリコール溶液から分離する。もちろん、窒
素、アルゴンなどのようなガスによつて与えら
れることのできる水分の全くない雰囲気中で分
離を行うことが必要である。分離されたエチレ
ングリコールは再循環させてMgCl₂―アンモニ
ア錯体を作ることができ、あるいは更に精製す
ることなく錯体を溶解するのに使用することが
できる。

(i) 次に低沸点極性溶剤、例えばエチレングリコ
ールよりも低い沸点を有する溶剤で沈澱を洗浄
し、これで沈澱中に同伴されたエチレングリコ
ールを除去することができる。このような溶剤
にはメタノール又はエタノールがあり、メタノ
ールが好ましい。テトラヒドロフラン又はエチ
ルエーテルのような幾つかのエーテルを使用す
ることもできる。洗浄溶剤は沈澱の溶剤であつ
てはならない。

(j) グリコールを低沸点溶剤で抽出した後に、グ
リコールの全くない塩化マグネシウムアンモニ
ア錯体を、アンモニアを完全に除去するのに足
る時間の間、徐々に加熱して300〜400℃の範囲
内にし、これが完全に無水の塩化マグネシウム
を残留物として残す。大規模操作では、この加
熱処理工程で放出されたアンモニア並びに洗浄
溶液剤は再使用するために回収することができ
る。

(k) 上の工程の実施によつて、完全に水分がな
く、且つ0.8重量％以下の酸化マグネシウム含
有量を有する塩化マグネシウムを製造すること
ができる。たいていの場合、酸化マグネシウム
含有量は0.5％〜又は以下である。このように
して本方法から採取した塩化マグネシウムはマ
グネシウム金属製造用の優秀な電槽仕込み原料
を提供する。

本発明の例示のために下記の実施例を示す。

（実施例）かき混ぜ機、及び水分離装置の付けてある還流
冷却器を装着した３のフラスコに、不純物とし
てSO₄ ^--3％及びB525ppmを含有するMgCl₂・
2H₂O165ｇ、DBTEG2100ｇ及びトルエン300ｇ
を仕込んだ。トルエンが水を全部共沸除去する点
まで内容物を加熱し、温度を150ないし175℃とし
た。（系が無水になれば、MgCl₂がDBTEG中に
可溶化される。）不純物は大部分不溶性であつた。
混合物を熱時過した。沈澱を分析するにSO₄ ^--
及びＢは高濃度であつた。液を100℃以下に冷
却し、エチレングリコール235ｇを滴加した。生
成するMgCl₂・３（HOCH₂CH₂OH）錯体は不溶
性であり、且つ白色結晶性化合物として沈降し
た。MgCl₂／グリコール錯体を過してDBTEG
から除去した。この錯体に乾燥エチレングリコー
ル845ｇを添加した。錯体は溶解して、エチレン
グリコール中でMgCl₂10％の溶液を生じた。

得られた塩化マグネシウムのエチレングリコー
ル溶液を次に氷浴中で温度が15℃に達するまで冷
却した。次にこの冷却した反応フラスコに１時間
にわたつて無水アンモニア約190ｇを添加した。
添加を始めてから半時間後に、微細な粒状の沈澱
が生成し始め、約10分間生成し続けた。次に更に
10分間の間アンモニアを添加した。

エチレングリコール中の塩化マグネシウムアン
モニア錯体スラリーであるフラスコの内容物を次
にフラスコから取り出し、ブフナー漏斗に入れて
過した。これは湿気混入を防止するために、ブ
フナー漏斗をアンモニア雰囲気中に維持してなし
遂げた。過後に過ケーキをメタノール約600
mlで洗浄し、水切りをしておいた。次にこれを再
び更にメタノール150mlで再洗浄した。過ケー
キの分析では塩化マグネシウム約50.2％、アンモ
ニア約41.8％を含有し、水を含有していないこと
を示した。次にかき混ぜ機、ガス導入管及び排出
開口を備えた５の三口フラスコに、こうして形
成された錯体沈澱を入れた。フラスコの内容物の
温度を上げて250〜350℃の間にしながら、フラス
コの内容物を無水アンモニア水で洗い流した。こ
の時点でアンモニアの供給を止めて、アルゴンを
フラスコ内に供給した。次にフラスコを徐々に加
熱して400℃にした。この時間の終りに加熱を停
止し、フラスコの内容物を取り出して分析した。
分析では残つていた微細な白色粉末は酸化マグネ
シウムを0.35％含有する、完全に無水の塩化マグ
ネシウム99.65％であることを示した。又沈澱を
も分析して、SO₄が全くないことを見い出し、又
ホウ素の含有も15ppm以下であつた。

本発明の(a)工程において、米国特許第3983224
号に記載のDETEGの代わりに、DBTEGを使用
することにより、(d)工程においてDBTEGと塩化
マグネシウム・エチレングリコールとの間の奇麗
な分離が形成しうる。分析によると、DBTEG中
に、事実上、エチレングリコールまたは塩化マグ
ネシウムが残留物として残らなかつたことを示し
た。

以上説明したように、本発明方法ではMgCl₂用
溶媒としてDBTEGを使用することを特徴として
いる。DBTEGとエチレングリコールとの間の混
和性は極めて低いため工程(d)におけるMgCl₂・エ
チレングリコール（３モル）錯体の沈澱が迅速化
され、かつ工程(e)におけるDBTEGからの
MgCl₂・エチレングリコール（３モル）錯体沈澱
物の分離が容易かつ完全に行えるという利点がも
たらされる。

そこで、かかる高分離性の利点を示すため、別
に調製したMgCl₂試料を用いて工程(c)〜(f)を一括
して模擬する実験を下記の如く実施した。この結
果得られたDBTEG／エチレングリコール―塩化
マグネシウム二層の分析を行うことにより高分離
性が証明された。

（実験例） 30％塩化マグネシウムブライン60ｇを
DBTEG600ｇに加えた。これを724mm（28.5″）の
真空下で脱水し、過した。過後、エチレング
リコール120ｇ（塩化マグネシウム１モルに対し
てエチレングリコール10モルに相当）を、無水
DBTEG系に加えた。奇麗に分離した２層系が生
じた。DBTEG層には、塩化マグネシウムが存在
せず、エチレングリコールの含量が１％未満であ
つた。エチレングリコール―塩化マグネシウム層
中のDBTEGの含量は0.5％未満であつた。

従つて、大過剰のエチレングリコールを使用し
ても、DBTEG中に事実上エチレングリコールま
たは塩化マグネシウムが残留せず、本発明の方法
が米国特許第3983224号明細書記載の方法を改良
していることがわかる。

Claims

【特許請求の範囲】１ (a) 不純物として少量の水溶性の硫酸塩及び
ホウ素化合物を含む水和塩化マグネシウムと；
0.1〜6.0重量％のMgCl₂のスラリーを作る量の
テトラエチレングリコールジブチルエーテル
と；沸点がテトラエチレングリコールジブチル
エーテルよりも低くかつ前記スラリーから水を
除去するのに足る量の共沸剤と；を混合し； (b) 該スラリーから水を蒸留し、該スラリー中に
前記水溶性の硫酸塩及びホウ素化合物を不溶性
不純物として含むテトラエチレングリコールジ
ブチルエーテルのMgCl₂の無水溶液を形成し； (c) 該不溶性不純物からMgCl₂溶液を分離し； (d) MgCl₂溶液に、MgCl₂・エチレングリコール
（３モル）錯体沈殿を生成させるのに足る量の
エチレングリコールを添加してMgCl₂・エチレ
ングリコール（３モル）錯体沈澱を生成させ； (e) テトラエチレングリコールジブチルエーテル
から前記沈澱を分離し、かつ該沈澱を回収し； (f) エチレングリコールに前記沈澱を溶解し、該
沈澱のエチレングリコール溶液を調製し（エチ
レングリコールは１〜20重量％のMgCl₂を含む
エチレングリコール溶液となるよう使用す
る）； (g) 前記MgCl₂のエチレングリコール溶液に−15
℃〜50℃の範囲内にした状態でアンモニアを加
え、エチレングリコールに不溶性である
MgCl₂・アンモニア錯体を生成させ； (h) MgCl₂・アンモニア錯体をエチレングリコー
ルから分離し； (i) エチレングリコールよりも低沸点の極性溶媒
で前記MgCl₂・アンモニア錯体を洗い、
MgCl₂・アンモニア錯体に同伴されているエチ
レングリコールを除去し； (j) MgCl₂・アンモニア錯体を、アンモニアを駆
出するのに足る温度でアンモニアを除去するの
に足る時間にわたつて加熱して、無水塩化マグ
ネシウムを形成させ；ついで (k) 精製された無水塩化マグネシウムを回収す
る；各工程よりなる無水塩化マグネシウムの製造方
法。